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公开(公告)号：CN1768346B
公开(公告)日：2010-11-17
申请号：CN200480008870.8
申请日：2004-03-31
申请人： CDM光学有限公司
发明人： 小爱德华·雷蒙德·道斯基 , 肯尼思·斯科特·库贝拉 , 艾伦·尤金·巴伦
IPC分类号： G06K9/00
CPC分类号： G02B27/0025 , G02B5/284 , G02B27/0012 , G06K9/00597
摘要： 提供一种用于降低来自中间媒介(52’)的成像系统的像差以及相关使用方法。该系统可为光学或基于任务的光学成像系统，包括例如相位掩模的光学器件(102)，用于将该系统的波前(55’)成像为中间图像，并将波前的相位改变，使得该系统的光学传递函数对于来自媒介的与聚焦有关的像差基本不会改变。检波器(106)检测进一步被解码器(108)处理的中间图像，去除来自光学器件的相位效应，并形成基本消除了像差的最终图像(110)。另外的系统可采用编码器，其将通过媒介传播的声波的波前编码，以使得该波前对于来自媒介的声学像差基本不会改变。对波前的成像和解码倒转了波前编码的效果，并且产生基本消除了像差的声音。
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公开(公告)号：CN101118317B
公开(公告)日：2010-11-03
申请号：CN200710136351.5
申请日：2003-02-27
申请人： CDM光学有限公司
发明人： 格雷戈里·爱德华·约翰逊 , 爱德华R·道斯基 , 阿什利K·梅肯 , 汉斯B·瓦奇
CPC分类号： G02B27/0025 , G02B27/46 , G06T5/002 , G06T5/003 , G06T2207/10024
摘要： 一种图像处理方法，包括步骤：对形成光学图像的波前进行波前编码；将光学图像转换为数据流；以及利用滤波器核心处理数据流以反向转换波前编码的作用并生成最终图像。例如，该组滤波器核心可以是一组简化的滤波器核心，或色彩专用的核心。本发明还披露了用于处理彩色图像的方法和系统，例如通过将色彩与空间信息分离到分离的信道中而进行处理。本发明的方法和系统可用于例如形成电子设备，其具有简化的光-机械装置、光-电子装置以及降低的处理复杂度或成本。
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公开(公告)号：CN101288013A
公开(公告)日：2008-10-15
申请号：CN200680037455.4
申请日：2006-09-19
申请人： CDM光学有限公司
发明人： 保罗·E·X·西尔韦拉 , 拉库马·纳拉岩斯瓦迈 , 罗伯特·H·考麦克 , 格雷戈里·E·约翰逊 , 小爱德华·R·道斯基
CPC分类号： G06K9/00597 , G02B26/06 , G02B27/0075
摘要： 一种基于任务的成像系统，其用于获得与任务中使用的场景相关的数据，所述成像系统包括：图像数据捕获装置，其用于(a)将来自所述场景的电磁能量的波前在空间频率范围上成像为中间图像，(b)修改所述波前的相位，(c)检测所述中间图像，以及(d)在所述空间频率范围上生成图像数据；以及图像数据处理装置，其用于处理所述图像数据并执行所述任务，所述图像捕获装置与所述图像数据处理装置协同工作，以使得在所述空间频率范围上，所述基于任务的成像系统的信噪比大于对所述波前不进行相位修改的基于任务的成像系统的信噪比。
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公开(公告)号：CN101052910A
公开(公告)日：2007-10-10
申请号：CN200580034581.X
申请日：2005-09-14
申请人： CDM光学有限公司
发明人： 小爱德华·雷蒙德·道斯基 , 肯尼思·斯科特·库贝拉 , 罗伯特·H·考麦克 , 保罗·E·X·西尔韦拉
摘要： 在一个实施方式中，一种低高度成像系统包括：一个或多个光学通道以及探测器阵列，所述多个光学通道中的每一个：(a)与所述探测器阵列中的至少一个关联，(b)具有一个或多个光学组件和限制性光线校正器，以及(c)被配置成将入射角较陡的场光线引导到所述至少一个探测器上。
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公开(公告)号：CN1650216A
公开(公告)日：2005-08-03
申请号：CN03809371.5
申请日：2003-02-27
申请人： CDM光学有限公司
发明人： 格雷戈里·爱德华·约翰逊 , 爱德华·R·道斯基 , 阿什利·K·梅肯 , 汉斯·B·瓦奇
CPC分类号： G02B27/0025 , G02B27/46 , G06T5/002 , G06T5/003 , G06T2207/10024
摘要： 一种图像处理方法，包括步骤：对形成光学图像的波前进行波前编码；将光学图像转换为数据流；以及利用滤波器核心处理数据流以反向转换波前编码的作用并生成最终图像。例如，该组滤波器核心可以是一组简化的滤波器核心，或色彩专用的核心。本发明还披露了用于处理彩色图像的方法和系统，例如通过将色彩与空间信息分离到分离的信道中而进行处理。本发明的方法和系统可用于例如形成电子设备，其具有简化的光－机械装置、光－电子装置以及降低的处理复杂度或成本。
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公开(公告)号：CN102007440B
公开(公告)日：2012-09-26
申请号：CN200980112946.4
申请日：2009-02-17
申请人： 全视CDM光学有限公司
发明人： 罗布·贝茨
CPC分类号： G02B27/0075 , G02B13/18
摘要： 系统和方法包括成像光学器件，所述成像光学器件包括一个或多个光学元件，用于修改入射到其上的电磁能量的波前。通过穿过所述光学元件的传输被修改的所述波前显示出非单调的波前相位轮廓。所述成像光学器件由在散焦范围内基本不变的调制传递函数表征。所述系统可选地包括探测器，用于接收来自所述成像光学器件的电磁能量。在光学成像系统中，在散焦范围内保持调制传递不变性的方法包括：修改入射到所述光学成像系统的电磁能量的波前，使得所述波前显示出非单调的波前相位轮廓并且具有在散焦范围内基本不变的调制传递函数。
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公开(公告)号：CN101473439A
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：CN200780022655.7
申请日：2007-04-17
申请人： 全视CDM光学有限公司
发明人： 爱德华·R·道斯基 , 米奥德拉戈·瑟帕诺维科 , 立原悟 , 克里斯托弗·J·利纳恩 , 丹尼斯·W·多波斯 , 里吉斯·S·凡 , 肯尼思·S·库贝拉 , 保罗·E·X·西尔韦拉 , 乔治·C·巴恩斯四世 , 乌拉蒂斯拉夫·V·丘马申科 , 马克·A·迈罗尼 , 布赖恩·T·舍瓦兹 , 迈克尔·海波 , 肯尼斯·阿什利·梅肯 , 约翰·J·梅德尔 , 戈兰·M·劳克 , 格雷戈里·E·约翰逊 , 罗伯特·H·考麦克 , 尹佳·塔马攸 , 唐纳德·库姆博斯 , 加里·L·度尔克森 , 霍华德·E·弗德斯 , 詹姆士·何
IPC分类号： H01L27/146 , B24B49/12 , B24B13/06 , G02B3/00
摘要： 本发明涉及一种阵列成像系统，其包括在公共基底上形成的探测器阵列和第一叠层光学元件阵列，每一个所述叠层光学元件光学连接至所述探测器阵列中的探测器。
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公开(公告)号：CN100508074C
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：CN200480014933.0
申请日：2004-06-01
申请人： CDM光学有限公司
发明人： 小爱德华·雷蒙德·道斯基 , 格雷戈里·E·约翰逊 , 肯尼思·斯科特·库贝拉 , 小托马斯·卡斯·韦德
IPC分类号： G21G5/00
CPC分类号： G03F7/705 , G02B27/0025 , G03F1/36 , G03F7/70125 , G03F7/70308
摘要： 一种具有扩展的聚焦深度光刻系统对涂布在晶片上的光刻胶进行曝光，所述光刻系统包括：照明子系统；光掩模；以及成像透镜，它具有光瞳面函数以形成所述光掩模的空间图像，所述空间图像邻近于所述光刻胶。所述光瞳面函数提供了扩展的聚焦深度，以使所述系统可在放松的允许偏差、减少的成本和/或增加的处理能力下得到制造或使用。即便是存在聚焦不准或失准时，也能够使用所述系统在集成线路中形成精确的通路。
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公开(公告)号：CN101443690A
公开(公告)日：2009-05-27
申请号：CN200780016990.6
申请日：2007-05-09
申请人： 全视CDM光学有限公司
发明人： 肯尼斯·阿什利·梅肯 , 乔尔·F·鲁特克沃斯基 , 米奥德拉戈·瑟帕诺维科 , 汉斯·布兰登·瓦奇 , 乌拉蒂斯拉夫·V·丘马申科
CPC分类号： G02B27/0025 , G02B13/14 , H04N5/217 , H04N5/33
摘要： 一种远红外成像系统包括实现预定相位修正的一个或多个光学元件、将该一个或多个光学元件形成的图像转换为电子数据的探测器、以及用于处理该电子数据的后置处理器。
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公开(公告)号：CN1802711A
公开(公告)日：2006-07-12
申请号：CN200480014933.0
申请日：2004-06-01
申请人： CDM光学有限公司
发明人： 小爱德华·雷蒙德·道斯基 , 格雷戈里·E·约翰逊 , 肯尼思·斯科特·库贝拉 , 小托马斯·卡斯·韦德
IPC分类号： G21G5/00
CPC分类号： G03F7/705 , G02B27/0025 , G03F1/36 , G03F7/70125 , G03F7/70308
摘要： 一种具有扩展的聚焦深度光刻系统对涂布在晶片上的光刻胶进行曝光，所述光刻系统包括：照明子系统；光掩模；以及成像透镜，它具有光瞳面函数以形成所述光掩模的空间图像，所述空间图像邻近于所述光刻胶。所述光瞳面函数提供了扩展的聚焦深度，以使所述系统可在放松的允许偏差、减少的成本和/或增加的处理能力下得到制造或使用。即便是存在聚焦不准或失准时，也能够使用所述系统在集成线路中形成精确的通路。
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