化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法

    公开(公告)号:CN117031878A

    公开(公告)日:2023-11-10

    申请号:CN202310522141.9

    申请日:2023-05-10

    Abstract: 本发明涉及化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明提供一种化学增幅正型抗蚀剂组成物,可形成具有极高分辨性,LER小、矩形性优异、抑制了显影负载的影响的图案的抗蚀剂膜,并提供使用该化学增幅正型抗蚀剂组成物的抗蚀剂图案形成方法。一种化学增幅正型抗蚀剂组成物,包含由酸不稳定基团保护且因酸的作用变成碱可溶性的基础聚合物,该基础聚合物包含含有下式(A1)表示的含苯酚性羟基的单元及下式(A2)表示的羧基被酸不稳定基团保护的重复单元的聚合物,该基础聚合物中含有的聚合物的全部重复单元中,具有芳香环骨架的重复单元为65摩尔%以上。#imgabs0#

    抗蚀剂材料及图案形成方法
    13.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116909093A

    公开(公告)日:2023-10-20

    申请号:CN202310054083.1

    申请日:2023-02-03

    Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供为高感度且LWR、CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料,含有:包含具有由键结于聚合物主链的磺酸阴离子与下式(1)表示的锍阳离子构成的盐结构的重复单元a的基础聚合物。#imgabs0#

    抗蚀剂材料及图案形成方法
    15.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116500861A

    公开(公告)日:2023-07-28

    申请号:CN202310061625.8

    申请日:2023-01-19

    Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题提供为高感度且LWR、CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料,含有:包含下式(1)表示的锍盐的酸产生剂。

    正型抗蚀剂材料及图案形成方法
    16.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116165845A

    公开(公告)日:2023-05-26

    申请号:CN202211476999.8

    申请日:2022-11-23

    Abstract: 本发明涉及正型抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供酸的扩散受到控制,具有优于已知的正型抗蚀剂材料的分辨率,边缘粗糙度、尺寸偏差小,且曝光后的图案形状良好的正型抗蚀剂材料及图案形成方法。该课题的解决手段为一种正型抗蚀剂材料,含有末端被连接于硫醚基的含碘原子的酸的铵盐封端而成的基础聚合物。

    正型抗蚀剂材料及图案形成方法
    17.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116136648A

    公开(公告)日:2023-05-19

    申请号:CN202211445494.5

    申请日:2022-11-18

    Inventor: 畠山润

    Abstract: 本发明涉及正型抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供酸的扩散受到控制,具有优于已知的正型抗蚀剂材料的分辨率,边缘粗糙度、尺寸偏差小,且曝光后的图案形状良好的正型抗蚀剂材料及图案形成方法。该课题的解决手段为一种正型抗蚀剂材料,含有末端被下式(a)‑1~(a)‑3中任一者表示的基团封端而成的基础聚合物。

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