公开(公告)号：CN103777474A

公开(公告)日：2014-05-07

申请号：CN201410076822.8

申请日：2014-03-04

申请人： 苏州大学

发明人： 浦东林 ,  胡进 ,  朱鹏飞 ,  魏国军 ,  袁晓峰 ,  陈林森

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 一种并行激光直写系统及光刻方法，通过设置两个或多个图形发生器，将不同的图形发生器按不同的角度放置，使得每个角度的斜线都能通过对应图形发生器中的水平或垂直直线像素进行显示，从而消除了原有的斜线上的锯齿现象，并保证了直线和斜线之间的线宽相等，提高了图形的线宽均匀性，使得光刻工艺的精度和品质得到改善。

公开(公告)号：CN103562755A

公开(公告)日：2014-02-05

申请号：CN201180071287.1

申请日：2011-05-31

申请人： 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 ,  苏州大学

发明人： 叶燕 ,  陈林森

IPC分类号： G02B5/26

CPC分类号： G02B5/26

摘要： 一种反射式彩色滤光片，包括介质光栅层（220）、金属层（230）和第一介质层（240）。金属层设置于介质光栅层的脊部、至少一个侧部和部分沟槽部之上。反射外部光线的第一介质层设置于介质光栅层和金属层上。由于部分介质光栅层通过金属层在沟槽部上的缺口露出，降低了共振输出的角度敏感性，减少了光线入射角度对共振条件的影响。从而在较宽的角度范围内都能实现反射滤光。

公开(公告)号：CN102591159B

公开(公告)日：2013-10-09

申请号：CN201210076397.3

申请日：2012-03-21

申请人： 苏州大学 ,  苏州苏大维格光电科技股份有限公司

发明人： 胡进 ,  浦东林 ,  陈林森

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 本发明公开了一种光学加工系统，包括加工平台、光学投影镜头、光学模板、中央控制系统、位置补偿系统和光源。其中，位置补偿系统包括位置检测系统、空间光调制器、位置信号处理模块和偏差筛选模块。本发明的光学加工系统中，加工平台实现第一运动轴的步进运动和第二运动轴的扫描运动，光学模板实现第三运动轴的扫描运动，通过空间光调制器对第二运动轴方向上的曝光位置进行动态补偿，实现了第二运动轴和第三运动轴这两个扫描轴的精确高速同步，从而能够以“两轴扫描、一轴步进”的方式实现三维加工，其加工效率和加工精度大幅提升。

公开(公告)号：CN103257156A

公开(公告)日：2013-08-21

申请号：CN201310178984.8

申请日：2013-05-15

申请人： 苏州大学

发明人： 王艳艳 ,  彭长四 ,  陈林森 ,  张锋 ,  元磊

IPC分类号： G01N27/00

摘要： 本发明属于传感器技术领域，公开了一种基于还原氧化石墨烯的气体传感器及其制备方法，首先将氧化石墨烯在混合溶剂中超声分散，形成单片分散的悬浮液，加入吡咯继续反应，得到还原氧化石墨烯的固体粉末，分散至有机溶剂中形成分散液，取分散液滴加到电极表面，真空干燥，从而得到基于还原氧化石墨烯的气体传感器；通过本发明的方法制备的还原氧化石墨烯气体传感器对氨气分子具有优异的传感性能，此制备方法工艺简单，适合于气体传感器的大量制备。

公开(公告)号：CN102798918A

公开(公告)日：2012-11-28

申请号：CN201110136699.0

申请日：2011-05-25

申请人： 苏州大学 ,  苏州苏大维格光电科技股份有限公司

发明人： 周云 ,  陈林森 ,  申溯 ,  叶燕 ,  浦东林 ,  周小红 ,  方宗豹 ,  张恒 ,  魏国军 ,  胡进

IPC分类号： G02B5/26 ,  G02B1/10

摘要： 本发明涉及一种反射式彩色滤光片。基底、高反金属层、共振腔层以及半反半透金属层。其中，共振腔层和半反半透金属层的交界面处为线栅结构，半反半透金属层覆盖在该线栅结构上，形成金属光栅，该金属光栅的周期小于400nm。通过调整线栅共振腔的厚度、线栅的占宽比、反射层2的厚度和覆盖层的厚度等参数，可以获得低角敏、带宽合适且旁带反射率低的反射式彩色滤光片，且可实现不同颜色的反射滤波。

公开(公告)号：CN102789021A

公开(公告)日：2012-11-21

申请号：CN201210319494.0

申请日：2012-08-31

申请人： 苏州大学 ,  苏州苏大维格光电科技股份有限公司

发明人： 周云 ,  陈林森 ,  叶燕 ,  申溯

IPC分类号： G02B5/26

摘要： 一种反射式彩色滤光片，包括三种颜色的像素阵列，每种颜色的像素结构包括基底、位于基底之上的金属层、位于金属层上的介质层以及位于介质层上的二维金属光栅层，所述金属层的厚度大于可见光在该金顺层内的趋肤深度，所述像素结构的表面等离子体共振频率为该像素颜色的补色光频率。该反射式滤光片基于减色原理进行滤光，不仅具有高光能利用率、低的角度敏感性，同时具有对偏振不敏感的特点。

公开(公告)号：CN101546004B

公开(公告)日：2012-10-24

申请号：CN200910031267.6

申请日：2009-04-30

申请人： 苏州大学 ,  苏州苏大维格光电科技股份有限公司

发明人： 叶燕 ,  陈林森 ,  周云 ,  浦东林 ,  张恒

IPC分类号： G02B5/20 ,  G02F1/1335 ,  G03F7/00

摘要： 本发明公开了一种彩色滤光片，主要由基板、黑色矩阵、彩色滤光层、保护膜和ITO导电膜组成，其特征在于：所述彩色滤光层为级联亚微米光栅，由二维亚微米级介质光栅和金属光栅级联构成，所述介质光栅位于近基板侧，介质材料的折射率大于1.65，所述金属光栅位于远离基板侧，同一位置的上、下两种光栅除光栅深度外的结构参数相同；通过不同的光栅结构参数获得不同颜色的光栅单元。本发明的彩色滤光片TE、TM偏振光下的透射光谱特性相同，光能利用率高，提高输出光的纯度，能进行超大幅面的制造，便于批量化生产，且便于设计为柔性可控的彩色滤光片。

公开(公告)号：CN102096318B

公开(公告)日：2012-05-23

申请号：CN201110009205.2

申请日：2011-01-17

申请人： 南京航空航天大学 ,  苏州大学

发明人： 于敏 ,  浦东林 ,  耿路峰 ,  陈林森 ,  戴振东

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/30 ,  G03F7/20

摘要： 一种激光直写技术制备多级结构微阵列的方法，属于激光微加工领域。阵列制备过程中，平面几何结构由输入计算机的平面图形决定，分辨率取决于光路中的缩微镜头倍数和纳米电机的精度，可达到0.3μm；基于实验得出的曝光深度与曝光时间的关系，显影深度与显影时间的关系，通过曝光时间和显影时间的调控来控制加工尺寸的深度。本发明无需掩膜，也无需光刻制模，大大降低了阵列的制备成本，本发明具有制备多级结构的可行性，且效率高，适合于工业化生产普及。

公开(公告)号：CN102418302A

公开(公告)日：2012-04-18

申请号：CN201110323728.4

申请日：2011-10-21

申请人： 苏州大学 ,  苏州苏大维格光电科技股份有限公司

发明人： 陈林森 ,  温源 ,  周小红 ,  魏国军 ,  浦东林 ,  胡进 ,  朱鹏飞 ,  刘晓宁 ,  杨颖 ,  申溯

IPC分类号： D21H21/48

摘要： 一种光学隐形水印安全纸。该安全纸利用亚波长光栅作为水印图像的像素点，使水印图像只有在掠射光入射时，才能在特殊的掠射角度下被观察到，既实现了反射性的光学水印、提高了光学水印的制作门槛，使水印图像的仿制难度大大增加，又简化了水印图像的可观察性，不需要使用额外的特殊工具就能在普通光源下看到。因此，本发明提出的具有光学隐形水印的安全纸具有广泛的应用领域。

公开(公告)号：CN101737707B

公开(公告)日：2012-01-11

申请号：CN200810235232.X

申请日：2008-11-12

申请人： 苏州维旺科技有限公司 ,  苏州大学

发明人： 申溯 ,  庄孝磊 ,  吴智华 ,  方宗豹 ,  周芳 ,  陈林森

IPC分类号： F21V5/00 ,  F21V5/04 ,  G02F1/13357

摘要： 本发明公开了一种背光模组用光扩散膜的制作方法，包括下列步骤：(1)在一基板的一侧表面制备具有粘性的固定层；(2)将微纳米结构尺寸的颗粒经所述固定层排布固定于所述基板表面；(3)将步骤(2)获得的带有表面微结构的基板作为电铸模板进行精密电铸，将微结构转移至电铸金属板上；(4)用步骤(3)获得的金属电铸片作为压印模板，经热压印或紫外压印至光扩散片材料上，制作获得光扩散片。本发明利用微纳米压印技术，在透明基材上压印微透镜结构，方法简单便捷，降低了扩散膜片制作成本，且特别适合制作超薄型结构，能有效减少背光模组的厚度，且具有良好的光学性能。