抗蚀剂材料及图案形成方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN120010183A

    公开(公告)日:2025-05-16

    申请号:CN202411614789.X

    申请日:2024-11-13

    Inventor: 畠山润

    Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供无论正型或负型皆为高感度,且LWR及CDU经改善的抗蚀剂材料以及使用其的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料,含有:双鎓盐,含有具有直接键结于被碘原子取代的芳香族基团的磺酸阴离子结构及直接键结于该芳香族基团或间隔含有1个以上的原子的连接基团而键结的磺酰亚胺阴离子结构或磺酰胺阴离子结构的2价阴离子、以及鎓阳离子。

    抗蚀剂材料及图案形成方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119882349A

    公开(公告)日:2025-04-25

    申请号:CN202411482852.9

    申请日:2024-10-23

    Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供无论为正型或负型皆为高感度且LWR及CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料,含有:酸产生剂,含有被碘原子取代的芳基磺酸的锍盐或錪盐。

    抗蚀剂材料及图案形成方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119805859A

    公开(公告)日:2025-04-11

    申请号:CN202411399219.3

    申请日:2024-10-09

    Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供正型或负型皆高感度,且LWR及CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。本发明的解决手段是一种抗蚀剂材料,包含:双鎓盐,其含有具有与具有碘原子或溴原子的芳香族基团连接的α位或β位具有氟原子或三氟甲基的磺酸阴离子结构及与该具有碘原子或溴原子的芳香族基团经由碳数1以上的连接基团进行键结的羧酸阴离子结构的2价阴离子、以及鎓阳离子。

    抗蚀剂材料及图案形成方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119689780A

    公开(公告)日:2025-03-25

    申请号:CN202411314136.X

    申请日:2024-09-20

    Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题为提供无论正型或负型皆为高感度且LWR及CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料,含有:酸产生剂,包含将具有碘原子或溴原子的2个芳香族基连接而成的磺酸的鎓盐。

    生物体电极、及生物体电极的制造方法

    公开(公告)号:CN118415643A

    公开(公告)日:2024-08-02

    申请号:CN202410135514.1

    申请日:2024-01-31

    Inventor: 畠山润

    Abstract: 本发明涉及生物体电极、及生物体电极的制造方法。本发明的课题是提供为薄膜且高透明、与皮肤的颜色仅有些许不同,生物体信号的感度高,生物体适合性优良,为轻量,且能以低成本进行制造,即使被水沾湿或即使干燥,即使长期间贴附于皮肤,生物体信号的感度仍不会大幅地降低,不会产生皮肤搔痒、红斑、皮疹等的舒适的生物体电极、及其制造方法。本发明的解决手段是一种生物体电极,是含有导电性聚合物复合层、(C)导电层、及(D)基材的生物体电极,其特征在于:该导电性聚合物复合层由含有(A)π共轭系聚合物、及(B)掺杂聚合物、的导电性聚合物复合体构成,该(D)基材是于波长600nm的穿透率为20%以上,且孟塞尔色系中为黄红(YR)色,明度为1~9、彩度为1~12的范围者。

    化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法

    公开(公告)号:CN117031878A

    公开(公告)日:2023-11-10

    申请号:CN202310522141.9

    申请日:2023-05-10

    Abstract: 本发明涉及化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明提供一种化学增幅正型抗蚀剂组成物,可形成具有极高分辨性,LER小、矩形性优异、抑制了显影负载的影响的图案的抗蚀剂膜,并提供使用该化学增幅正型抗蚀剂组成物的抗蚀剂图案形成方法。一种化学增幅正型抗蚀剂组成物,包含由酸不稳定基团保护且因酸的作用变成碱可溶性的基础聚合物,该基础聚合物包含含有下式(A1)表示的含苯酚性羟基的单元及下式(A2)表示的羧基被酸不稳定基团保护的重复单元的聚合物,该基础聚合物中含有的聚合物的全部重复单元中,具有芳香环骨架的重复单元为65摩尔%以上。#imgabs0#

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