公开(公告)号：CN102096318B

公开(公告)日：2012-05-23

申请号：CN201110009205.2

申请日：2011-01-17

申请人： 南京航空航天大学 ,  苏州大学

发明人： 于敏 ,  浦东林 ,  耿路峰 ,  陈林森 ,  戴振东

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/30 ,  G03F7/20

摘要： 一种激光直写技术制备多级结构微阵列的方法，属于激光微加工领域。阵列制备过程中，平面几何结构由输入计算机的平面图形决定，分辨率取决于光路中的缩微镜头倍数和纳米电机的精度，可达到0.3μm；基于实验得出的曝光深度与曝光时间的关系，显影深度与显影时间的关系，通过曝光时间和显影时间的调控来控制加工尺寸的深度。本发明无需掩膜，也无需光刻制模，大大降低了阵列的制备成本，本发明具有制备多级结构的可行性，且效率高，适合于工业化生产普及。

公开(公告)号：CN102096318A

公开(公告)日：2011-06-15

申请号：CN201110009205.2

申请日：2011-01-17

申请人： 南京航空航天大学 ,  苏州大学

发明人： 于敏 ,  浦东林 ,  耿路峰 ,  陈林森 ,  戴振东

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/30 ,  G03F7/20

摘要： 一种激光直写技术制备多级结构微阵列的方法，属于激光微加工领域。阵列制备过程中，平面几何结构由输入计算机的平面图形决定，分辨率取决于光路中的缩微镜头倍数和纳米电机的精度，可达到0.3μm；基于实验得出的曝光深度与曝光时间的关系，显影深度与显影时间的关系，通过曝光时间和显影时间的调控来控制加工尺寸的深度。本发明无需掩膜，也无需光刻制模，大大降低了阵列的制备成本，本发明具有制备多级结构的可行性，且效率高，适合于工业化生产普及。