公开(公告)号：CN101644895A

公开(公告)日：2010-02-10

申请号：CN200910160590.3

申请日：2009-08-04

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 嶋田雅彦 ,  桥本和彦 ,  山口训史 ,  金淳信 ,  高田佳幸 ,  平冈崇志

IPC: G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

Abstract: 本发明提供了一种化学增幅正性抗蚀剂组合物，其包含：包含由结构式(I)表示的结构单元的树脂，其中，R1代表氢原子、卤素原子、C1-C4烷基或C1-C4全氟化烷基；Z代表单键或-(CH2)k-CO-X4-，k代表1至4的整数；X1、X2、X3和X4各自独立地代表氧原子或硫原子；m代表1至3的整数；而n代表0至3的整数；以及产酸剂。

公开(公告)号：CN101261448A

公开(公告)日：2008-09-10

申请号：CN200810083427.7

申请日：2008-03-05

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 山口训史 ,  高田佳幸 ,  山本敏

IPC: G03F7/039

CPC classification number: C07C381/12 ,  C07C309/06 ,  C07C309/17 ,  C07C2603/74 ,  C07D307/20 ,  C07D307/77 ,  C07D309/10 ,  C07D333/46 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397

Abstract: 本发明提供一种化学放大型抗蚀剂组合物，其包含：(A)由式(I)表示的盐，(B)由式(II)表示的盐和(C)树脂，所述树脂包含具有酸－不稳定基团的结构单元，并且所述树脂本身不溶于或难溶于碱性水溶液，但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液，其中式(I)和式(II)中的Q1、A+、R22、Q3、Q4和A'+具有与权利要求和说明书中定义的相同含义。

公开(公告)号：CN101206405A

公开(公告)日：2008-06-25

申请号：CN200710197166.7

申请日：2007-12-10

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 高田佳幸 ,  宫川贵行 ,  枝松邦茂

IPC: G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/123

Abstract: 本发明提供一种化学放大型抗蚀剂组合物，其包含：树脂，所述树脂包含具有酸－不稳定基团的结构单元和由式(I)表示的结构单元，其中R1表示氢原子或甲基，环X表示C3－C30环烃基，其中一个－CH2－被－COO－取代，并且在所述C3－C30环烃基中的至少一个氢原子可以被取代，并且p表示1至4的整数，并且所述树脂本身在碱水溶液中不溶解或溶解差，但是通过酸的作用变得可溶于碱水溶液中；以及由式(II)表示的盐，其中Y1和Y2各自独立地表示氟原子或C1－C6全氟烷基，A+表示有机抗衡离子，并且R21表示可以被取代的C1－C30烃基，并且在C1－C30烃基中的至少一个－CH2－可以被－CO－或－O－取代。

公开(公告)号：CN101121679A

公开(公告)日：2008-02-13

申请号：CN200710138246.5

申请日：2007-07-31

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 原田由香子 ,  吉田勋 ,  高田佳幸

IPC: C07C321/12 ,  C07C323/10 ,  C07C309/17 ,  G03F7/039

CPC classification number: C07C381/12 ,  C07C309/17 ,  C07C2603/74 ,  C07D307/77 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123

Abstract: 本发明提供一种式(I)表示的盐，其中，P1、P2、P3、Q1、Q2和R具有与权利要求书和说明书中定义的相同含义，并且还提供一种含有上述式(I)所示的盐的化学放大型抗蚀剂组合物。

公开(公告)号：CN1673861A

公开(公告)日：2005-09-28

申请号：CN200510056001.9

申请日：2005-03-21

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 户石好治 ,  高田佳幸 ,  山口训史

IPC: G03F7/004 ,  C23F1/00

CPC classification number: G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

Abstract: 本发明提供一种化学放大型正光刻胶组合物，其包含：树脂，所述的树脂含有具有酸不稳定基团的结构单元且其本身不溶于或难溶于碱性水溶液且通过酸的作用而变成在碱性水溶液中可溶的；酸生成剂；和式(C－1)的化合物，其中R1和R2各自独立地表示氢或含有1至4个碳原子的烷基，R3、R4和R5各自独立地表示氢或羟基。