公开(公告)号：CN116136645A

公开(公告)日：2023-05-19

申请号：CN202211459788.3

申请日：2022-11-17

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 福岛将大 ,  提箸正义 ,  山田健司 ,  片山和弘

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  C08F220/22 ,  C08F212/14 ,  C08F220/38

Abstract: 本发明涉及化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供在使用高能射线的光学光刻中为高感度且LWR及CDU有所改善的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用此组成物的图案形成方法。一种化学增幅抗蚀剂组成物，包含：(A)聚合物P，因酸作用而改变对于显影液的溶解性，包含具有含有预定的含氟原子的芳香环的酸不稳定基团的重复单元、具有苯酚性羟基的重复单元及预定的因曝光而产酸的重复单元；(B)鎓盐型淬灭剂；及(C)溶剂。

公开(公告)号：CN108255015B

公开(公告)日：2021-04-09

申请号：CN201711458964.0

申请日：2017-12-28

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 小竹正晃 ,  渡边聪 ,  增永惠一 ,  山田健司 ,  大桥正树

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及化学增幅型负型抗蚀剂组合物和抗蚀剂图案形成方法。本发明提供负型抗蚀剂组合物，其包含具有式(A)的锍化合物和基础聚合物。该抗蚀剂组合物在图案形成过程中显示出高分辨率并且形成具有最小LER的图案。

公开(公告)号：CN107688278A

公开(公告)日：2018-02-13

申请号：CN201710659370.X

申请日：2017-08-04

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 增永惠一 ,  渡边聪 ,  小竹正晃 ,  山田健司 ,  大桥正树

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/004 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明涉及负型抗蚀剂组合物及抗蚀图案形成方法。本发明提供了一种包含(A)甜菜碱型的锍化合物和(B)聚合物的负型抗蚀剂组合物。该抗蚀剂组合物对于在曝光步骤期间控制酸扩散是有效的，且在图案形成期间呈现出非常高的分辨率，并形成具有最小LER的图案。