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公开(公告)号：CN115122232A
公开(公告)日：2022-09-30
申请号：CN202110332894.4
申请日：2021-03-29
申请人： 万华化学集团电子材料有限公司
IPC分类号： B24B37/24 , B24B37/22 , B24B37/26 , B24D18/00 , C09D175/04 , C09D7/61 , B05D7/24 , B05D7/04 , B05D1/38
摘要： 本发明提供了一种微孔聚氨酯抛光垫的制备方法、抛光垫及其应用，所述制备方法包括以下步骤：a)将水性聚氨酯树脂均匀涂布在缓冲层上，在烘箱中烘干，得到支撑层；b)将溶剂型聚氨酯树脂，黑色浆，表面活性剂及氟化碳纳米纤维溶于N，N‑二甲基甲酰胺溶液中配制成聚氨酯浆料；c)将聚氨酯浆料均匀涂布在支撑层上，在水中固化成型，水洗烘干后进行表面砂光及压纹沟槽然后粘贴背胶及离型层得到微孔聚氨酯抛光垫。本发明的方法制备得到的微孔聚氨酯抛光垫孔隙率高，孔径范围适中，孔结构致密不易产生缺陷，具有较高的抛光效率。
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公开(公告)号：CN115106931A
公开(公告)日：2022-09-27
申请号：CN202210719217.2
申请日：2022-06-23
申请人： 万华化学集团电子材料有限公司
摘要： 本发明公开了一种具有迷宫形凹槽的化学机械抛光垫及其应用，所述抛光垫包括至少一抛光层，所述抛光层表面设有被隔离凸台分隔的不连续凹槽，所述不连续凹槽包括主凹槽和副凹槽，所述主凹槽以抛光垫中心为圆心呈不连续的同心圆分布，所述副凹槽将相邻的主凹槽相连，所述副凹槽和隔离凸台在所述主凹槽上分别均匀间隔分布，形成迷宫形不连续凹槽通道。本发明的抛光垫通过主凹槽、副凹槽和隔离凸台的交替排布增加抛光液在沟槽内的停留时间，延长抛光液流动路径，同时使碎屑能够及时排出，从而在降低抛光液消耗的条件下减少缺陷，并增加研磨平坦性。
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公开(公告)号：CN114952609A
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202210430544.6
申请日：2022-04-22
申请人： 万华化学集团电子材料有限公司
IPC分类号： B24B37/26 , B24B37/22 , B24B37/04 , B24B37/005 , B24B49/00
摘要： 本发明公开了一种新旧抛光液含比可控的CMP抛光垫、抛光方法及其应用，所述抛光垫的抛光层至少包含：1）在所述抛光垫径向以折线形式相连的径向抛光液传送沟槽，所述径向抛光液传送沟槽每间隔至少4个周向同心圆沟槽角度进行一次偏折，每次偏折后的径向抛光液传送沟槽的宽度变窄、深度变深；2）以相邻的两道径向抛光液传送沟槽为侧边的至少4个周向同心圆沟槽组成的扇形区域。本发明的抛光垫利用复合型沟槽中径向沟槽的角度偏折和宽深变化来控制新旧抛光液在周向同心圆沟槽中的含比，进而提升抛光效果。
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公开(公告)号：CN110977756B
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN201911375813.8
申请日：2019-12-27
申请人： 万华化学集团电子材料有限公司
IPC分类号： B24B37/24 , H01L21/306
摘要： 本发明提供一种化学机械抛光垫的抛光层及其应用，本发明提供的抛光层具备优异的弹性和耐水解性的同时，还具备更高的机械强度和耐磨性，使得抛光层的耐久性良好。所述抛光层通过异氰酸酯预聚物、固化剂和功能填料反应制得，所述异氰酸酯预聚物为采用包括二异氰酸酯、聚醚酯多元醇和任选的小分子多元醇的原料反应制得的预聚物；所述固化剂为二胺化合物与氯化钠的络合物在己二酸二辛酯中形成的分散液，其浓度为40wt％‑50wt％；所述功能填料为已膨胀聚合物空心微球。
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公开(公告)号：CN113246015A
公开(公告)日：2021-08-13
申请号：CN202110568446.4
申请日：2021-05-25
申请人： 万华化学集团电子材料有限公司
摘要： 本发明公开了一种具有终点检测窗的抛光垫及其应用，所述抛光垫至少包括抛光表面和终点检测窗，所述抛光表面至少具有第一及第二沟槽，所述第一沟槽是以抛光垫中心为圆心的同心圆或同心多边形形状，所述第二沟槽位于紧邻窗口与第一沟槽相交的两面处。本发明的具有终点检测窗的抛光垫能够避免抛光过程中对抛光晶圆的表面平整度的破坏，同时减少由于抛光窗口而造成的划伤。
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公开(公告)号：CN112318363A
公开(公告)日：2021-02-05
申请号：CN202011232817.3
申请日：2020-11-06
申请人： 万华化学集团电子材料有限公司
IPC分类号： B24B37/24
摘要： 本发明公开了一种用于化学机械抛光垫抛光层及其制备方法，其通过包含异氰酸酯预聚物、固化剂以及功能填料原料制备得到，预聚物是由二异氰酸酯和聚四氢呋喃多元醇分两步反应得到，固化剂组分是胺类交联剂，功能填料是已膨胀聚合物空心微球。由其制备的抛光层具有弹性模量随温度变化稳定、孔隙率高(微孔体积分数高)以及密度均匀的优点。
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公开(公告)号：CN115106931B
公开(公告)日：2024-08-20
申请号：CN202210719217.2
申请日：2022-06-23
申请人： 万华化学集团电子材料有限公司
摘要： 本发明公开了一种具有迷宫形凹槽的化学机械抛光垫及其应用，所述抛光垫包括至少一抛光层，所述抛光层表面设有被隔离凸台分隔的不连续凹槽，所述不连续凹槽包括主凹槽和副凹槽，所述主凹槽以抛光垫中心为圆心呈不连续的同心圆分布，所述副凹槽将相邻的主凹槽相连，所述副凹槽和隔离凸台在所述主凹槽上分别均匀间隔分布，形成迷宫形不连续凹槽通道。本发明的抛光垫通过主凹槽、副凹槽和隔离凸台的交替排布增加抛光液在沟槽内的停留时间，延长抛光液流动路径，同时使碎屑能够及时排出，从而在降低抛光液消耗的条件下减少缺陷，并增加研磨平坦性。
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公开(公告)号：CN114918824B
公开(公告)日：2024-08-20
申请号：CN202210754859.6
申请日：2022-06-29
申请人： 万华化学集团电子材料有限公司
IPC分类号： B24B37/26
摘要： 本发明公开了一种具有径向微沟槽的抛光垫，所述抛光垫包括抛光层，所述抛光层具有一旋转中心，以及与所述旋转中心同心的抛光轨迹区和环向沟槽，所述抛光轨迹区含有径向微沟槽，所述径向微沟槽的取向满足抛光时抛光介质的流型函数。本发明的抛光垫能够合理改变抛光介质在抛光垫上的停留时间，有效提升抛光速率的同时，能显著降低抛光时的终点温度，并能够提高片内和片间的均匀性。
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公开(公告)号：CN114952609B
公开(公告)日：2024-08-16
申请号：CN202210430544.6
申请日：2022-04-22
申请人： 万华化学集团电子材料有限公司
IPC分类号： B24B37/26 , B24B37/22 , B24B37/04 , B24B37/005 , B24B49/00
摘要： 本发明公开了一种新旧抛光液含比可控的CMP抛光垫、抛光方法及其应用，所述抛光垫的抛光层至少包含：1）在所述抛光垫径向以折线形式相连的径向抛光液传送沟槽，所述径向抛光液传送沟槽每间隔至少4个周向同心圆沟槽角度进行一次偏折，每次偏折后的径向抛光液传送沟槽的宽度变窄、深度变深；2）以相邻的两道径向抛光液传送沟槽为侧边的至少4个周向同心圆沟槽组成的扇形区域。本发明的抛光垫利用复合型沟槽中径向沟槽的角度偏折和宽深变化来控制新旧抛光液在周向同心圆沟槽中的含比，进而提升抛光效果。
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公开(公告)号：CN115816291A
公开(公告)日：2023-03-21
申请号：CN202211583964.4
申请日：2022-12-09
申请人： 万华化学集团电子材料有限公司
摘要： 本发明公开了一种具有改善抛光晶圆抛光后“边缘效应”缺陷的化学机械抛光垫的制备方法，通过在抛光层抛光轨迹区域下表面开设孔洞区，并对孔洞内部填充聚氨酯材料，固化后形成抛光层从而制得所述化学机械抛光垫。本发明还涉及制得的化学机械抛光垫及其在化学机械抛光中的应用。本发明的方法使抛光垫抛光轨迹区域物性发生改变，通过提高抛光轨迹中心区域抛光层的硬度来提高晶圆中心区域的研磨速率，以缓解“边缘效应”的产生。
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