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公开(公告)号:CN109134263A
公开(公告)日:2019-01-04
申请号:CN201810553627.8
申请日:2018-05-31
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限责任公司
IPC: C07C69/78 , C07C69/84 , G03F7/004 , G03F7/20 , G02F1/1335
CPC classification number: G03F7/004 , C08F16/24 , C08F220/28 , C08F2220/283 , C08L27/00 , C08L27/10 , C08L73/00 , C08L81/06 , C08L81/08 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/2002 , H01L21/0274 , C08F220/18 , C08F220/22 , C07C69/78 , C07C69/84 , G02F1/1335 , G03F7/20
Abstract: 用于化学增幅抗蚀剂组合物的含碘聚合物。一种单体,具有式(I):其中在式(I)中,基团和变量与本说明书中所述的相同。
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公开(公告)号:CN104610511B
公开(公告)日:2018-11-16
申请号:CN201410635503.6
申请日:2014-11-05
Applicant: 帝斯曼知识产权资产管理有限公司
IPC: C08F283/10 , C08F222/20 , C08F222/14 , C08G59/22 , C08G59/24 , C08K3/36 , C08J3/28 , C08J3/24
CPC classification number: C08K3/36 , B29C64/135 , B29K2063/00 , B29K2105/0088 , B29K2105/246 , B29K2509/02 , B33Y70/00 , C08F2/50 , C08F222/1006 , C08K2201/011 , C08L33/10 , G03F7/0037 , G03F7/0045 , G03F7/0047 , G03F7/027 , G03F7/038 , Y10T428/31511
Abstract: 本文描述并且要求保护用于加成制造的稳定的基质填充的液体可辐射固化树脂组合物。所述树脂包含为脂肪族环氧化物的阳离子可聚合组分、多官能(甲基)丙烯酸酯组分、阳离子型光引发剂、自由基型光引发剂、以及无机填料的基质,其中所述基质进一步包含规定比例的至少一种微米颗粒成分和至少一种纳米颗粒成分。本文还描述和要求保护一种用于使用用于加成制造的基质填充的液体可辐射固化树脂形成三维部件的方法,和由用于加成制造的所述液体可辐射固化树脂制成的所述三维部件。
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公开(公告)号:CN104144912B
公开(公告)日:2018-07-31
申请号:CN201380011666.0
申请日:2013-03-05
Applicant: 株式会社艾迪科
IPC: C07D209/86 , C07D209/88 , C07D401/12 , C07D403/12 , G03F7/004
CPC classification number: G03F7/0045 , C07D209/86 , C07D209/88 , C07D211/70 , C07D233/06 , C07D241/06 , C07D401/12 , C07D403/12 , G03F7/038
Abstract: 本发明提供具有能够令人满意的感度(碱产生能力)的新型化合物、含有该化合物作为光引发剂的感光性树脂组合物及其固化物。具体而言,提供由下述通式(1)表示的化合物、含有包含至少种该化合物的光引发剂(A)以及感光性树脂(B)的感光性树脂组合物。作为由下述通式(1)表示的化合物,优选R为无取代或具有取代基的碳原子数为6~20的芳香族烃基的化合物、R、R、R、R、R、R和R中至少个为硝基的化合物、n为0的化合物。另外,关于上述通式(1)的具体内容,如本说明书中所述。
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公开(公告)号:CN108255019A
公开(公告)日:2018-07-06
申请号:CN201711451906.5
申请日:2017-12-28
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: G03F7/004 , C07C381/12 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/2059 , G03F7/322
Abstract: 本发明涉及化学增幅型正型抗蚀剂组合物和抗蚀剂图案形成方法。包含适于在酸的作用下分解以增大其在碱显影剂中的溶解度的聚合物和式(A)的锍化合物的正型抗蚀剂组合物具有高分辨率。通过光刻加工该抗蚀剂组合物时,能够形成具有最小LER的图案。
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公开(公告)号:CN104345557B
公开(公告)日:2018-06-22
申请号:CN201410371583.9
申请日:2014-07-31
Applicant: 奇美实业股份有限公司
Inventor: 蔡宇杰
CPC classification number: G03F7/038 , G03F7/0045 , G03F7/40 , H01L27/3246
Abstract: 本发明提供一种负型感光性树脂组合物,其包括碱可溶性树脂(A)、光致产酸剂(B)、碱性化合物(C)、交联剂(D)以及溶剂(E)。碱可溶性树脂(A)包括丙烯酸酯系树脂(A‑1)与酚醛清漆树脂(A‑2)。丙烯酸酯系树脂(A‑1)是由聚合用单体聚合而得,其中所述聚合用单体包括不饱和羧酸或不饱和羧酸酐的单体(a‑1‑1)与单体(a‑1‑2),并且单体(a‑1‑2)包括具有三环癸烷或双环戊二烯结构的化合物(a‑1‑2‑1)、式(1)所示的化合物(a‑1‑2‑2)或上述两者的组合。酚醛清漆树脂(A‑2)是由醛类化合物与芳香族羟基化合物聚合而得,其中芳香族羟基化合物包括二甲酚类化合物。
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公开(公告)号:CN108107676A
公开(公告)日:2018-06-01
申请号:CN201711186205.3
申请日:2017-11-24
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/094 , G03F7/11 , G03F7/161 , G03F7/20 , G03F7/30 , G03F7/40 , G03F7/0045 , G03F7/0048 , G03F7/0163
Abstract: 本发明涉及化学增幅正型抗蚀剂膜层叠体和图案形成方法。提供层叠体,其包括热塑性膜和其上的化学增幅正型抗蚀剂膜,该抗蚀剂膜包含:(A)具有羟基苯基和保护基团的基础聚合物,该聚合物由于在酸的作用下保护基团被除去而变为碱可溶,(B)光致产酸剂,(C)有机溶剂,和(D)在其主链中具有酯键的聚合物。该抗蚀剂膜可被转印至台阶形支承体而不形成空隙。
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公开(公告)号:CN103676477B
公开(公告)日:2018-05-08
申请号:CN201310543175.2
申请日:2013-09-16
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
Inventor: P·J·拉宝美
CPC classification number: G03F7/0382 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/20
Abstract: 本发明提供了特别用作光致抗蚀剂组合物组分的生酸剂化合物。在一个优选的方面,本发明提供了环锍盐和包含这种化合物的光致抗蚀剂组合物。在另一个优选的方面,本发明还提供了包含一个或多个共价连接的酸不稳定性部分,特别是含有酯的酸不稳定性部分的生酸剂化合物。
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公开(公告)号:CN107957657A
公开(公告)日:2018-04-24
申请号:CN201710951406.1
申请日:2017-10-13
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0752 , C08L83/06 , C08L83/14 , C09D183/06 , C09D183/14 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/0757 , G03F7/11 , G03F7/0045
Abstract: 膜材料包括相对于波长300-450nm的光具有至少60%透射率的支持膜和含有0.001-10重量%的具有至多10,000分子量的碱性化合物并且具有1-100μm的厚度的树脂层。通过将膜材料中的树脂层贴附至晶片上的化学放大负型抗蚀剂层,曝光,烘焙和显影抗蚀剂层形成图案。改进了图案中的开口的轮廓。
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公开(公告)号:CN107954940A
公开(公告)日:2018-04-24
申请号:CN201610903390.2
申请日:2016-10-17
IPC: C07D241/42 , C07D241/06 , C07D241/38 , C07F9/50 , G03F7/027 , G03F7/004
CPC classification number: C07D241/42 , C07D241/06 , C07D241/38 , C07F9/5022 , G03F7/004 , G03F7/0045 , G03F7/027
Abstract: 本发明提供一种具有如下结构式的多肟酯、及其用途以及感光性树脂组合物:其中,R1和R2分别独立表示如下的2价有机基团:不取代或者被取代基取代的烷基、或者、不取代或者被取代基取代的芳基;R3和R4分别独立表示如下的1价有机基团:不取代或者被取代基取代的烷基、不取代或者被取代基取代的环烷基、不取代或者被取代基取代的氨基、不取代或者被取代基取代的芳基、或不取代或者被取代基取代的杂环基;R5和R6分别独立表示氢原子、或者不取代或者被取代基取代的芳基、或者、R5和R6相互结合与吡嗪骨架的2个碳原子一起形成环;X表示硫原子、氧原子、硒原子、氮原子、或者磷原子;m表示1~2的整数。
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公开(公告)号:CN107880017A
公开(公告)日:2018-04-06
申请号:CN201710868485.X
申请日:2017-09-22
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限责任公司
IPC: C07D333/76 , C07D335/16 , C07C381/12 , G03F7/039
CPC classification number: G03F7/0045 , C07C309/12 , C07C381/12 , C07C2603/74 , C07D333/76 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/32 , G03F7/38 , H01L21/0274 , C07D335/16 , G03F7/039
Abstract: 一种具有式(I)的光可破坏淬灭剂:式(I)其中在式(I)中,基团和变量与说明书中所描述的相同。
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