物品的预览检验方法及其设备

    公开(公告)号:CN1172177C

    公开(公告)日:2004-10-20

    申请号:CN01140762.X

    申请日:2001-07-27

    CPC classification number: G01N27/205

    Abstract: 本发明提供了一种用于在目测前对检验品预览检验的方法,该方法包括:缺陷信号检测步骤用于在所述检验品的缺陷状态的基础上检测缺陷信号,详细缺陷信息产生步骤用于在由所述缺陷信号检测步骤检测到的缺陷信号的基础上产生详细缺陷信息,以及详细缺陷信息显现步骤用于在所述检验品上显现由所述详细缺陷信息产生步骤产生的详细缺陷信息,以及一种用于在目测前对检验品预览检验的设备,该设备包括缺陷信号检测装置用于在所述检验品的缺陷状态的基础上检测缺陷信号,详细缺陷信息产生装置用于在由所述缺陷信号检测装置检测到的缺陷信号的基础上产生详细缺陷信息,以及详细缺陷信息显现装置用于在所述检验品上显现由所述详细缺陷信息产生装置产生的详细缺陷信息。

    物品的预览检验方法及其设备

    公开(公告)号:CN1339700A

    公开(公告)日:2002-03-13

    申请号:CN01140762.X

    申请日:2001-07-27

    CPC classification number: G01N27/205

    Abstract: 本发明提供了一种用于在目测前对检验品预览检验的方法,该方法包括:缺陷信号检测步骤用于在所述检验品的缺陷状态的基础上检测缺陷信号,详细缺陷信息产生步骤用于在由所述缺陷信号检测步骤检测到的缺陷信号的基础上产生详细缺陷信息,以及详细缺陷信息显现步骤用于在所述检验品上显现由所述详细缺陷信息产生步骤产生的详细缺陷信息,以及一种用于在目测前对检验品预览检验的设备,该设备包括缺陷信号检测装置用于在所述检验品的缺陷状态的基础上检测缺陷信号,详细缺陷信息产生装置用于在由所述缺陷信号检测装置检测到的缺陷信号的基础上产生详细缺陷信息,以及详细缺陷信息显现装置用于在所述检验品上显现由所述详细缺陷信息产生装置产生的详细缺陷信息。

    电摄影光敏元件的生产方法

    公开(公告)号:CN1258023A

    公开(公告)日:2000-06-28

    申请号:CN99127720.1

    申请日:1999-11-26

    CPC classification number: G03G5/102

    Abstract: 一种电摄影光敏元件的生产方法,包括下列步骤a)和b)中至少一步和下列步骤c)和d);a)用酸和碱中的至少一种蚀刻铝基片;b)用含有5%体积或更多的球形磨料的磨料分散体磨蚀铝基片,以累计百分率计,50%的球形磨料直径是5μm至60μm;c)对已经步骤a)和b)中至少一步处理过的铝基片,用含钛盐或锆盐的酸性水溶液进行化学转化;和d)在已经化学转化的铝基片上形成光敏层。

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