-
公开(公告)号：CN113533806A
公开(公告)日：2021-10-22
申请号：CN202110396283.6
申请日：2021-04-13
Applicant: 株式会社昭和真空
IPC: G01R1/073
Abstract: 提供一种可以取得具有稳定的再现性的电子部件的检查结果，直流电阻、高频电感等变动较小，能够应对小型窄间距化，不污染检查空间的高寿命的探针单元。用于电子部件的检查的探针单元(1)具有探针(20)和支架(10)，探针(20)具有沿着中心线伸缩的螺旋弹簧(21)和与螺旋弹簧(21)一体成型，从螺旋弹簧(21)的一端部与螺旋弹簧(21)的中心线平行地延伸的销(22)，支架(10)收容探针(20)，具有与电子部件对置的底面(1a)，销(22)的前端在探针(20)被收容的状态下从底面(1a)突出。
-
公开(公告)号：CN107267959B
公开(公告)日：2020-12-15
申请号：CN201710192799.2
申请日：2017-03-28
Applicant: 株式会社昭和真空
Inventor： 吉田武史
IPC: C23C16/455
Abstract: 本发明提供能够减少向压力传感器附着的成膜物质，延长压力传感器的寿命的成膜装置及成膜方法。原料气体供给部用于成膜处理，向成膜室(10)供给含有成膜成分的原料气体，第二气体配管(90)用于成膜处理，将与原料气体不同的处理气体从蓄存该处理气体的处理气体蓄存部向成膜室(10)供给。对成膜室(10)的内部的压力进行测量的压力传感器(50)安装于第二气体配管(90)。控制部在从原料气体供给部向成膜室(10)供给原料气体期间，以使处理气体在第二气体配管(90)中流动而从处理气体蓄存部向成膜室(10)供给的方式进行控制。
-
公开(公告)号：CN103594566B
公开(公告)日：2017-12-15
申请号：CN201310343931.7
申请日：2013-08-08
Applicant: 株式会社昭和真空
IPC: H01L33/00
CPC classification number: H01L2224/48247 , H01L2224/48257 , H01L2224/49107 , H01L2224/78301 , H01L2224/85181 , H01L2224/8592 , H01L2924/00014
Abstract: 本发明的发光装置是具有发出蓝色光的LED元件和发出红色及绿色荧光的荧光体的白色LED发光装置。LED元件被分散有荧光体的封固树脂所封固。其周围被透明树脂所封固，具有炮弹型形状。在透明树脂的表面上形成有透明膜，该透明膜具有透光性且反射混合光中的蓝色成分的一部分。
-
公开(公告)号：CN1946871B
公开(公告)日：2012-06-20
申请号：CN200580013068.2
申请日：2005-01-24
Applicant: 株式会社昭和真空
CPC classification number: C23C14/22 , F25D23/061
Abstract: 在真空蒸镀等成膜中使用的真空槽的致冷剂路径的构成中，通过减少冷却管的使用量缩短施工期间，通过缩短致冷剂路径抑制致冷剂流量的下降，其中，在包括被槽壁覆盖的槽、配置在槽内部的内部机构或配置在槽外部的外部机构、和用于冷却内部机构或外部机构的至少一个以上的致冷剂路径的装置中，其构成为，致冷剂路径的至少一部分形成槽壁的一部分。
-
公开(公告)号：CN1946869B
公开(公告)日：2011-09-14
申请号：CN200580012669.1
申请日：2005-01-24
Applicant: 株式会社昭和真空
CPC classification number: C23C14/505 , C23C14/32 , H01J37/023 , H01J37/24 , H01J37/3053 , H01J2237/024 , H01J2237/3137 , H01R39/381 , H01R39/64
Abstract: 改进排列在真空室内的旋转电极和接触该旋转电极以便向其提供电功率的电源装置间的接触状态。真空设备具有真空室、排列在真空室内并与真空室电绝缘的旋转电极，以及接触旋转电极以便向其提供电功率的电源装置，其中，旋转电极具有环形形状以及相对于环形形状的中心轴水平旋转，以及电源装置由电极构件组成，以及电极构件和旋转电极在至少一个接触面彼此接触。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1977066A
公开(公告)日：2007-06-06
申请号：CN200580013199.0
申请日：2005-01-24
Applicant: 株式会社昭和真空
IPC: C23C14/24
CPC classification number: C23C14/505 , C23C14/044
Abstract: 抑制因在基板拱顶内成膜过程中的热膨胀和转动而引起的离心力，使配置在基板拱顶上的基板上的膜厚分布精度下降。在包括真空槽和搭载了成膜基板并与真空槽底部相向设置的基板拱顶的真空装置中，形成由钛或钛合金构成的材料的基板拱顶。
-
公开(公告)号：CN1946873A
公开(公告)日：2007-04-11
申请号：CN200580013193.3
申请日：2005-01-24
Applicant: 株式会社昭和真空
IPC: C23C14/50
CPC classification number: C23C14/505
Abstract: 提供一种在有限的空间内也能效率良好地进行转动机构的装配分解且维修性和作业性优良的真空装置。而且，由于防止基板拱顶的径向振动，防止由轴承产生的粉尘而引起污染，因而通过转动机构的薄型化使成膜精度提高。在由真空槽、固定在该真空槽内部的基座、安装在该基座上的转动机构以及搭载了成膜基板且通过转动机构而水平转动的基板拱顶组成的真空装置中，该转动机构形成可以沿着该真空槽底面方向从该基座进行拆装的结构。
-
公开(公告)号：CN1946869A
公开(公告)日：2007-04-11
申请号：CN200580012669.1
申请日：2005-01-24
Applicant: 株式会社昭和真空
CPC classification number: C23C14/505 , C23C14/32 , H01J37/023 , H01J37/24 , H01J37/3053 , H01J2237/024 , H01J2237/3137 , H01R39/381 , H01R39/64
Abstract: 改进排列在真空室内的旋转电极和接触该旋转电极以便向其提供电功率的电源装置间的接触状态。真空设备具有真空室、排列在真空室内并与真空室电绝缘的旋转电极，以及接触旋转电极以便向其提供电功率的电源装置，其中，旋转电极具有环形形状以及相对于环形形状的中心轴水平旋转，以及电源装置由电极构件组成，以及电极构件和旋转电极在至少一个接触面彼此接触。
-
-
公开(公告)号：CN113373411A
公开(公告)日：2021-09-10
申请号：CN202110255176.1
申请日：2021-03-09
Abstract: 提供一种能够在确保蒸发的蒸镀材料的指向性的同时保持较高的成膜速率的蒸镀源单元、蒸镀源和蒸镀源用喷嘴。蒸镀源单元(1)是一种使蒸镀材料蒸镀到基板的表面上的蒸镀源单元(1)，其具有包括喷出口(21)的喷嘴(20)，所述喷出口(21)喷出加热的蒸镀材料，喷嘴(20)上形成有沿与该喷嘴(20)的延伸方向相同方向延伸的多个孔(20a)，该多个孔(20a)的一端部在喷出口(21)开口，孔(20a)的纵横比为2以上，孔(20a)的长度为分子的平均自由行程的1/5以下。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
35
records
(took 0.022 seconds)
