公开(公告)号：CN105934338A

公开(公告)日：2016-09-07

申请号：CN201580004314.1

申请日：2015-01-20

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 上林浩行 ,  佐竹光 ,  德永幸大

IPC: B32B9/00 ,  B65D65/40

CPC classification number: C23C28/00 ,  C08J7/045 ,  C08J2367/02 ,  C08J2375/04 ,  C23C14/08 ,  C23C16/401 ,  C23C28/04

Abstract: 本发明的目的在于提供具有高度的阻气性的阻气性膜。本发明的阻气膜在高分子基材的至少一面具有阻气层，所述阻气层从高分子基材起依次相接配置有包含氧化锌和二氧化硅的第1层与包含硅化合物的第2层，通过X射线光电子能谱法测定得到的第1层与第2层的界面的Si2p轨道的结合能大于第1层的Si2p轨道的结合能，并且小于第2层的Si2p轨道的结合能。

公开(公告)号：CN104903089A

公开(公告)日：2015-09-09

申请号：CN201380069794.0

申请日：2013-12-25

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 森健太郎 ,  上林浩行

IPC: B32B9/00 ,  C08J7/04 ,  H01L51/50 ,  H05B33/02 ,  H05B33/10

CPC classification number: C09D1/00 ,  C08J7/045 ,  C08J2365/00 ,  C08J2367/02 ,  C08J2475/04 ,  C08J2483/16 ,  C23C14/08 ,  C23C14/086 ,  H01L51/524 ,  Y10T428/31598

Abstract: 本发明的目的在于提供一种具有高度的阻气性，并且耐弯曲性优异的阻气性膜。本发明的阻气膜，其特征在于，是在高分子基材的至少一侧，从上述高分子基材侧起依次具有无机层[A]和硅化合物层[B]的阻气性膜，无机层[A]包含锌化合物和硅氧化物，硅化合物层[B]包含硅氧氮化物，并且无机层[A]与硅化合物层[B]接触。

公开(公告)号：CN102202886B

公开(公告)日：2015-07-15

申请号：CN200980144298.0

申请日：2009-09-30

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 上林浩行 ,  荒井崇 ,  广田草人

IPC: B32B27/36 ,  B32B9/00 ,  B65D65/40 ,  C08K5/09 ,  C08K5/29 ,  C08L33/20 ,  C23C14/08

CPC classification number: B32B27/08 ,  B32B7/12 ,  B32B15/08 ,  B32B15/082 ,  B32B27/30 ,  B32B27/308 ,  B32B27/32 ,  B32B27/36 ,  B32B2250/03 ,  B32B2250/24 ,  B32B2255/10 ,  B32B2255/20 ,  B32B2255/205 ,  B32B2255/26 ,  B32B2255/28 ,  B32B2307/7242 ,  B32B2307/7244 ,  B32B2307/7246 ,  B32B2439/00 ,  B32B2553/00 ,  C08J7/045 ,  C08J2333/20 ,  C08K5/0025 ,  C08K5/10 ,  C08K5/16 ,  C08K5/29 ,  C08K5/54 ,  C08K2201/008 ,  C08L33/04 ,  C08L33/06 ,  C08L33/066 ,  C08L33/12 ,  C08L33/18 ,  C08L33/20 ,  C08L2201/14 ,  C09D133/04 ,  C09D133/06 ,  C09D133/066 ,  C09D133/12 ,  C09D133/18 ,  C09D133/20 ,  Y10T428/1334 ,  Y10T428/1338 ,  Y10T428/1341 ,  Y10T428/1352 ,  Y10T428/1355 ,  Y10T428/1379 ,  Y10T428/1383 ,  Y10T428/31797

Abstract: 本发明涉及一种气体阻隔性膜，是在由聚酯膜形成的基材膜的至少一面上依次层合由无机化合物构成的蒸镀层和气体阻隔层的气体阻隔性膜，上述气体阻隔层由下述混合物形成，所述混合物含有：主剂，所述主剂由共聚物构成，所述共聚物以在共聚物中所占比例为10～30质量％的(a)不饱和腈和在共聚物中所占比例为30～70质量％的(b)具有羟基的不饱和化合物至少2种成分作为单体；(c)由具有异氰酸酯基的化合物构成的固化剂；(d)具有2个以上羧基或1个以上羧酸酐基的化合物。

公开(公告)号：CN108503870A

公开(公告)日：2018-09-07

申请号：CN201810245065.0

申请日：2013-12-25

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 森健太郎 ,  上林浩行

IPC: C08J7/04 ,  H01L51/52

Abstract: 本发明的目的在于提供一种具有高度的阻气性，并且耐弯曲性优异的阻气性膜。本发明的阻气膜，其特征在于，是在高分子基材的至少一侧，从上述高分子基材侧起依次具有无机层[A]和硅化合物层[B]的阻气性膜，无机层[A]包含锌化合物和硅氧化物，硅化合物层[B]包含硅氧氮化物，并且无机层[A]与硅化合物层[B]接触。

公开(公告)号：CN105102667A

公开(公告)日：2015-11-25

申请号：CN201480018692.0

申请日：2014-03-28

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 德永幸大 ,  上林浩行 ,  佐竹光 ,  铃木基之

IPC: C23C14/08 ,  B32B9/00

CPC classification number: C23C14/08 ,  B32B9/00 ,  B32B2307/412 ,  B32B2307/7244 ,  B32B2439/70 ,  C23C14/0021 ,  C23C14/10 ,  C23C14/3414 ,  C23C14/562

Abstract: 本发明的课题在于提供一种气体阻隔性膜，所述气体阻隔性膜即使在弯曲时，气体阻隔性也不易降低，并呈现出高透明和高度的气体阻隔性。一种气体阻隔性膜，其为下述构成，即，在高分子膜基材的至少一侧具有至少含有氧化锌和二氧化硅的气体阻隔层，所述气体阻隔层满足规定范围的(9664.0eV的光谱强度)/(9668.0eV的光谱强度)的值、规定范围的结构密度指数、规定范围的在920cm-1具有峰的光谱的面积强度(A)与在1,080cm-1具有峰的光谱的面积强度(B)之比(A/B)的值中的任一项。

公开(公告)号：CN103476579B

公开(公告)日：2015-11-25

申请号：CN201280015972.7

申请日：2012-03-29

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 上林浩行 ,  冢村裕介 ,  渡边修

IPC: B32B9/00

CPC classification number: H01L23/296 ,  C09D1/00 ,  H01L23/564 ,  H01L31/0203 ,  H01L31/02161 ,  H01L31/0392 ,  H01L31/03921 ,  H01L31/03926 ,  H01L31/048 ,  H01L33/54 ,  H01L51/5253 ,  H01L2924/0002 ,  Y02E10/50 ,  Y10T428/24355 ,  Y10T428/265 ,  H01L2924/00

Abstract: 本发明的目的在于提供一种具有高阻气性，且阻气性的重复再现性优异的阻气性膜。该阻气性膜是在高分子基材的至少一个面上依次层合了以下的[A]层和[B]层而形成的，[A]层：铅笔硬度为H以上且表面自由能为45mN/m以下的交联树脂层，[B]层：厚度为10～1000nm的含硅无机层。