有机器件、掩模组、掩模以及有机器件的制造方法

    公开(公告)号:CN114695774A

    公开(公告)日:2022-07-01

    申请号:CN202111613619.6

    申请日:2021-12-27

    Abstract: 本发明提供有机器件、掩模组、掩模以及有机器件的制造方法。有机器件可以具备:基板;位于基板上的第1电极;位于第1电极上的有机层;以及位于有机层上的第2电极。在沿着基板的法线方向观察的情况下,有机器件可以具备:第1显示区域,其包含具有第1占有率的第2电极;和第2显示区域,其包含具有比第1占有率小的第2占有率的第2电极。可以是,在第2显示区域中,有机层在第1方向上排列,且在与第1方向交叉的第2方向上排列。在第2显示区域中,第2电极可以包含在第1方向上排列的电极线。电极线可以包含在第2方向上排列且与有机层重叠的电极段。在第2方向上相邻的2个电极段可以互相连接。电极段可以包含:具有第1形状的第1电极段;和具有与第1形状不同的第2形状的第2电极段。

    光学模块
    13.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106933014A

    公开(公告)日:2017-07-07

    申请号:CN201710154650.5

    申请日:2010-09-07

    Abstract: 一种光学模块,具备:光束扫描装置,通过控制所给与的相干光束的方向或位置或这两者进行光束扫描;以及微透镜阵列,由多个独立透镜的集合体构成,光束扫射装置将所给与的相干光束照射至微透镜阵列,且以光束对微透镜阵列的入射位置随时间变化的方式进行扫射,微透镜阵列具有使入射的光束折射以在指定的受光面上形成指定的照射区域的功能,且被构成为形成的照射区域在受光面上成为大致相同的共同区域,而与光束的入射位置无关。

    照明装置、投射型影像显示装置及光学装置

    公开(公告)号:CN107577112B

    公开(公告)日:2020-10-23

    申请号:CN201710907452.1

    申请日:2012-04-23

    Abstract: 提供斑点干扰不明显而均匀地对被照明区域(像形成区域)进行照明的照明装置、投射型影像显示装置。本发明所涉及的照明装置具备:光源(11),射出相干光;光扫射部(15),扫射从光源(11)射出的相干光;透镜阵列(22),具有多个单元透镜,使由光扫射部扫射的光发散;以及光路变换系统(23),以抑制从透镜阵列(22)的各点射出的发散光的发散角度,并且将发散角度被抑制的发散光随着时间经过而反复对被照明区域进行照明的方式被设定。

    照明装置、投射型影像显示装置及光学装置

    公开(公告)号:CN107577112A

    公开(公告)日:2018-01-12

    申请号:CN201710907452.1

    申请日:2012-04-23

    Abstract: 提供斑点干扰不明显而均匀地对被照明区域(像形成区域)进行照明的照明装置、投射型影像显示装置。本发明所涉及的照明装置具备:光源(11),射出相干光;光扫射部(15),扫射从光源(11)射出的相干光;透镜阵列(22),具有多个单元透镜,使由光扫射部扫射的光发散;以及光路变换系统(23),以抑制从透镜阵列(22)的各点射出的发散光的发散角度,并且将发散角度被抑制的发散光随着时间经过而反复对被照明区域进行照明的方式被设定。

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