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公开(公告)号：CN116661139A
公开(公告)日：2023-08-29
申请号：CN202310686277.3
申请日：2023-06-09
申请人： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC分类号： G02B27/00
摘要： 本发明涉及光学设计技术领域，尤其涉及一种自由曲面光学系统的设计方法，设计方法包括对光学系统中的单个自由曲面进行优化设计，包括步骤：S1、在光学系统中设定一系列离散的采样视场和波长，按理想物象关系确定每个采样视场和波长组合对应的像点坐标；S2、确定前后波前面，获得波前面表达式；S3、确定参考光线；S4、选择接受面和入射光线面，求解对应的待优化的自由曲面上的特征点坐标和法线信息；S5、针对特征点坐标进行面型拟合，实现对待优化的自由曲面的优化设计；本发明所提供的自由曲面光学系统的设计方法，不依赖设计人员设计经验，整个设计过程更为自动化和智能化；且对于折射、反射、衍射或混合光学系统都能适用。
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公开(公告)号：CN115824061A
公开(公告)日：2023-03-21
申请号：CN202310107183.6
申请日：2023-02-14
申请人： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC分类号： G01B11/02
摘要： 本申请属于超精密位移测量技术领域，具体提供一种基于利特罗衍射的光栅位移测量装置及方法，该装置包括：光源系统、光学系统、光栅、光电接收模块及信号处理系统，光栅为平面反射式的闪耀光栅，光源系统发出正交的第一和第二线偏振光；光学系统将第一和第二线偏振光以不同级次的Littrow角度入射至光栅表面，将第一和第二线偏振光经光栅衍射产生的第一和第二衍射光入射至光电接收模块；光电接收模块接收第一和第二衍射光并形成干涉位移信号，将干涉位移信号传输到信号处理系统；信号处理系统对干涉位移信号进行相移解算，测得光栅的位移量。本申请的基于利特罗衍射的光栅位移测量装置，避免了反射光与衍射光产生混叠，提高了测量精度。
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公开(公告)号：CN109491005B
公开(公告)日：2021-01-15
申请号：CN201811619222.6
申请日：2018-12-28
申请人： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC分类号： G02B5/30
摘要： 本发明提供的偏振器包括激发层、双曲色散材料层、平坦化层、出射层及基底层，宽波段的光波经所述激发层激发产生高空间波矢衍射光，所述高空间波矢衍射光进入所述双曲色散材料层，所述双曲色散材料层对入射的高空间波矢衍射光中宽波段TM偏振光以高空间波矢衍射光模式耦合传输并对其它偏振态模式光波抑制传输，经所述双曲色散材料层耦合传输的高空间波矢衍射光经所述平坦化层进入所述出射层，所述出射层对入射的光场进行空间波矢调制，并经所述基底层耦合输出单一波矢TM偏振平面光波，本发明提供的偏振器，利用双曲色散材料实现了TM偏振光的耦合放大传输，以及TE偏振光的指数衰减传输，解决了高深宽比对亚波长金属光栅偏振器的限制，能够获得高消光比、宽波段亚波长偏振器。
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公开(公告)号：CN115576041B
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN202211207903.8
申请日：2022-09-30
申请人： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC分类号： G02B5/18
摘要： 本申请提供的晶向精确对准的方法，对硅晶圆进行晶向定位；获取与硅晶圆的晶向平行的参考光栅；将带有参考光栅的欲曝光的光栅基底置于精密转台上；移动精密转台，使位于精密转台左右两束曝光光束均在光栅基底的法线方向产生衍射光；旋转精密转台使两束衍射光重合并获取干涉图样；调整精密转台，使干涉图样出现的干涉条纹周期达到最大值，静态对准完成，本申请提供的晶向精确对准的方法，通过引入一个光栅周期与SBIL系统干涉场周期相匹配的参考光栅作为中间过程，避免了在SBIL系统中引入额外元件，并且把耗时较长的过程转移到紫外光刻设备中，提高了SBIL系统的使用效率。
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公开(公告)号：CN116755187A
公开(公告)日：2023-09-15
申请号：CN202311055791.3
申请日：2023-08-22
申请人： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
摘要： 本发明涉及光栅研制技术领域，具体涉及基于扫描曝光技术的光栅基底面形误差补偿方法、装置，具体地，本申请采用基于扫描干涉场曝光系统干涉条纹相位调制的光栅基底面形误差补偿技术，解决了在全息光栅研制领域基底面形加工误差使光栅衍射波前变差的问题，实现了光栅全口径衍射波前质量的提高，通过二维工作台位移测量系统的反馈和干涉条纹相位控制系统调制间的配合，达到光栅基底面形误差的全口径补偿，不仅降低了对光栅基底的加工精度要求，同时还能够提高光栅全口径的衍射波前质量，这对于制造米级尺寸光栅而言，具有至关重要的应用价值。
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公开(公告)号：CN115014183A
公开(公告)日：2022-09-06
申请号：CN202210850761.0
申请日：2022-07-20
申请人： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC分类号： G01B7/00
摘要： 本发明提供的一种轴承跳动测量装置，该装置包括底座、电动升降台和旋转电机，电动升降台与底座固定连接，旋转电机固定在电动升降台上，该装置还包括夹爪和底部测量系统，夹爪用于夹起待测轴承，夹爪与旋转电机固定连接；底部测量系统包括轴向测量装置、轴承支架夹具和径向测量装置，轴向测量装置和径向测量装置固定在轴承支架夹具的两侧。本发明通过旋转后的惯性使轴承在没有外力作用下旋转进行测量，避免了外力带来的误差，并且拥有更高的测量精度。
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公开(公告)号：CN113819846A
公开(公告)日：2021-12-21
申请号：CN202111104433.8
申请日：2021-09-18
申请人： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC分类号： G01B11/02
摘要： 本发明提供一种锥面衍射式光栅位移测量装置及测量方法，其中锥面衍射式光栅位移测量装置包括：用于发出测量光束的激光二极管、准直透镜、偏振分束棱镜、第一反射镜、第二反射镜、第三反射镜、第四反射镜、相移测量单元；本发明根据锥面衍射原理，优化了光栅位移测量装置的光学结构，减少了四分之一波片的使用，避免了由于四分之一波片加工与安装误差造成的非线性误差，测量精度高；本发明装置包含反射装置，使得测量光束可再次经过被测光栅，保证了更高倍数的光学细分。
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公开(公告)号：CN109581829A
公开(公告)日：2019-04-05
申请号：CN201811631576.2
申请日：2018-12-29
申请人： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC分类号： G03F7/30
摘要： 本发明涉及光谱技术领域，具体涉及一种全息光栅自准直实时监测显影截止点的装置。该装置包括显影罐10、光栅固定机构20、支撑机构30、激光器40、光电接收器50、俯仰调节机构60和监测机构70。本发明的全息光栅自准直实时监测显影截止点的装置设置有俯仰调节机构，用于直接根据待显影的潜像光栅调整激光器的激光束的俯仰，分离以自准直角度入射的激光束和该激光束经潜像光栅衍射产生的-1级衍射光束，不会产生衍射光角度偏转，-1级衍射光束作为监测信号既不会产生衍射级次混淆，又不会混入入射激光束，增加了判断显影截止点的准确度。
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公开(公告)号：CN109541894A
公开(公告)日：2019-03-29
申请号：CN201811632703.0
申请日：2018-12-29
申请人： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
摘要： 本发明提供了一种实时监测显影过程的装置，包括显影模块、衍射光接收模块和监测模块，显影模块包括显影罐、以及设于显影罐上的光栅定位组件，该光栅定位组件用于将光栅固定在显影罐中进行显影；衍射光接收模块包括激光器和光电接收器，激光器用于发出激光束照射光栅，光电接收器用于接收激光束照射光栅后从光栅衍射出的光信号，并将光信号转换为电信号；监测模块包括与光电接收器连接的数据处理器、和与数据处理器连接的显示器，所述光电接收器接收到的光信号经过所述数据处理器处理后在所述显示器上显示为衍射光的强弱变化曲线。通过该装置，可以直接从该曲线上确定显影截止点，得到高质量的全息光栅掩模。
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公开(公告)号：CN104503209A
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：CN201410798319.3
申请日：2014-12-19
申请人： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC分类号： G03F7/16
摘要： 厚层光刻胶涂覆装置，属于光刻技术领域，为解决现有技术无法进行上百微米的厚胶涂覆问题，承载平台上安装第一调节螺丝组，第一水平检测仪放置在承载平台上，承载平台上安装直线导轨副，其中两条导轨平行，直线导轨副上分别安装导轨滑套，两个导轨滑套通过两套高低调节组件与光刻胶涂覆移动机构相连，在光刻胶涂覆移动机构整体长度1/2处垂直安装第一推拉杆，第一推拉杆的另一侧通过万向轴承的一侧相连，第一推拉杆与第二推拉杆成一条直线，第二推拉杆与直线电机动子相连，直线电机定子固定在承载平台上；光学基底承载台安装在直线导轨副中间，其上放置光学基底，在光学基底承载台上安装第二调节螺丝组，第二水平检测仪设置在光学基底承载台上。
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