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公开(公告)号：CN107051979B
公开(公告)日：2020-08-07
申请号：CN201710322442.1
申请日：2017-05-09
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
摘要： 本申请提供了一种紫外光清洗基板的方法及系统，用以在有效去除黏附于基板表面的有机物时不损伤基板，本申请提供的一种紫外光清洗基板的方法包括：将基板划分为至少两个区域，检测所述基板上各个区域的有机物残留量并确定各个区域的位置；根据所述各个区域的有机物残留量，确定清洗各个区域的紫外光辐射量；根据确定的清洗各个区域的紫外光辐射量和各个区域的位置，清洗所述基板。
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公开(公告)号：CN106925492B
公开(公告)日：2019-04-05
申请号：CN201710165484.9
申请日：2017-03-20
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明提供一种涂布液回收装置及涂布系统，属于涂布技术领域，其可解决现有的涂布工艺中的涂布液浪费的问题。本发明的涂布液回收装置，包括：第一回收容器、旋转单元、输送单元、脱泡单元；其中，所述第一回收容器设置在旋转组件上，用于回收涂布装置的液体回收槽的排液口所排出的涂布液；所述旋转单元，用于对所述第一回收容器中涂布液进行离心处理；所述输送单元连接在所述第一回收容器与所述脱泡单元之间，用于将离心处理后的涂布液输送至脱泡单元；所述脱泡单元，用于对输入至其中的涂布液进行脱泡处理，并将脱泡处理后的涂布液排出给涂布装置的喷头。
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公开(公告)号：CN107356447A
公开(公告)日：2017-11-17
申请号：CN201710589780.1
申请日：2017-07-19
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G01M99/00
摘要： 本发明公开了一种设备磨损异常诊断方法、系统及装置，涉及磨损检测相关技术领域，其中，所述方法包括：根据设备运行时序图，相应获取当前运动设备部件的气流场中的微粒数据；根据所述微粒数据判断发生异常的气流场对应的设备部件；针对异常设备部件，获取声音或振动数据，并且将声音或振动数据与微粒数据进行融合处理，得到同一时间标准下声音或振动数据与微粒数据之间的复合关系；根据声音或振动数据与微粒数据之间的复合关系，判断磨损发生的具体位置或动作。所述设备磨损异常诊断方法、系统及装置能够准确获取设备中的运动机构发生异常磨损的位置或动作。
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公开(公告)号：CN107051979A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201710322442.1
申请日：2017-05-09
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
CPC分类号： B08B7/0057 , B08B11/04
摘要： 本申请提供了一种紫外光清洗基板的方法及系统，用以在有效去除黏附于基板表面的有机物时不损伤基板，本申请提供的一种紫外光清洗基板的方法包括：将基板划分为至少两个区域，检测所述基板上各个区域的有机物残留量并确定各个区域的位置；根据所述各个区域的有机物残留量，确定清洗各个区域的紫外光辐射量；根据确定的清洗各个区域的紫外光辐射量和各个区域的位置，清洗所述基板。
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