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公开(公告)号：CN116175377A
公开(公告)日：2023-05-30
申请号：CN202211608442.5
申请日：2022-12-14
申请人： 中国建筑材料科学研究总院有限公司
摘要： 本发明是关于一种复杂表面的抛光方法及防光晕光电玻璃窗的抛光设备。所述抛光方法包括以下步骤：将复杂表面分解为横向抛光面和纵向抛光面；按照横向抛光面的尺寸和形状定制尺寸和形状适配的横向抛光毛刷；按照纵向抛光面的尺寸和形状定制尺寸和形状适配的纵向抛光毛刷；分别使用所述横向抛光毛刷和纵向抛光毛刷对所述复杂表面的横向抛光面和纵向抛光面进行抛光。本发明所要解决的技术问题是如何对复杂表面进行抛光，使抛光面的尺寸精度高，表面粗糙度小；同时提高一次合格率，提高抛光效率，降低人工成本，从而更加适于实用。
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公开(公告)号：CN115849706A
公开(公告)日：2023-03-28
申请号：CN202211556223.7
申请日：2022-12-06
申请人： 中国建筑材料科学研究总院有限公司 , 中建材光子科技有限公司 , 中国建材集团有限公司
摘要： 本发明是关于一种高抗弯曲强度的玻璃、空芯玻璃纤维及其制备方法和应用。以质量百分含量计，所述高抗弯曲强度的玻璃由以下组分组成：二氧化硅60％～65％，三氧化二铝5％～10％，氧化镁5％～10％，氧化钙10％～15％，三氧化二硼5％～10％，氧化钠和氧化钾合计0～2％，氧化锌0～2％。所解决的技术问题是如何提供一种高抗弯曲强度的玻璃，使其折射率(nd)为1.54～1.58，线膨胀系数为(50～60)×10～7/℃，玻璃转变温度为600～650℃，玻璃软化温度为800～850℃，抗弯曲强度为85～95MPa；应用所述高抗弯曲强度的玻璃制造空芯玻璃纤维，其空芯占空比大，轻量化，抗拉伸强度高，且不容易发生断裂或者破损，特别适合用于复合材料、隔热保温、高压液体或气体储运等领域，从而更加适于实用。
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公开(公告)号：CN114264275A
公开(公告)日：2022-04-01
申请号：CN202111621883.4
申请日：2021-12-28
申请人： 中国建筑材料科学研究总院有限公司
IPC分类号： G01B21/30
摘要： 本发明公开了一种微纳光栅表面粗糙度的无损检测方法，包括如下步骤：用去离子水、无水乙醇和异丙醇对微纳光栅进行超声清洗，氮气吹干将三甲基氯硅烷滴到表面皿中，与微纳光栅一同置于真空干燥环境下，使三甲基氯硅烷充分钝化微纳光栅的表面；将固化剂加入聚二甲基硅氧烷中，混合均匀，消泡，得到PDMS混合物；将PDMS混合物倒在表面皿中，再将微纳光栅置于PDMS混合物表面，将附着PDMS混合物的微纳光栅置于真空干燥环境中脱气、固化，得到凝固仍带有微纳光栅的硅胶膜；将该硅胶膜与微纳光栅进行脱模，用硅胶模进行粗糙度测试。本发明可实现对微纳光栅表面难以测量的侧壁、槽底、深孔等复杂结构进行采集和复制，为复杂的微纳结构表面粗糙度测试提供了新思路。
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公开(公告)号：CN113161247B
公开(公告)日：2022-01-28
申请号：CN202110484162.7
申请日：2021-04-30
申请人： 中国建筑材料科学研究总院有限公司
IPC分类号： H01L21/50 , H01L21/67 , H01L21/68 , H01L31/0216 , H01L31/0224 , B81C3/00
摘要： 本发明是关于静电键合方法和装置以及使用该方法制备的光电阴极。该静电键合方法包括以下步骤：对第一基板的待键合面进行第一预处理；对第二基板的待键合面进行第二预处理；所述第一基板和第二基板的材质都选自电阻率在20℃下为1×1015～1×1019Ω·cm的无机材料；对第二基板的待键合面进行电子轰击，使第二基板的待键合面产生表面电位；所述的表面电位大于3V；将第一基板的待键合面与第二基板的待键合面贴合，在加压和加热的条件下，对第一基板和第二基板进行键合。本发明提出的静电键合方法通过静电吸引将两个或多个相同材质或不同材质的基板键合在一起，且键合基板材质中不需要含有碱金属离子，即使基板的厚度较大时也容易实现。
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公开(公告)号：CN111427077B
公开(公告)日：2021-11-02
申请号：CN202010333428.3
申请日：2020-04-24
申请人： 中国建筑材料科学研究总院有限公司
摘要： 本发明涉及一种X射线探测镜头及其制备方法，所述X射线探测镜头包括呈圆形的镜头本体，所述镜头本体包括金属框架及拼接于所述金属框架中的多个扇形镜片组，所述金属框架包括镜头中心区、与所述镜头中心区连接且与多个所述扇形镜片组相配合的多个扇形区。本发明通过多层镜片叠拼的方式，既克服了单层镜片像差大的问题，又可以使反射光线迅速向光轴靠近，大大减小了焦距。与龙虾眼型聚焦镜头相比，本发明用扇形通道代替方形通道，用弧形反射面代替平面反射面，使得反射光线由十字臂向中心焦点处集中，提高了镜头的聚焦效率。
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公开(公告)号：CN113219570A
公开(公告)日：2021-08-06
申请号：CN202110484128.X
申请日：2021-04-30
申请人： 中国建筑材料科学研究总院有限公司
IPC分类号： G02B5/18
摘要： 本发明是关于一种可见光‑近红外宽光谱增透型光栅式光学元件及其制备方法和应用，所述可见光‑近红外宽光谱增透型光栅式光学元件包括基底，所述基底具有接收和透过入射光的正面以及相对的背面，所述基底的正面设有亚微米量级的微结构周期阵列；所述微结构周期阵列包括底面直径不同的两种微纳结构单元。本发明所提供的可见光‑近红外宽光谱增透型光栅式光学元件，通过在光学元件表面构建复合型微纳结构阵列组合，以实现宽光谱的降低反射、增强透射的目的。本发明的光学元件可单独作为光学镜头、或光学窗口使用，也可与常规的光学镜头或光学窗口耦合使用，来提升相关仪器设备的综合性能。
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公开(公告)号：CN113193059A
公开(公告)日：2021-07-30
申请号：CN202110486159.9
申请日：2021-04-30
申请人： 中国建筑材料科学研究总院有限公司
IPC分类号： H01L31/0236 , H01L31/0216 , H01L31/18
摘要： 本发明是关于微结构玻璃基片及其制备方法，该微结构玻璃基片包括玻璃基底层和光电发射材料层，所述的玻璃基底层具有呈网格状分布的光栅凹槽结构，所述的光栅凹槽结构由若干第一方向的凹槽和若干第二方向的凹槽相互交叉形成，所述的凹槽的开口朝向所述的光子出射面，所述的凹槽内填充有氧化物膜层；所述的凹槽的尺寸与光电发射材料层的厚度满足如下关系：W×(Δ+W)＝1000×D，其中，W为凹槽的宽度，Δ为相邻两个凹槽的间距，D为光电发射材料层的厚度。本发明通过对玻璃基片的出射面进行微结构加工，形成特殊材料结构光栅，增加光子传播路径，提高光谱灵敏度。
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公开(公告)号：CN111574067B
公开(公告)日：2021-07-27
申请号：CN202010421571.8
申请日：2020-05-18
申请人： 中国建筑材料科学研究总院有限公司
IPC分类号： C03C23/00
摘要： 本发明是关于一种具有光吸收层的光学玻璃及其制备方法，该制备方法包括：在还原气氛下，对待处理的光学玻璃进行第一处理，所述第一处理的压力为0.5MPa～100MPa；在还原气体和氮气的混合气氛下，对所述第一处理后的光学玻璃进行第二处理，所述第二处理的温度T满足：Tg
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公开(公告)号：CN113161247A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN202110484162.7
申请日：2021-04-30
申请人： 中国建筑材料科学研究总院有限公司
IPC分类号： H01L21/50 , H01L21/67 , H01L21/68 , H01L31/0216 , H01L31/0224 , B81C3/00
摘要： 本发明是关于静电键合方法和装置以及使用该方法制备的光电阴极。该静电键合方法包括以下步骤：对第一基板的待键合面进行第一预处理；对第二基板的待键合面进行第二预处理；所述第一基板和第二基板的材质都选自电阻率在20℃下为1×1015～1×1019Ω·cm的无机材料；对第二基板的待键合面进行电子轰击，使第二基板的待键合面产生表面电位；所述的表面电位大于3V；将第一基板的待键合面与第二基板的待键合面贴合，在加压和加热的条件下，对第一基板和第二基板进行键合。本发明提出的静电键合方法通过静电吸引将两个或多个相同材质或不同材质的基板键合在一起，且键合基板材质中不需要含有碱金属离子，即使基板的厚度较大时也容易实现。
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公开(公告)号：CN108675799B
公开(公告)日：2020-12-29
申请号：CN201810386345.3
申请日：2018-04-26
申请人： 中国建筑材料科学研究总院有限公司
IPC分类号： C04B35/622 , C04B38/06 , E01C11/22 , E01C5/06
摘要： 本发明实施例是关于一种赤泥透水砖及其制备方法，涉及赤泥透水砖技术领域，主要目的在于提高赤泥透水砖的耐用性。主要采用的技术方案为：赤泥透水砖的制备方法，包括：采用赤泥粉料造粒制备赤泥颗粒；将玻璃粉成形于所述赤泥颗粒外表面，形成赤泥玻璃核；采用所述赤泥玻璃核和造孔剂成型、烧制赤泥透水砖。本发明实施例提供的赤泥透水砖，透水砖体由赤泥玻璃核形成，赤泥玻璃核包括赤泥颗粒以及包裹在赤泥颗粒外表面的玻璃层，玻璃层对赤泥颗粒高效包裹，使其不易返碱；另外由于玻璃层的强度远远高于赤泥颗粒的强度，可提高赤泥透水砖整体抗高压能力，经测试，其压缩强度可达42MPa，相对于现有技术，提高了其耐用性。
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