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公开(公告)号：CN111123651B
公开(公告)日：2023-08-22
申请号：CN201911044993.1
申请日：2019-10-30
申请人： 信越化学工业株式会社
摘要： 本发明涉及基板保护膜形成用组合物和图案形成方法。包括下述组分的组合物适于形成基板与抗蚀剂膜之间的保护膜：(A)聚合物，其包含具有用酸不稳定基团保护的羧基的重复单元(a1)和具有环状酯、环状碳酸酯或环状磺酸酯结构的重复单元(a2)，(B)热致产酸剂，和(C)有机溶剂。即使使用含有金属的抗蚀剂膜，该保护膜对于防止该基板被金属污染也有效。
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公开(公告)号：CN116136645A
公开(公告)日：2023-05-19
申请号：CN202211459788.3
申请日：2022-11-17
申请人： 信越化学工业株式会社
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039 , C08F220/22 , C08F212/14 , C08F220/38
摘要： 本发明涉及化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供在使用高能射线的光学光刻中为高感度且LWR及CDU有所改善的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用此组成物的图案形成方法。一种化学增幅抗蚀剂组成物，包含：(A)聚合物P，因酸作用而改变对于显影液的溶解性，包含具有含有预定的含氟原子的芳香环的酸不稳定基团的重复单元、具有苯酚性羟基的重复单元及预定的因曝光而产酸的重复单元；(B)鎓盐型淬灭剂；及(C)溶剂。
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公开(公告)号：CN111662249B
公开(公告)日：2023-04-18
申请号：CN202010147905.7
申请日：2020-03-05
申请人： 信越化学工业株式会社
IPC分类号： C07D303/40 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039
摘要： 本发明涉及环氧化合物、抗蚀剂组合物、及图案形成方法。本发明的课题为提供无损感度而能适当地控制产生自产酸剂的酸的扩散长度的抗蚀剂组合物、及使用了该抗蚀剂组合物的图案。该课题的解决方法为以下式(1)表示的环氧化合物、及含有该环氧化合物的抗蚀剂组合物。式中，X1及X2分别独立地为‑CH2‑或‑O‑。kA为0或1。R1及R2分别独立地为碳数4～20的叔烃基、或选自于下式中的基团。式中，虚线为价键。
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公开(公告)号：CN111499500B
公开(公告)日：2024-04-23
申请号：CN202010077624.9
申请日：2020-01-31
申请人： 信越化学工业株式会社
IPC分类号： C07C43/23 , C08F220/38 , C08F212/14 , H10K50/805
摘要： 本发明提供一种适合用作燃料电池用或导电材料用的掺杂剂的导电聚合物用高分子化合物与其制备方法，该导电聚合物用高分子化合物由共聚聚合物形成，该共聚聚合物含有具有氟磺酸、氟磺酰亚胺基、正羰基氟磺酰胺基的重复单元与具有3,3,3‑三氟‑2‑羟基‑2‑三氟甲基异丁醚基的苯乙烯的重复单元。使用下述通式(1)所表示的聚合性单体与选自具有由氟磺酸等的锂盐、钠盐、钾盐、氮化合物盐构成的盐结构的单体中的一种以上的单体，进行聚合反应，通过离子交换，将通过聚合反应而得到的聚合物的重复单元的盐结构变换为氟磺酸等。[化学式1]#imgabs0#
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公开(公告)号：CN111665684B
公开(公告)日：2023-08-25
申请号：CN202010148552.2
申请日：2020-03-05
申请人： 信越化学工业株式会社
摘要： 本发明涉及正型光阻抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是提供PED稳定性优异、DOF特性优异、LWR良好、可形成拖尾受到抑制的形状的图案的正型抗蚀剂组成物、及使用该正型抗蚀剂组成物的图案形成方法。一种正型抗蚀剂组成物，含有：(A)下式(1)表示的第1鎓盐化合物；(B)下式(2)表示的第2鎓盐化合物；(C)基础聚合物，该基础聚合物含有下式(a)表示的含酸不稳定基团的重复单元、及视需要的下式(b)表示的含酸不稳定基团的重复单元，且其碱溶解性会因酸而改善(但是，含有下式(b)表示的含酸不稳定基团的重复单元时，酸不稳定基团的碳数为14以上者在全部重复单元中为5摩尔％以下的话，则亦可含有。)；及(D)有机溶剂。
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公开(公告)号：CN111187235B
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN201911101447.7
申请日：2019-11-12
申请人： 信越化学工业株式会社
IPC分类号： C07D307/00 , C07C309/12 , C07C381/12 , C07D333/76 , C07D333/08 , C07D327/06 , G03F7/004 , G03F7/20 , G03F7/30
摘要： 本发明涉及新型盐化合物、化学增幅抗蚀剂组合物、及图案形成方法。本发明的课题是提供一种化学增幅抗蚀剂组合物，其在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极紫外线等高能量射线作为光源的光刻中，缺陷少，感度、LWR、MEF、CDU等优异；并提供使用该化学增幅抗蚀剂组合物的图案形成方法。一种盐化合物，其由下式(A)表示。
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公开(公告)号：CN111665684A
公开(公告)日：2020-09-15
申请号：CN202010148552.2
申请日：2020-03-05
申请人： 信越化学工业株式会社
摘要： 本发明涉及正型光阻抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是提供PED稳定性优异、DOF特性优异、LWR良好、可形成拖尾受到抑制的形状的图案的正型抗蚀剂组成物、及使用该正型抗蚀剂组成物的图案形成方法。一种正型抗蚀剂组成物，含有：(A)下式(1)表示的第1鎓盐化合物；(B)下式(2)表示的第2鎓盐化合物；(C)基础聚合物，该基础聚合物含有下式(a)表示的含酸不稳定基团的重复单元、及视需要的下式(b)表示的含酸不稳定基团的重复单元，且其碱溶解性会因酸而改善(但是，含有下式(b)表示的含酸不稳定基团的重复单元时，酸不稳定基团的碳数为14以上者在全部重复单元中为5摩尔％以下的话，则亦可含有。)；及(D)有机溶剂。
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公开(公告)号：CN117683173A
公开(公告)日：2024-03-12
申请号：CN202311164217.1
申请日：2023-09-11
申请人： 信越化学工业株式会社
IPC分类号： C08F220/38 , G03F7/004 , G03F7/039 , C08F212/14 , C08F220/18
摘要： 本发明涉及聚合物、抗蚀剂组成物、及图案形成方法。本发明的课题是提供：尤其在电子束及波长13.5nm的极紫外线(EUV)中，为高感度、高分辨率、高对比度，且可形成LWR及CDU小的图案，同时蚀刻耐性优良的抗蚀剂组成物中所含有的聚合物、含有该聚合物的抗蚀剂组成物、以及使用其的图案形成方法。本发明的解决手段是一种聚合物，其特征在于，含有下式(A‑1)表示的重复单元、及选自下式(B‑1)、(B‑2)、(B‑3)、及(B‑4)中的任意1种以上表示的通过曝光而产生酸的重复单元、及上述式(A‑1)表示的重复单元以外的下式(a‑1)或(a‑2)表示的重复单元。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN116819888A
公开(公告)日：2023-09-29
申请号：CN202310309036.7
申请日：2023-03-28
申请人： 信越化学工业株式会社
摘要： 本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明课题为提供即使在高曝光量区域仍因高分辨度而使粗糙度或孔洞图案的尺寸均匀性减少，曝光后的图案形状良好且蚀刻耐性优良的抗蚀剂组成物。该课题解决手段为一种抗蚀剂组成物，含有：树脂(A)，具有通式(p‑1)表示的重复单元、通式(a‑1)表示的因酸的作用而极性会变化并成为可溶于碱水溶液的重复单元、及通式(b‑1)表示的重复单元，树脂(B)，具有通式(p‑2)表示的重复单元、通式(a‑1)表示的因酸的作用而极性会变化并成为可溶于碱水溶液的重复单元、及通式(b‑1)表示的重复单元，及溶剂(D)；其中，该抗蚀剂组成物所含的该树脂(A)的含量比该树脂(B)的含量少。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN105717744B
公开(公告)日：2020-10-23
申请号：CN201510955723.1
申请日：2015-12-18
申请人： 信越化学工业株式会社
IPC分类号： G03F7/039 , C08F220/28 , C08F220/32 , C08F220/38 , C07C69/533 , C07C69/54
摘要： 提供具有多个叔醇羟基的单体。通过将该单体聚合而得到的有用的聚合物。由包含该聚合物的抗蚀剂组合物，以高分辨率形成在碱显影剂中不可溶并且具有高耐蚀刻性的负型图案。
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