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公开(公告)号：CN109475281B
公开(公告)日：2021-08-20
申请号：CN201780042871.1
申请日：2017-09-01
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 福田雅明
Abstract: 一种电子内窥镜系统，具备：照射单元，对被摄体依次照射光谱不同的多种照射光；图像信号生成单元，依次拍摄被依次照射有多种照射光的被摄体，并生成通过各照射光照射的被摄体的各系统的图像信号；存储单元，预先存储有规定的校正值；以及分光图像生成单元，基于通过图像信号生成单元生成的各系统的图像信号中的至少两个系统的图像信号来生成分光图像。分光图像生成单元在基于至少两个系统的图像信号来生成分光图像时，基于预先存储在存储单元中的校正值来校正该至少两个系统的图像信号中的至少一个系统的图像信号。
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公开(公告)号：CN109068966B
公开(公告)日：2021-08-17
申请号：CN201780026729.8
申请日：2017-08-25
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 林佳宏
Abstract: 一种电子内窥镜用处理器及电子内窥镜系统。电子内窥镜系统的、对使用拍摄元件拍摄到的被拍摄体的图像信号进行处理的电子内窥镜用处理器具备：照明光切换单元，将向被拍摄体照射的照明光在第一照明光和第二照明光之间交替切换；以及拍摄元件控制单元，对拍摄元件的曝光时间及电荷的读出定时进行控制。所述拍摄元件控制单元基于第一照明光的每单位时间的光束的时间积分量R1以及第二照明光的每单位时间的光束的时间积分量R2，对向被拍摄体照射第一照明光时的拍摄元件的曝光时间T1以及向被拍摄体照射第二照明光时的拍摄元件的曝光时间T2进行控制。
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公开(公告)号：CN113242995A
公开(公告)日：2021-08-10
申请号：CN201980084509.X
申请日：2019-12-10
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明提供一种具备相移膜的掩模坯料，该相移膜兼具使ArF曝光光以给定的透射率透过的功能、和产生给定的相位差的功能，并且该相移膜可以抑制伴随着热膨胀的图案的错位。所述相移膜具有使ArF准分子激光的曝光光以15％以上的透射率透过的功能、和产生150度以上且210度以下的相位差的功能，该相移膜由含有非金属元素和硅的材料形成，包含依次层叠有第1层、第2层及第3层的结构，将第1层、第2层及第3层在曝光光的波长下的折射率分别设为n1、n2、n3时，满足n1＞n2及n2＜n3的关系，将第1层、第2层及第3层在曝光光的波长下的消光系数分别设为k1、k2、k3时，满足k1＞k2及k2＜k3的关系，将第1层及第3层的膜厚分别设为d1、d3时，满足0.5≤d1/d3＜1的关系。
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公开(公告)号：CN107229181B
公开(公告)日：2021-07-20
申请号：CN201710172915.4
申请日：2017-03-22
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明提供一种相移掩模坯板，抑制制作相移掩模时的蚀刻液的消耗量，且用于得到精细且高精度的图案和不产生凹缺陷的相移掩模。相移掩模坯板(10)在透明基板(11)上将相移膜(12)、蚀刻阻止膜(13)、遮光膜(14)依次形成，相移膜(12)由含有铬和选自氧、氮、碳、氟中的至少一种的铬化合物构成，蚀刻阻止膜(13)由含有金属和硅的金属硅化物构成，相移膜(12)和遮光膜(14)是能够用同一蚀刻液A进行蚀刻的材料，且调整为蚀刻液A对遮光膜(14)的湿法蚀刻速度比蚀刻液A对相移膜(12)的湿法蚀刻速度更快，蚀刻阻止膜(13)是对于遮光膜(14)的蚀刻液A具有耐蚀刻性的材料，且调整蚀刻阻止膜(13)的膜厚、材料、组成比，以使蚀刻阻止膜(13)被能够蚀刻蚀刻阻止膜(13)的蚀刻液B剥离为止所需的时间成为15分钟以下。
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公开(公告)号：CN109310303B
公开(公告)日：2021-07-16
申请号：CN201780035283.5
申请日：2017-08-30
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 一种电子内窥镜处理器，由下列单元构成：转换单元，将构成由n(n≥3)种颜色分量组成的体腔内的生物体组织的彩色图像的各个像素数据转换为由小于n种的m(m≥2)种颜色分量组成的像素数据；颜色分量校正单元，使用预定的颜色分量校正系数校正由转换的m种颜色分量组成的像素数据；获取单元，基于由校正的m种颜色分量组成的像素数据，获取对目标疾病的评价结果。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109290230B
公开(公告)日：2021-07-09
申请号：CN201810802258.1
申请日：2018-07-20
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 宅岛克宏
Abstract: 基板处理装置和处理方法、光掩模清洗方法和制造方法，使基板的背面朝上用擦洗部件等进行清洗的情况下，清洗液回绕使异物回绕到膜面侧，在膜面的清洗中无法去除干净的异物数量增加。一种基板处理装置，利用处理液对基板的朝下的面进行处理，具有：支承部件，使基板的主为水平的状态下，从朝下的面侧支承基板；夹持部件，从相对的2个方向夹持被支承部件支承的基板的外缘部的一部分，保持基板；驱动单元，为使被夹持部件保持的基板从支承部件分离，使支承部件和夹持部件的至少一方在铅直方向移动；擦洗移动单元，在通过分离形成的空间内使擦洗部件与基板的朝下的面接触同时，使擦洗部件沿着基板的朝下的面移动；处理液供给单元，向基板的朝下的面供给处理液。
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公开(公告)号：CN109526202B
公开(公告)日：2021-06-29
申请号：CN201780000875.3
申请日：2017-07-18
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 牧野贵雄
Abstract: 提供一种即便是在拍摄环境产生了变动的情况下也能进行充分的降噪处理来获得高品质的内窥镜观察图像的图像处理装置以及电子内窥镜系统。降噪处理部(24a)从构成内窥镜观察图像的多个像素中设定目标像素和周边像素，并根据目标像素和周边像素的像素值的差分与基准阈值的大小关系来执行目标像素的降噪处理。基准阈值变动处理部(24b)基于目标像素所包含的至少两种颜色成分的比例，使在降噪处理中使用的基准阈值变动。
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公开(公告)号：CN112888356A
公开(公告)日：2021-06-01
申请号：CN202080005742.7
申请日：2020-04-10
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 电子内窥镜系统具备评估值计算部、判定部和典型值决定部。评估值计算部构成为，求出用于表示在沿器官内区域的纵深方向延伸的预定区间内进行拍摄的多个图像各自的活组织的病变程度的评估值。判定部构成为，根据所述评估值的偏差程度，来判断在所述区间内的病变程度是否发生变化。典型值决定部构成为，在判断为病变程度发生变化的情况下和判断为没有发生变化的情况下，通过不同的方法来确定代表所述评估值的所述区间的典型值。
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公开(公告)号：CN107402496B
公开(公告)日：2021-05-11
申请号：CN201710333361.1
申请日：2017-05-12
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 山口昇
Abstract: 本发明提供光掩模的制造方法、光掩模及显示装置的制造方法，实现图案的CD精度及坐标精度良好的光掩模。在制造具有包括遮光部、半透光部及透光部的转印用图案的光掩模时，准备在透明基板(1)上层叠了半透光膜(2)、中间膜(3)及遮光膜(4)而成的光掩模坯体，通过蚀刻将成为遮光部的区域以外的区域的遮光膜(4)去除，然后形成抗蚀剂膜(6)。接着，对抗蚀剂膜(6)进行描画及显影而形成了抗蚀剂图案(6a)，然后通过蚀刻将半透光膜(2)去除。半透光膜(2)和遮光膜(4)都由Cr类材料形成，在将与透光部及半透光部分别相邻的遮光部设为中间遮光部时，在抗蚀剂图案形成工序中形成具有开口的抗蚀剂图案(6a)，该开口的尺寸相对于与中间遮光部相邻的透光部的设计尺寸A(μm)，在与中间遮光部相邻的边缘侧每一侧增加了裕量α(μm)。
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公开(公告)号：CN112740106A
公开(公告)日：2021-04-30
申请号：CN201980061510.0
申请日：2019-09-10
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G03F1/32 , G03F1/80 , H01L21/3065
Abstract: 本发明提供一种具备蚀刻停止膜(1)的掩模坯料(100)，该蚀刻停止膜(1)对于在将相移膜(3)进行图案化时使用的利用氟类气体的干法蚀刻的耐性高，进而对于曝光光的透射率高。所述掩模坯料(100)具备在透光性基板(1)上依次层叠有蚀刻停止膜(2)和相移膜(3)的结构，相移膜(3)由含有硅的材料形成，蚀刻停止膜(2)由含有铪、铝及氧的材料形成，蚀刻停止膜(2)的氧缺失率为6.4％以下。
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