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公开(公告)号:CN1172177C
公开(公告)日:2004-10-20
申请号:CN01140762.X
申请日:2001-07-27
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G01N27/205
Abstract: 本发明提供了一种用于在目测前对检验品预览检验的方法,该方法包括:缺陷信号检测步骤用于在所述检验品的缺陷状态的基础上检测缺陷信号,详细缺陷信息产生步骤用于在由所述缺陷信号检测步骤检测到的缺陷信号的基础上产生详细缺陷信息,以及详细缺陷信息显现步骤用于在所述检验品上显现由所述详细缺陷信息产生步骤产生的详细缺陷信息,以及一种用于在目测前对检验品预览检验的设备,该设备包括缺陷信号检测装置用于在所述检验品的缺陷状态的基础上检测缺陷信号,详细缺陷信息产生装置用于在由所述缺陷信号检测装置检测到的缺陷信号的基础上产生详细缺陷信息,以及详细缺陷信息显现装置用于在所述检验品上显现由所述详细缺陷信息产生装置产生的详细缺陷信息。
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公开(公告)号:CN1084888C
公开(公告)日:2002-05-15
申请号:CN95107391.5
申请日:1995-06-09
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G03G5/0517 , G03G5/047 , G03G5/0681 , G03G5/0687 , G03G5/0696
Abstract: 在支撑体上依次设置电荷产生层和电荷迁移层构成的电子照相光敏元件。电荷产生层含有酞菁氧钛、一种偶氮颜料和一种受阻酚。包括这种电荷产生层的电子照相光敏元件可用于提供设备单元和电子照相设备,它们显示了优良的电子照相性,如低光记忆性、重复使用中良好的电势稳定性以及良好的成像性。
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公开(公告)号:CN1339700A
公开(公告)日:2002-03-13
申请号:CN01140762.X
申请日:2001-07-27
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G01N27/205
Abstract: 本发明提供了一种用于在目测前对检验品预览检验的方法,该方法包括:缺陷信号检测步骤用于在所述检验品的缺陷状态的基础上检测缺陷信号,详细缺陷信息产生步骤用于在由所述缺陷信号检测步骤检测到的缺陷信号的基础上产生详细缺陷信息,以及详细缺陷信息显现步骤用于在所述检验品上显现由所述详细缺陷信息产生步骤产生的详细缺陷信息,以及一种用于在目测前对检验品预览检验的设备,该设备包括缺陷信号检测装置用于在所述检验品的缺陷状态的基础上检测缺陷信号,详细缺陷信息产生装置用于在由所述缺陷信号检测装置检测到的缺陷信号的基础上产生详细缺陷信息,以及详细缺陷信息显现装置用于在所述检验品上显现由所述详细缺陷信息产生装置产生的详细缺陷信息。
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公开(公告)号:CN1258023A
公开(公告)日:2000-06-28
申请号:CN99127720.1
申请日:1999-11-26
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03G5/10
CPC classification number: G03G5/102
Abstract: 一种电摄影光敏元件的生产方法,包括下列步骤a)和b)中至少一步和下列步骤c)和d);a)用酸和碱中的至少一种蚀刻铝基片;b)用含有5%体积或更多的球形磨料的磨料分散体磨蚀铝基片,以累计百分率计,50%的球形磨料直径是5μm至60μm;c)对已经步骤a)和b)中至少一步处理过的铝基片,用含钛盐或锆盐的酸性水溶液进行化学转化;和d)在已经化学转化的铝基片上形成光敏层。
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公开(公告)号:CN1117149A
公开(公告)日:1996-02-21
申请号:CN95107391.5
申请日:1995-06-09
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03G5/00
CPC classification number: G03G5/0517 , G03G5/047 , G03G5/0681 , G03G5/0687 , G03G5/0696
Abstract: 在支撑体上依次设置电荷产生层和电荷迁移层构成的电子照相光敏元件。电荷产生层含有酞菁氧钛、一种偶氮颜料和一种受阻酚。包括这种电荷产生层的电子照相光敏元件可用于提供设备单元和电子照相设备。它们显示了优良的电子照相性,如低光记忆性、重复使用中良好的电势稳定性以及良好的成像性。
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