-
公开(公告)号：CN118409379A
公开(公告)日：2024-07-30
申请号：CN202410546263.6
申请日：2024-05-06
申请人： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
摘要： 本申请提供的球面波曝光干涉场在线调控系统及调控方法，入射光经过分束光栅得到两束衍射光，两束衍射光入射到空间滤波器并被扩束为球面波，两束球面波在基准光栅表面形成Moiré条纹。通过微调分束光栅位置改变两衍射光束的相位以实现相移。使用相机拍摄相移得到的Moiré条纹图像，并从图像中提取Moiré条纹相位分布，根据提取的相位信息拟合出刻线分布函数系数。粗略测量记录参数的值作为初值，并进行局部寻优以得到记录参数实际值。根据测量得到的记录参数实际值，通过自动校准空间滤波器的空间位置。经过多次测量及校准使记录参数测量结果接近目标值，实现曝光干涉场在线调控，提升测量精度和效率。
-
公开(公告)号：CN116661138B
公开(公告)日：2024-05-14
申请号：CN202310686263.1
申请日：2023-06-09
申请人： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC分类号： G02B27/00
摘要： 本发明涉及光学设计技术领域，尤其涉及一种光栅光谱仪的光学设计方法，包括步骤：S1、产生初始亲本种群；S2、基于所述初始亲本种群交叉变异，产生子代种群；所述交叉变异包括采样特征光线，并对每条所述采样光线赋值；S3、基于所述子代种群，进行系统重建；所述系统重建包括刻线分布重建、记录结构重建以及光栅面型重建中的至少一种；S4、使用遗传算法进行优化迭代设计，基于所述系统重建，判定和挑选新一轮的亲本种群；本发明的设计方法不需要构建复杂的像差展开模型，减少设计人员的人力工作；整个设计过程不存在高阶展开忽略的问题，设计结果更为精确；可针对任意类型的光谱仪均能够展开设计，设计更为普适。
-
公开(公告)号：CN116661139B
公开(公告)日：2024-05-10
申请号：CN202310686277.3
申请日：2023-06-09
申请人： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC分类号： G02B27/00
摘要： 本发明涉及光学设计技术领域，尤其涉及一种自由曲面光学系统的设计方法，设计方法包括对光学系统中的单个自由曲面进行优化设计，包括步骤：S1、在光学系统中设定一系列离散的采样视场和波长，按理想物象关系确定每个采样视场和波长组合对应的像点坐标；S2、确定前后波前面，获得波前面表达式；S3、确定参考光线；S4、选择接受面和入射光线面，求解对应的待优化的自由曲面上的特征点坐标和法线信息；S5、针对特征点坐标进行面型拟合，实现对待优化的自由曲面的优化设计；本发明所提供的自由曲面光学系统的设计方法，不依赖设计人员设计经验，整个设计过程更为自动化和智能化；且对于折射、反射、衍射或混合光学系统都能适用。
-
公开(公告)号：CN116755187B
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN202311055791.3
申请日：2023-08-22
申请人： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
摘要： 本发明涉及光栅研制技术领域，具体涉及基于扫描曝光技术的光栅基底面形误差补偿方法、装置，具体地，本申请采用基于扫描干涉场曝光系统干涉条纹相位调制的光栅基底面形误差补偿技术，解决了在全息光栅研制领域基底面形加工误差使光栅衍射波前变差的问题，实现了光栅全口径衍射波前质量的提高，通过二维工作台位移测量系统的反馈和干涉条纹相位控制系统调制间的配合，达到光栅基底面形误差的全口径补偿，不仅降低了对光栅基底的加工精度要求，同时还能够提高光栅全口径的衍射波前质量，这对于制造米级尺寸光栅而言，具有至关重要的应用价值。
-
公开(公告)号：CN115014183B
公开(公告)日：2023-07-04
申请号：CN202210850761.0
申请日：2022-07-20
申请人： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC分类号： G01B7/00
摘要： 本发明提供的一种轴承跳动测量装置，该装置包括底座、电动升降台和旋转电机，电动升降台与底座固定连接，旋转电机固定在电动升降台上，该装置还包括夹爪和底部测量系统，夹爪用于夹起待测轴承，夹爪与旋转电机固定连接；底部测量系统包括轴向测量装置、轴承支架夹具和径向测量装置，轴向测量装置和径向测量装置固定在轴承支架夹具的两侧。本发明通过旋转后的惯性使轴承在没有外力作用下旋转进行测量，避免了外力带来的误差，并且拥有更高的测量精度。
-
公开(公告)号：CN113819846B
公开(公告)日：2022-05-31
申请号：CN202111104433.8
申请日：2021-09-18
申请人： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC分类号： G01B11/02
摘要： 本发明提供一种锥面衍射式光栅位移测量装置及测量方法，其中锥面衍射式光栅位移测量装置包括：用于发出测量光束的激光二极管、准直透镜、偏振分束棱镜、第一反射镜、第二反射镜、第三反射镜、第四反射镜、相移测量单元；本发明根据锥面衍射原理，优化了光栅位移测量装置的光学结构，减少了四分之一波片的使用，避免了由于四分之一波片加工与安装误差造成的非线性误差，测量精度高；本发明装置包含反射装置，使得测量光束可再次经过被测光栅，保证了更高倍数的光学细分。
-
公开(公告)号：CN109507852A
公开(公告)日：2019-03-22
申请号：CN201811629955.8
申请日：2018-12-29
申请人： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
摘要： 本发明本提供了一种全息光栅自准直实时监测显影截止点的方法，该方法采用自准直角度入射，根据光栅方程可知，-1级衍射角和入射角相等，即-1级衍射光与入射光重合，此时的-1级衍射光不会与其他衍射级次混淆；通过调节入射光的俯仰，分离-1级衍射光与入射光；另外在此期间全部是根据待显影的潜像光栅进行的角度调节，不会产生衍射光角度偏转，因此接收此时的-1级衍射光作为监测信号既不会产生衍射级次混淆，又不会参入入射光信号，可以根据此信号监测得到的有效的显影截止点。
-
公开(公告)号：CN104503208A
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：CN201410798282.4
申请日：2014-12-19
申请人： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC分类号： G03F7/16
摘要： 新型厚层光刻胶涂覆方法，属于光刻技术领域，为解决现有技术无法进行上百微米的厚胶涂覆问题，在承载平台上安装第一调节螺丝组，调节第一调节螺丝组对承载平台调平，用第一水平检测仪检测承载平台的水平度；在承载平台上摆放光学基底承载台，光学基底承载台上安装第二调节螺丝组，用第二水平检测仪检测光学基底承载台的水平度；调节光刻胶涂覆刀口与光学基底的间距；在承载平台上安装直线电机定子，直线电机动子与第二推拉杆、万向轴承、第一推拉杆相连接，第一推拉杆与光刻胶涂覆移动机构垂直连接，通过直线电机动子运动带动推拉杆运动，使光刻胶涂覆移动机构运动；通过光刻胶涂覆移动机构带动光刻胶涂覆刀口运动，在光学基底表面涂覆光刻胶。
-
公开(公告)号：CN117687133A
公开(公告)日：2024-03-12
申请号：CN202211033535.X
申请日：2022-08-26
申请人： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
摘要： 本发明提供一种变栅距光栅记录结构优化设计方法，用于对变栅距光栅记录结构进行优化，包括：S1、确定记录光源C的坐标，求解记录光源C到特征点Pi的方向矢量；S2、求解特征点Pi对应的在非球面波记录臂中的入射光线PiQi的方向和光程函数差I；S3、求解特征点Pi对应辅助反射镜上点Qi的坐标，并计算辅助反射镜上Qi点处的法线；S4、通过拟合方法获得辅助反射镜面型信息；S5、分析拟合后的辅助反射镜的残余误差，当离散程度＞设定阈值时，重复上述步骤S1‑S4；当离散程度≤设定阈值时，输出设计结果。本发明相较于传统方法可以更快速、准确地实现变栅距光栅记录结构的优化设计。
-
公开(公告)号：CN116661138A
公开(公告)日：2023-08-29
申请号：CN202310686263.1
申请日：2023-06-09
申请人： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC分类号： G02B27/00
摘要： 本发明涉及光学设计技术领域，尤其涉及一种光栅光谱仪的光学设计方法，包括步骤：S1、产生初始亲本种群；S2、基于所述初始亲本种群交叉变异，产生子代种群；所述交叉变异包括采样特征光线，并对每条所述采样光线赋值；S3、基于所述子代种群，进行系统重建；所述系统重建包括刻线分布重建、记录结构重建以及光栅面型重建中的至少一种；S4、使用遗传算法进行优化迭代设计，基于所述系统重建，判定和挑选新一轮的亲本种群；本发明的设计方法不需要构建复杂的像差展开模型，减少设计人员的人力工作；整个设计过程不存在高阶展开忽略的问题，设计结果更为精确；可针对任意类型的光谱仪均能够展开设计，设计更为普适。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
搜索结果
29 条记录 (耗时 0.045 秒)
