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公开(公告)号：CN116661138B
公开(公告)日：2024-05-14
申请号：CN202310686263.1
申请日：2023-06-09
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC: G02B27/00
Abstract: 本发明涉及光学设计技术领域，尤其涉及一种光栅光谱仪的光学设计方法，包括步骤：S1、产生初始亲本种群；S2、基于所述初始亲本种群交叉变异，产生子代种群；所述交叉变异包括采样特征光线，并对每条所述采样光线赋值；S3、基于所述子代种群，进行系统重建；所述系统重建包括刻线分布重建、记录结构重建以及光栅面型重建中的至少一种；S4、使用遗传算法进行优化迭代设计，基于所述系统重建，判定和挑选新一轮的亲本种群；本发明的设计方法不需要构建复杂的像差展开模型，减少设计人员的人力工作；整个设计过程不存在高阶展开忽略的问题，设计结果更为精确；可针对任意类型的光谱仪均能够展开设计，设计更为普适。
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公开(公告)号：CN116661139B
公开(公告)日：2024-05-10
申请号：CN202310686277.3
申请日：2023-06-09
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC: G02B27/00
Abstract: 本发明涉及光学设计技术领域，尤其涉及一种自由曲面光学系统的设计方法，设计方法包括对光学系统中的单个自由曲面进行优化设计，包括步骤：S1、在光学系统中设定一系列离散的采样视场和波长，按理想物象关系确定每个采样视场和波长组合对应的像点坐标；S2、确定前后波前面，获得波前面表达式；S3、确定参考光线；S4、选择接受面和入射光线面，求解对应的待优化的自由曲面上的特征点坐标和法线信息；S5、针对特征点坐标进行面型拟合，实现对待优化的自由曲面的优化设计；本发明所提供的自由曲面光学系统的设计方法，不依赖设计人员设计经验，整个设计过程更为自动化和智能化；且对于折射、反射、衍射或混合光学系统都能适用。
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公开(公告)号：CN109507852A
公开(公告)日：2019-03-22
申请号：CN201811629955.8
申请日：2018-12-29
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
Abstract: 本发明本提供了一种全息光栅自准直实时监测显影截止点的方法，该方法采用自准直角度入射，根据光栅方程可知，-1级衍射角和入射角相等，即-1级衍射光与入射光重合，此时的-1级衍射光不会与其他衍射级次混淆；通过调节入射光的俯仰，分离-1级衍射光与入射光；另外在此期间全部是根据待显影的潜像光栅进行的角度调节，不会产生衍射光角度偏转，因此接收此时的-1级衍射光作为监测信号既不会产生衍射级次混淆，又不会参入入射光信号，可以根据此信号监测得到的有效的显影截止点。
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公开(公告)号：CN117687133B
公开(公告)日：2025-01-28
申请号：CN202211033535.X
申请日：2022-08-26
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
Abstract: 本发明提供一种变栅距光栅记录结构优化设计方法，用于对变栅距光栅记录结构进行优化，包括：S1、确定记录光源C的坐标，求解记录光源C到特征点Pi的方向矢量；S2、求解特征点Pi对应的在非球面波记录臂中的入射光线PiQi的方向和光程函数差I；S3、求解特征点Pi对应辅助反射镜上点Qi的坐标，并计算辅助反射镜上Qi点处的法线；S4、通过拟合方法获得辅助反射镜面型信息；S5、分析拟合后的辅助反射镜的残余误差，当离散程度＞设定阈值时，重复上述步骤S1‑S4；当离散程度≤设定阈值时，输出设计结果。本发明相较于传统方法可以更快速、准确地实现变栅距光栅记录结构的优化设计。
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公开(公告)号：CN116661139A
公开(公告)日：2023-08-29
申请号：CN202310686277.3
申请日：2023-06-09
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC: G02B27/00
Abstract: 本发明涉及光学设计技术领域，尤其涉及一种自由曲面光学系统的设计方法，设计方法包括对光学系统中的单个自由曲面进行优化设计，包括步骤：S1、在光学系统中设定一系列离散的采样视场和波长，按理想物象关系确定每个采样视场和波长组合对应的像点坐标；S2、确定前后波前面，获得波前面表达式；S3、确定参考光线；S4、选择接受面和入射光线面，求解对应的待优化的自由曲面上的特征点坐标和法线信息；S5、针对特征点坐标进行面型拟合，实现对待优化的自由曲面的优化设计；本发明所提供的自由曲面光学系统的设计方法，不依赖设计人员设计经验，整个设计过程更为自动化和智能化；且对于折射、反射、衍射或混合光学系统都能适用。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119395799A
公开(公告)日：2025-02-07
申请号：CN202510016134.0
申请日：2025-01-06
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明涉及光栅制造技术领域，尤其涉及一种内反射式浸没光栅及其制作方法，内反射式浸没光栅的制作方法包括：在第一浸没介质体的第一光栅面上形成第一初始固化层，以及在第二浸没介质体的第二光栅面上形成第二初始固化层；利用压印面对第一初始固化层进行对准压印，以形成具有光栅的第一固化层；在第一固化层远离第一浸没介质体的表面形成高反射膜；将第二浸没介质体形成有第二初始固化层的一侧对准第一固化层具有高反射膜的一侧并进行压印，以形成连接第二浸没介质体和高反射膜的第二固化层；第一浸没介质体和第二浸没介质体中的一者为棱镜，另一者为平面基板。本发明至少有利于降低内反射式浸没光栅的制作难度且实现对光栅的保护。
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公开(公告)号：CN115576041B
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN202211207903.8
申请日：2022-09-30
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC: G02B5/18
Abstract: 本申请提供的晶向精确对准的方法，对硅晶圆进行晶向定位；获取与硅晶圆的晶向平行的参考光栅；将带有参考光栅的欲曝光的光栅基底置于精密转台上；移动精密转台，使位于精密转台左右两束曝光光束均在光栅基底的法线方向产生衍射光；旋转精密转台使两束衍射光重合并获取干涉图样；调整精密转台，使干涉图样出现的干涉条纹周期达到最大值，静态对准完成，本申请提供的晶向精确对准的方法，通过引入一个光栅周期与SBIL系统干涉场周期相匹配的参考光栅作为中间过程，避免了在SBIL系统中引入额外元件，并且把耗时较长的过程转移到紫外光刻设备中，提高了SBIL系统的使用效率。
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公开(公告)号：CN109581829A
公开(公告)日：2019-04-05
申请号：CN201811631576.2
申请日：2018-12-29
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC: G03F7/30
Abstract: 本发明涉及光谱技术领域，具体涉及一种全息光栅自准直实时监测显影截止点的装置。该装置包括显影罐10、光栅固定机构20、支撑机构30、激光器40、光电接收器50、俯仰调节机构60和监测机构70。本发明的全息光栅自准直实时监测显影截止点的装置设置有俯仰调节机构，用于直接根据待显影的潜像光栅调整激光器的激光束的俯仰，分离以自准直角度入射的激光束和该激光束经潜像光栅衍射产生的-1级衍射光束，不会产生衍射光角度偏转，-1级衍射光束作为监测信号既不会产生衍射级次混淆，又不会混入入射激光束，增加了判断显影截止点的准确度。
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公开(公告)号：CN109541894A
公开(公告)日：2019-03-29
申请号：CN201811632703.0
申请日：2018-12-29
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
Abstract: 本发明提供了一种实时监测显影过程的装置，包括显影模块、衍射光接收模块和监测模块，显影模块包括显影罐、以及设于显影罐上的光栅定位组件，该光栅定位组件用于将光栅固定在显影罐中进行显影；衍射光接收模块包括激光器和光电接收器，激光器用于发出激光束照射光栅，光电接收器用于接收激光束照射光栅后从光栅衍射出的光信号，并将光信号转换为电信号；监测模块包括与光电接收器连接的数据处理器、和与数据处理器连接的显示器，所述光电接收器接收到的光信号经过所述数据处理器处理后在所述显示器上显示为衍射光的强弱变化曲线。通过该装置，可以直接从该曲线上确定显影截止点，得到高质量的全息光栅掩模。
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公开(公告)号：CN117687133A
公开(公告)日：2024-03-12
申请号：CN202211033535.X
申请日：2022-08-26
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
Abstract: 本发明提供一种变栅距光栅记录结构优化设计方法，用于对变栅距光栅记录结构进行优化，包括：S1、确定记录光源C的坐标，求解记录光源C到特征点Pi的方向矢量；S2、求解特征点Pi对应的在非球面波记录臂中的入射光线PiQi的方向和光程函数差I；S3、求解特征点Pi对应辅助反射镜上点Qi的坐标，并计算辅助反射镜上Qi点处的法线；S4、通过拟合方法获得辅助反射镜面型信息；S5、分析拟合后的辅助反射镜的残余误差，当离散程度＞设定阈值时，重复上述步骤S1‑S4；当离散程度≤设定阈值时，输出设计结果。本发明相较于传统方法可以更快速、准确地实现变栅距光栅记录结构的优化设计。
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