蒸镀装置和蒸镀方法
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103340013B

    公开(公告)日:2016-06-22

    申请号:CN201280007201.3

    申请日:2012-03-02

    摘要: 具备:蒸镀源(60),该蒸镀源(60)具备放出蒸镀颗粒(91)的多个蒸镀源开口(61);限制单元(80),该限制单元(80)具备多个限制开口(82);和蒸镀掩模(70),该蒸镀掩模(70)仅在分别通过多个限制开口的蒸镀颗粒到达的多个蒸镀区域(72)内形成有多个掩模开口(71)。多个蒸镀区域,沿与基板(10)的法线方向和基板的移动方向正交的第二方向,夹着蒸镀颗粒不到达的非蒸镀区域(73)配置。在沿基板的法线方向看时,相对于与第二方向平行的直线上的非蒸镀区域,在基板的移动方向上的不同位置,形成有蒸镀颗粒通过的掩模开口。由此,能够在基板上的期望的位置稳定地形成端缘的模糊被抑制的蒸镀覆膜。

    成膜装置及成膜方法
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103443324B

    公开(公告)日:2015-09-02

    申请号:CN201280015418.9

    申请日:2012-02-15

    发明人: 山本昌裕

    IPC分类号: C23C14/34 H05H1/24 H05H1/46

    摘要: 本发明的成膜装置包括:真空腔(100);基板保持件(5),该基板保持件(5)在真空腔(100)中保持基板(6);靶材(2),该靶材(2)保持有成膜材料,且具有相对于基板(6)的主面倾斜的主面;以及角度修正板(12),该角度修正板(12)在由将靶材(2)的主面的外周与基板的主面的外周相连的线段(31、32)包围的空间区域(30)之外,并设置成覆盖基板的主面的上部空间,从真空腔(100)的正面观察,将基板的主面上的任意点设作B,将靶材(2)的主面上的至少中央处的点设作C时,从各个点B开始的相对于将各个点B与点C相连的各线成45度的各线上,存在有角度修正板(12)的主面上的至少一部分,角度修正板(12)的主面上的其它部分在与靶材(2)相反一侧延伸。

    用于功能面涂覆的方法及装置

    公开(公告)号:CN102272345A

    公开(公告)日:2011-12-07

    申请号:CN200980154067.8

    申请日:2009-12-12

    IPC分类号: C23C14/04 C23C14/50

    摘要: 本发明涉及一种对具有对称齿形的构件的功能面、尤其是齿轮(1)的齿面(3)进行涂覆的方法和装置,包括向构件方向发射带电粒子形式的涂覆物质并且相对所述构件回转的涂覆源(2),根据本发明,以工艺上简单的方式实现了高质量的构件功能面涂覆,即,在构件(1)和涂覆源(2)之间的射束行程中横向于射束方向设置一个在功能面相对于射束方向缓斜定向的回转区域内将所述构件遮蔽而挡住涂覆射束的挡板(4)。