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公开(公告)号：CN213419882U
公开(公告)日：2021-06-11
申请号：CN202022109479.6
申请日：2020-09-23
Applicant: 上海福宜真空设备有限公司
Abstract: 本实用新型特别涉及一种带水冷高真空用旋转轴密封装置，包括：轴，设置在带水冷高真空用旋转轴密封装置的中心位置；水冷轴承座，轴设置在水冷轴承座内；轴的一端穿出水冷轴承座；油封，设置在轴上，并将油封设置在水冷轴承座的内部；轴承，设置在轴上，轴承设置在水冷轴承座的内部；端部安装板，设置在水冷轴承座的一侧，并与水冷轴承座固定；本实用新型用于替换现有技术中的磁流体真空密封传动装置，解决常用的磁流体真空密封传动装置一旦损坏，存在磁流体真空密封传动装置直接报废，不能更换密封备件的技术问题，同时，需要高真空用旋转轴密封装置结构简单，造价低廉，通用性好等要求。
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公开(公告)号：CN209669345U
公开(公告)日：2019-11-22
申请号：CN201920091687.2
申请日：2019-01-21
Applicant: 上海福宜真空设备有限公司
IPC: C23C14/56
Abstract: 本实用新型公开了一种大型真空镀膜连续线腔体，包括进样室；中间阀门；第一缓冲室；镀膜室；第二缓冲室；在进样室的一端设置第一阀门；在进样室的另一端与中间阀门的一端进行连接；中间阀门的中间设置密封阀板；在中间阀门的另一端连接第一缓冲室的一端，在第一缓冲室的另一端连接镀膜室的一端；镀膜室的另一端连接第二缓冲室的一端，第二缓冲室设置第二阀门；在本实用新型中的技术效果在于，大型真空镀膜连续线腔体能够被应用于真空镀膜连续生产，满足真空镀膜连续生产对于镀膜腔体的要求。
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公开(公告)号：CN209669338U
公开(公告)日：2019-11-22
申请号：CN201920091961.6
申请日：2019-01-21
Applicant: 上海福宜真空设备有限公司
IPC: C23C14/32
Abstract: 本实用新型公开了一种工具镀膜腔体，其特征在于，包括镀膜腔体、底架、视窗接口、小弧源接口、主抽口、门上旋转多弧接口、腔体门；底架上设置镀膜腔体；在镀膜腔体的正面上设置若干个小弧源接口；小弧源接口呈若干排；小弧源接口列与列之间呈品字形排列；在小弧源接口之间设置视窗接口；在镀膜腔体的一侧设置若干个主抽口；在镀膜腔体的反面设置腔体门；在腔体门的下方设置若干个门上旋转多弧接口；在腔体门上同样设置若干个视窗接口；本实用新型的技术效果在于，利用在镀膜腔体上结构上的改变；改变了现有技术中镀膜有效区过窄的技术问题，提升了镀膜的效率，提升了镀膜产品的质量。
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公开(公告)号：CN209483000U
公开(公告)日：2019-10-11
申请号：CN201822247110.4
申请日：2018-12-28
Applicant: 上海福宜真空设备有限公司
Abstract: 本实用新型公开了一种小型真空腔体的上盖支撑结构，包括铰链装置、支座、支撑杆、固定板、上盖、把手、腔体、支撑螺栓、固定轴，在所述的腔体上通过铰链装置连接所述的上盖；在上盖的两侧各设置一固定板；在固定板上活动连接支撑杆的一端；支撑杆的另一端活动连接设置在腔体上的支座上，所述的支座设置在腔体圆弧状边缘上；在所述的上盖的前方设置一把手；在腔体的任意一侧连接固定轴；在固定轴上活动连接一支撑螺栓；本实用新型的技术效果在于，在腔体两个设置了防止上盖快速下落的缓冲装置，同时，还在腔体上面设置了支撑螺栓，用于支撑上盖，这样使得上盖能够缓缓下降，防止上盖或者腔体损坏同时，在取件时候，不容易造成人员伤害。
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公开(公告)号：CN207217214U
公开(公告)日：2018-04-10
申请号：CN201721135249.9
申请日：2017-09-06
Applicant: 上海福宜真空设备有限公司
IPC: H01F7/02
Abstract: 本实用新型公开了一种小弧源磁路结构，包括磁铁组件，主轴、密封组件、同步轮、平键、定位套环、主轴高度调节机构；磁铁组件的下方连接一主轴；主轴穿入密封组件；同步轮；其特征在于，主轴上设置第一键槽；第一键槽内设置一平键；平键嵌入到第一键槽和同步轮上开设的第二键槽组成的凹槽中；同步轮的下方设置一定位套环；在定位套环的下方设置一主轴高度调节机构；通过在主轴上设置一主轴高度调节机构，进行在磁路结构的远、近状态下的调节，在不影响小弧源磁路结构的转动的状况下，形成小弧源磁路结构高低调节，克服了单一的固定式的磁路结构无法调节磁路的远、近方向的技术问题，满足了镀膜产品对于磁路结构的要求。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN207178581U
公开(公告)日：2018-04-03
申请号：CN201721135323.7
申请日：2017-09-06
Applicant: 上海福宜真空设备有限公司
IPC: F16H1/02
Abstract: 本实用新型公开了一种滚筒的二级传动机构，在法兰的背面设置一电机；将电机穿过法兰，在法兰的前面设置一小齿轮；其特征在于，小齿轮与大齿轮啮合；在大齿轮中间设置一同心圆孔；在同心圆孔内设置若干个固定导轮；固定导轮设置在大齿轮第一同心圆上，大齿轮的同心圆孔边缘嵌入到固定导轮的凹槽中；在大齿轮同心圆孔的外侧开设若干个小圆孔；在小圆孔之间间隔设置若干个活动导轮；活动导轮设置在大齿轮的第二同心圆上；活动导轮上设置凹槽，在活动导轮的凹槽内嵌入一工字型连接法兰；解决了在滚筒上料、取料过程中，由于齿轮机构依然与滚筒等部件相连接，转动滚筒非常费力，使得在滚筒的手动状态下无法实现转动的技术问题。
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公开(公告)号：CN207176063U
公开(公告)日：2018-04-03
申请号：CN201721134500.X
申请日：2017-09-06
Applicant: 上海福宜真空设备有限公司
IPC: C23C14/34
Abstract: 本实用新型公开了一种全拆卸式旋转靶用挡板，其特征在于，包括外挡板、内挡板、内挡板的驱动部件；外挡板固定在真空腔室上；内挡板设置在外挡板的内部；内挡板的下方设置一内挡板的驱动部件；所述内挡板的驱动部件带动内挡板呈正、反向开关；利用内挡板的驱动部件带动内挡板呈正、反向开关，实现了内挡板在0-180°的位置进行调整，从而达到了控制靶向装置的靶向的方向、强度，同时避免了在调节和拆卸都需要停机的状况。
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公开(公告)号：CN207176060U
公开(公告)日：2018-04-03
申请号：CN201721135321.8
申请日：2017-09-06
Applicant: 上海福宜真空设备有限公司
IPC: C23C14/32
Abstract: 本实用新型公开了一种磁场高度可调节的矩形大弧源，包括法兰式框架、靶材、磁路组件、水冷靶座；在法兰式框架的内部设置水冷靶座、在水冷靶座的上方设置靶材；其特征在于，在水冷靶座的内部、在靶材的下方设置第一空腔；在第一空腔内设置一磁路组件，磁路组件的下方设置一调节装置；磁路组件在第一空腔内上、下调节；解决了现有的多弧离子镀膜一般都采用多排小弧源并列的安装模式或线圈激励的单个矩形弧源的方式，满足了镀膜产品对于磁路结构的要求。
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公开(公告)号：CN205556761U
公开(公告)日：2016-09-07
申请号：CN201620261204.5
申请日：2016-03-31
Applicant: 上海福宜真空设备有限公司
IPC: C23C14/00
Abstract: 本实用新型公开了一种可供镀膜设备使用的滚筒，包括上半体和下半体，其中，上半体包括第一侧面、第二侧面、第三侧面、第四侧面、第五侧面和第六侧面，下半体包括第七侧面、第八侧面、第九侧面、第十侧面、第十一侧面和第十二侧面，其中上半体的前述六个侧面与下半体的六个侧面交错相邻设置。通过上半体的六个侧面与下半体的六个侧面通过无缝焊接交错设置。使用本滚筒镀膜时，样品在滚筒内部分布均匀，处于“S”型曲线运动状态；样品可以沿滚筒拼接处翻滚，消除了叶片式滚筒的样品掉落时的碰撞，保证膜层质量。
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公开(公告)号：CN209357691U
公开(公告)日：2019-09-06
申请号：CN201822247087.9
申请日：2018-12-28
Applicant: 上海福宜真空设备有限公司
IPC: H01J37/32
Abstract: 本实用新型公开了一种新型离子源，包括底法兰、壳法兰、阴极法兰、绝缘套管、放电柱、进气装置、离子发生装置；底法兰的四周固定壳法兰；在壳法兰的顶部固定阴极法兰；在阴极法兰的顶部设置若干个放电柱安装孔；在放电柱安装孔内设置放电柱；进气装置设置在底法兰的圆心位置；进气装置穿过底法兰；穿入离子发生装置中并固定；进气装置与离子发生装置之间设置绝缘套管隔离；利用了利用了本实用新型在结构上的改变，将阴极从单个零部件变成均布的几个点，使得发射的离子从以往的跑道形式变成整个面，这样的离子束流不仅密度大，均匀性好，方向性也强。同时由于轴向磁场的作用，离子能量也更高。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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