液晶显示设备
    11.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1996106A

    公开(公告)日:2007-07-11

    申请号:CN200710001829.3

    申请日:2007-01-05

    Abstract: 本发明公开了一种液晶显示设备,该设备能够在长时间内防止产生闪烁。该设备包括液晶调制元件,该液晶调制元件包括第一电极、由不同于第一电极的材料的材料制成的第二电极、位于第一和第二电极之间的液晶层、位于第一电极和液晶层之间的第一对准膜、以及位于第二电极和液晶层之间的第二对准膜。该设备还包括控制器,该控制器改变要向第一电极施加的电势和要向第二电极施加的电势(要向第二电极施加的电势相对于中心电势在正和负之间周期性地改变)的中心电势两者中的至少一个,以便将闪烁抑制在某一范围内。

    表面处理方法和用该方法处理过的材料

    公开(公告)号:CN1384133A

    公开(公告)日:2002-12-11

    申请号:CN02121881.1

    申请日:2002-04-26

    Inventor: 小出纯

    CPC classification number: C08J7/12 B05D3/061 B05D2201/02

    Abstract: 本发明涉及一种通过用光照射相互接触的待处理材料和介体材料的方式而对待处理材料的表面进行处理的表面处理方法,介体材料自身在光照期间基本上不发生相互作用。待处理材料的表面通过提供一个化学反应场来进行处理,在该化学反应场中,通过光照,通过采用待处理材料与介体材料之间的接触界面和光照区的逻辑产物,待处理材料的取代基和介体材料的原子团中的原子同时通过激发而被诱导,由此引起并进行键合状态转变。

    表面处理方法
    16.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1206263C

    公开(公告)日:2005-06-15

    申请号:CN02121881.1

    申请日:2002-04-26

    Inventor: 小出纯

    CPC classification number: C08J7/12 B05D3/061 B05D2201/02

    Abstract: 本发明涉及一种通过用光照射相互接触的待处理材料和介体材料的方式而对待处理材料的表面进行处理的表面处理方法,介体材料自身在光照期间基本上不发生相互作用。待处理材料的表面通过提供一个化学反应场来进行处理,在该化学反应场中,通过光照,通过采用待处理材料与介体材料之间的接触界面和光照区的逻辑产物,待处理材料的取代基和介体材料的原子团中的原子同时通过激发而被诱导,由此引起并进行键合状态转变。

    激光腐蚀方法及其装置
    17.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1191909C

    公开(公告)日:2005-03-09

    申请号:CN00134285.1

    申请日:2000-11-30

    Inventor: 小出纯

    Abstract: 本发明提供了一种借助于用来自能够依次发射脉冲辐射时间不超过1皮秒的空间上和时间上大能量密度的光脉冲的激光振荡器的激光,辐照无机材料组成的工件而进行光学烧蚀加工的激光腐蚀方法,其中,在借助于用来自具有预定图形和具有预定能量密度的激光振荡器的激光对其辐照的无机材料组成的工件的激光腐蚀过程中,利用了用来防止加工副产品在腐蚀位置周围沉积的装置。

    激光加工法、利用该方法生产喷墨记录头和喷墨记录头

    公开(公告)号:CN1287901A

    公开(公告)日:2001-03-21

    申请号:CN00124260.1

    申请日:2000-06-30

    Inventor: 小出纯

    Abstract: 采用飞秒激光器并且采用通过与激光器振荡异步地进行扫描来照射掩模图案的方法进行升华加工,从而形成一个通过激光束衍射穿过掩模图案而产生的光斑干涉的完整的图象,并且与图案图象同步地移动工件,从而该激光加工法就不会产生副产品并能够进行高精度的加工,通过掩模投影在加工中抑制了光斑干涉,从而精确地复制了所述精密的掩模图案,以及通过对一个大面积图案进行投影来加工工件,一种利用这种激光加工法制造喷墨记录头的方法及一种通过所提供的这种加工法而制成的喷墨记录头。

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