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公开(公告)号：CN103283306B
公开(公告)日：2016-07-20
申请号：CN201180062835.4
申请日：2011-12-20
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: H01L21/02104 , C23C14/042 , C23C16/042 , H01L27/3211 , H01L33/005 , H01L51/0011 , H01L51/524 , H01L51/56 , H01L2251/566 , H05B33/04 , H05B33/10
Abstract: 在基板（3）中的形成蒸镀膜的面，以在包含显示区域（R1）的、密封树脂（11）呈框状形成的密封区域内具有开口部的方式形成光致抗蚀剂（13），接着形成具有条状的图案的发光层（8R、8G、8B），接着以剥离液除去光致抗蚀剂（13），从而形成被高精细地图案形成的发光层（8R、8G、8B）。
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公开(公告)号：CN104968827A
公开(公告)日：2015-10-07
申请号：CN201480007204.6
申请日：2014-01-28
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: C23C16/042 , C23C14/04 , C23C14/12 , H01L51/001 , H01L51/50
Abstract: 蒸镀装置(50)包括Y轴和X轴方向的长度比被成膜基板(200)短的多个蒸镀掩模(80)，在Y轴方向上相邻的蒸镀掩模(80)在X轴方向上错开地配置，在Y轴方向上相邻的各掩模开口组区域(82)在X轴方向上重叠的重叠区域(83)中，在平面视图中Y轴方向的开口长度随着向各掩模开口组区域(82)的外侧去而逐渐变短。
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公开(公告)号：CN103430625A
公开(公告)日：2013-12-04
申请号：CN201280012948.8
申请日：2012-03-09
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: H01L51/56 , C23C14/042 , C23C14/12 , C23C14/243 , H05B33/10
Abstract: 蒸镀装置(1)通过蒸镀处理在被成膜基板(40)上形成规定图案的发光层(47)，蒸镀装置(1)包括：喷嘴(13)，其形成有在进行蒸镀处理时向被成膜基板(40)射出形成发光层(47)的蒸镀颗粒(17)的多个射出口(16)；和多个限制板(20)，该多个限制板(20)配置于喷嘴(13)与被成膜基板(40)之间，对从多个射出口(16)射出的蒸镀颗粒(17)相对于被成膜基板(40)的入射角进行限制，喷嘴(13)包括：在配置被成膜基板(40)的一侧的面具有开口部(14c)的容器形状的喷嘴主体(14b)；和多个块体(15)，该多个块体(15)覆盖开口部(14c)，相互分离，且分别形成有多个射出口(16)。由此，形成高精细的蒸镀膜图案。
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公开(公告)号：CN103429784A
公开(公告)日：2013-12-04
申请号：CN201280012570.1
申请日：2012-03-05
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: H01L51/0011 , C23C14/24 , C23C14/243 , C23C14/564 , H01L21/02104 , H01L51/001 , H01L51/56
Abstract: 蒸镀颗粒射出装置（20）具备：坩埚（22）；具有至少1个射出口（21a）的保持件（21）；和设置在保持件（21）内的板状部件（23～25）。板状部件（23～25）具有与射出口（21a）对应设置的开口部（23a～25a），并且板状部件（23～25）在与开口面垂直的方向上相互分离地设置。射出口（21a）和各开口部（23a～25a）在俯视时彼此重叠。
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公开(公告)号：CN103270816A
公开(公告)日：2013-08-28
申请号：CN201180062848.1
申请日：2011-12-20
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: H01L51/56 , C23C14/042 , C23C16/042 , H01L21/02104 , H01L27/3211 , H01L51/0011 , H01L2227/323 , H01L2251/566 , H05B33/04 , H05B33/10
Abstract: 屏蔽膜（13）以在显示区域（R1）（发光区域）和密封区域内具有开口部的方式形成，接着形成具有条状的图案的发光层（8R、8G、8B），接着剥离屏蔽膜（13），从而形成被高精细地图案形成的发光层（8R、8G、8B）。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103238375A
公开(公告)日：2013-08-07
申请号：CN201180058067.5
申请日：2011-12-13
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: H01L22/10 , C23C14/042 , C23C14/12 , C23C14/243 , H01L51/0011 , H01L51/56 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 使基板(10)与蒸镀掩模(70)在隔开固定间隔的状态下相对地移动，同时使从蒸镀源(60)的蒸镀源开口(61)放出的蒸镀颗粒(91)依次通过限制板单元(80)所具有的多个限制板(81)间的空间(82)和蒸镀掩模的掩模开口(71)并附着在基板上，形成覆膜(90)。判断是否需要对多个限制板中的至少一个的X轴方向位置进行校正，在需要进行校正的情况下，对多个限制板中的至少一个的X轴方向位置进行校正。由此，能够在大型基板上的预期位置上稳定地形成抑制了端缘的模糊的覆膜。
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公开(公告)号：CN103210113A
公开(公告)日：2013-07-17
申请号：CN201180054721.5
申请日：2011-12-13
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: H01L51/56 , C23C14/042 , C23C14/12 , C23C14/243 , H01L51/0011 , H01L51/50
Abstract: 依次配置有蒸镀源（60）、限制板单元（80）和蒸镀掩模（70）。限制板单元具备沿第一方向配置的多个限制板（81）。在第一方向上规定限制空间的限制板的侧面构成为：相对于在第一方向上相邻的限制板间的限制空间（82）的第一方向尺寸最狭窄的最狭窄部（81n），至少在蒸镀源侧，形成限制空间的第一方向尺寸比最狭窄部宽的部位。由此，能够在大型基板上的期望位置形成端缘的模糊被抑制的覆膜。
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公开(公告)号：CN103154300A
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201180046926.9
申请日：2011-09-26
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: H05B33/10 , C23C14/042 , C23C14/12 , C23C14/24 , C23C14/562 , H01L51/001
Abstract: 蒸镀装置(50)包括：掩模单元(54)，其包括蒸镀源(70)、蒸镀掩模(60)和掩模保持部件(80)；基板保持具(52)；掩模单元移动机构(55)和基板移动机构(53)中的至少一个。在基板保持具(52)和掩模保持部件(80)中的至少一个的与另一个相对的面，设置有辊(83)。
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公开(公告)号：CN102959121A
公开(公告)日：2013-03-06
申请号：CN201180029760.X
申请日：2011-08-17
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: H01L51/0008 , C23C14/042 , H01L27/3211 , H01L27/3244 , H01L51/0011 , H01L51/56
Abstract: 依次配置蒸镀源(60)、多个控制板(80)和蒸镀掩模(70)。使基板(10)相对于蒸镀掩模以隔开一定间隔的状态相对地移动。从蒸镀源的蒸镀源开口(61)被放出的蒸镀颗粒(91)通过相邻的控制板间空间(81)，并且通过形成于蒸镀掩模的掩模开口(71)，附着在基板而形成覆膜(90)。覆膜的至少一部分由通过相互不同的两个以上的控制板间空间的蒸镀颗粒形成。由此，能够形成抑制了端缘的模糊和厚度不均的覆膜。
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公开(公告)号：CN109983148B
公开(公告)日：2021-01-15
申请号：CN201680091048.5
申请日：2016-11-25
Applicant: 夏普株式会社
IPC: C23C14/04
Abstract: 在载置在蒸镀装置(1)的基板托盘(20)上的被蒸镀基板(30)的被蒸镀面(30a)上，在与扫描方向平行的方向上隔开间隔地排列有蒸镀蒸镀颗粒(40)的显示区域(31)，基板托盘(20)具有遮蔽部(22)，其对在与扫描方向平行的方向上与显示区域(31)相邻的区域(30c)进行遮蔽，使该区域(30c)不会被蒸镀蒸镀颗粒(40)。从而，即使进行扫描蒸镀，也能够防止被蒸镀基板的设计上的自由度受到限制。
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