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公开(公告)号：CN101560649A
公开(公告)日：2009-10-21
申请号：CN200910043584.X
申请日：2009-06-03
Applicant: 中南大学
Abstract: 本发明公开了一种多用途批量制备CVD金刚石膜的工业设备，包括真空环形反应室和气体裂解热丝、气体进排放锥面窄缝通气腔、行星轮系、用于放置基体的基体安装架装置、上下整流罩、冷却腔以及腔外滤油循环通道，所述的气体进排放锥面窄缝通气腔和整流罩使气流束集在基体和热丝之间的环形狭小区域内，以提高气体被裂解的比例，提高气体的利用率。气体裂解热丝沿环形反应腔壁竖直排列设置，提高移动时的强度且更换方便。行星轮系带动基体安装架自转和公转。基体安装架上可同时固定大量线形、片状等多类基体。腔外滤油循环通道连接排气口和进气口并滤除气体中混杂的油，循环利用反应气体，进一步提高混合气体的利用率。
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