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公开(公告)号：CN109683326A
公开(公告)日：2019-04-26
申请号：CN201811186416.1
申请日：2018-10-11
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
IPC: G02B27/09
CPC classification number: G02B27/48 , G01S7/4814 , G01S17/42 , G02B5/021 , G02B5/0215 , G02B5/0257 , G02B5/0278 , G02B19/0014 , G02B19/0052 , G02B26/0808 , G02B27/0911 , G02B27/0916 , G02B27/0927 , G02B27/095 , G03B21/005 , G03B21/142 , G02B27/0955 , G02B27/0938
Abstract: 本发明提供一种激光投射装置。激光投射装置具有：激光源、扩散板和壳体。扩散板具有入射面和出射面，入射激光源的出射光。在入射面和出射面的至少一方，排列直线状的多个槽。壳体具有在激光源的射出方向，射出通过槽而扩散的光的开口部。
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公开(公告)号：CN103534745B
公开(公告)日：2017-08-22
申请号：CN201280010117.7
申请日：2012-02-23
Applicant: 特里利特技术有限公司
CPC classification number: F21V5/04 , B60Q1/143 , B60Q1/44 , B60Q2300/056 , F21K99/00 , F21V13/04 , F21V29/70 , G02B26/04 , G02B26/0808 , G02B26/0816 , G02B27/2235 , G02B27/225 , G09G3/001 , G09G3/003 , G09G3/007 , G09G3/3426 , G09G2340/0407 , G09G2360/141 , G09G2360/145 , H04N13/315 , H04N13/32 , H04N13/322 , H04N13/324 , H04N13/354 , H04N13/366 , H04N2013/403
Abstract: 一种用于显示图像信息的显示装置（A），该显示装置包括至少一个或多个像素并能够以帧率（R）修改，具有用于产生图像信息的像素的至少一个光源（L），其特征在于，针对图像信息的每一个像素，提供具有移动元件(BR,BV,LI,L)的像素修改部件（VM），所述移动元件至少以帧率（R）被可移动地布置在显示装置（A）中，并且适合于为显示装置（A）的观看者(LA,RA)选择性地偏转和/或覆盖由所述至少一个光源（L）发射的光，以便针对显示装置（A）的每一个光源（L）产生用于显示图像信息的扩展像素(1,2,3,4,5,6)的至少两倍的像素数，其中，由所述至少一个光源（L）发射的光以光源频率（fL）的至少两倍的帧率（R）修改。
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公开(公告)号：CN104165866B
公开(公告)日：2017-05-03
申请号：CN201410336300.7
申请日：2011-08-01
Applicant: 哈希公司
Inventor： 佩里·A·帕伦博
IPC: G01N21/47
CPC classification number: G02B19/0076 , G01N15/06 , G01N21/01 , G01N21/53 , G01N33/18 , G01N2015/0693 , G01N2201/064 , G02B3/04 , G02B5/001 , G02B13/18 , G02B19/0028 , G02B19/008 , G02B26/0808 , G02B2003/0093 , Y10T29/49826
Abstract: 本发明提供了一种环状光学装置(100)，包括：包括以旋转轴线(A)为中心的环(11)的环状中间光学装置(1)；和基本上同轴地位于环(11)内的辅助光学结构(2)。辅助光学结构(2)和环状中间光学装置(1)被具有低于辅助光学结构的折射率的介质折射率的介质(12)分隔开。辅助光学结构(2)保持样本以被入射电磁辐射照射。来自辅助光学结构(2)且在环状中间光学装置(1)的环(11)内的被改变方向的辐射在所述被改变方向的辐射的入射角超过预定入射阈值的情况下被允许进入到环状中间光学装置(1)中。环状中间光学装置(1)使被改变方向的辐射改变方向以包括基本上平行于旋转轴线(A)的被改变方向的辐射。
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公开(公告)号：CN103703405B
公开(公告)日：2016-10-05
申请号：CN201380002381.0
申请日：2013-01-30
Applicant: 华为技术有限公司
CPC classification number: G02F1/31 , G02B3/005 , G02B5/12 , G02B6/29383 , G02B6/356 , G02B6/3594 , G02B17/0864 , G02B26/0808 , G02B27/285 , G02B27/286 , G02F1/0136 , G02F1/133528 , G02F1/133788 , G02F1/13471 , G02F1/292 , G02F2001/133538 , G02F2001/133541 , G02F2001/13355 , G02F2001/133757 , G02F2001/311 , G02F2201/305 , G02F2203/05 , G02F2203/07 , H04J14/0212 , H04Q3/00 , H04Q2011/0015 , H04Q2213/1301
Abstract: 本发明提供实现波长选择开关WSS的装置和方法。实施例使用可切换偏振光栅SPG和液晶LC单元的组合以及聚合物偏振光栅PPG和LC单元的组合来实现1×N WSS系统。实施例光学开关包括液晶单元和与液晶单元相邻的SPG单元。SPG包括两个光配向层之间的液晶材料、覆盖在各光配向层上的电极层、以及覆盖在各电极层上的玻璃基板。实施例方法包括，先将入射光束圆偏振光，然后在偏振光栅处，根据入射光束的圆偏振特性和偏振光栅中形成的全息图方向将入射光以确定的角度衍射，所述角度对应于衍射级。
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公开(公告)号：CN103250232B
公开(公告)日：2016-01-27
申请号：CN201180059328.5
申请日：2011-12-14
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G01B11/00 , G01N21/94 , G03F7/20
CPC classification number: G01N21/9501 , G01N21/94 , G01N21/95607 , G01N2021/95615 , G02B26/0808 , G03F7/70341 , G03F7/70641 , G03F7/70783 , H01L22/12
Abstract: 提供一种能以短时间、高精度测量曝光时的聚焦状态的装置。表面检查装置1具有以照明系20照明具有既定图案的晶圆（wafer）10的表面并拍摄来自晶圆10的光所形成的影像的摄影装置35、储存关于显示影像的信号强度与聚焦偏移量的关系的聚焦曲线的信息(基准数据)的记忆部45、利用记忆部45中储存的基准数据从以摄影装置35拍摄的影像信号强度判定对晶圆10上的图案曝光时的聚焦状态的影像处理部40。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103797414B
公开(公告)日：2015-10-07
申请号：CN201280022254.2
申请日：2012-04-23
Applicant: 大日本印刷株式会社
CPC classification number: G02B27/48 , G02B26/0808 , G02B26/0816 , G02B26/10 , G02B26/101 , G02B26/105 , G02B26/106 , G02B26/12 , G02B26/125 , G03B21/2033 , G03B21/2066 , G03B21/208 , H04N5/74 , H04N9/14 , H04N9/3129 , H04N9/3155 , H04N9/3161
Abstract: 本发明提供一种以斑点干扰不显眼的方式对被照明区域(像形成区域)进行照明的照明装置、投射型影像显示装置。本发明所涉及的照明装置的特征在于，具备：射出相干光的光源(11)；使从光源(11)射出的相干光扫射的光扫射部(15)；以及以通过光扫射部(15)扫射的相干光随时间经过而反复对被照明区域进行照明的方式设定的光路变换系统(21)，入射于被照明区域的各点的相干光的入射角度随时间变化。
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公开(公告)号：CN104471446A
公开(公告)日：2015-03-25
申请号：CN201380038690.3
申请日：2013-07-10
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
Inventor： W.瓦格曼斯 , F.M.H.克罗波伊特斯 , M.马特塞克
IPC: G02B5/02 , G02B26/08 , H01L41/193
CPC classification number: F21V5/002 , F21Y2115/10 , G02B5/0221 , G02B5/0252 , G02B5/1814 , G02B5/1828 , G02B26/00 , G02B26/02 , G02B26/0808 , G02B26/0841 , H01L41/0986 , Y10T29/49863
Abstract: 本发明涉及一种用于在照明设备中使用的漫射器（1）。漫射器（1）包括至少部分透明的第一层（10）和邻接的至少部分透明的第二层（20），第一层是连续的并且包括可拉伸弹性体，第二层是包括具有被测量为材料的厚度与材料的弹性模量之积的高有效刚度的材料的分段层。第二层（20）包括具有不同尺寸的段（21a，21b，21c，21d，21e）的非周期性图案。漫射器在第一位置和第二位置之间是可拉伸的，在第一位置中第一层处于非拉伸状态中并且第二层的段邻近彼此布置以便形成基本上连续层，并且在第二位置中第一层被拉伸开并且第二层的段彼此分离使得第一层的部分被暴露。
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公开(公告)号：CN102401994B
公开(公告)日：2013-11-20
申请号：CN201010278697.0
申请日：2010-09-07
Applicant: 上海丽恒光微电子科技有限公司
IPC: G02B26/08
CPC classification number: G02B26/001 , G02B26/02 , G02B26/0808
Abstract: 本发明提供了一种光调制器像素单元，包括形成于衬底上的顶部电极、可动电极和底部电极；在控制电路控制下，所述可动电极的位置会发生偏移，当可动电极位于第一位置时，第一光线在顶部电极处发生衍射；当可动电极位于第二位置时，第二光线在顶部电极处发生衍射；当可动电极位于第三位置时，第三光线在顶部电极处发生衍射。所述第一光线、第二光线、第三光线为三基色光线。本发明的光调制器像素单元能够调制三种颜色光线，适用于微显示系统。
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公开(公告)号：CN103250232A
公开(公告)日：2013-08-14
申请号：CN201180059328.5
申请日：2011-12-14
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G01B11/00 , G01N21/94 , G03F7/20
CPC classification number: G01N21/9501 , G01N21/94 , G01N21/95607 , G01N2021/95615 , G02B26/0808 , G03F7/70341 , G03F7/70641 , G03F7/70783 , H01L22/12
Abstract: 提供一种能以短时间、高精度测量曝光时的聚焦状态的装置。表面检查装置1具有以照明系20照明具有既定图案的晶圆（wafer）10的表面并拍摄来自晶圆10的光所形成的影像的摄影装置35、储存关于显示影像的信号强度与聚焦偏移量的关系的聚焦曲线的信息(基准数据)的记忆部45、利用记忆部45中储存的基准数据从以摄影装置35拍摄的影像信号强度判定对晶圆10上的图案曝光时的聚焦状态的影像处理部40。
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公开(公告)号：CN103140748A
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN201180038816.8
申请日：2011-08-01
Applicant: 哈希公司
Inventor： 佩里·A·帕伦博
CPC classification number: G02B19/0076 , G01N15/06 , G01N21/01 , G01N21/53 , G01N33/18 , G01N2015/0693 , G01N2201/064 , G02B3/04 , G02B5/001 , G02B13/18 , G02B19/0028 , G02B19/008 , G02B26/0808 , G02B2003/0093 , Y10T29/49826
Abstract: 本发明提供了一种环状光学装置(100)，包括：包括以旋转轴线(A)为中心的环(11)的环状中间光学装置(1)；和基本上同轴地位于环(11)内的辅助光学结构(2)。辅助光学结构(2)和环状中间光学装置(1)被具有低于辅助光学结构的折射率的介质折射率的介质(12)分隔开。辅助光学结构(2)保持样本以被入射电磁辐射照射。来自辅助光学结构(2)且在环状中间光学装置(1)的环(11)内的被散射的辐射在所述被散射的辐射的入射角超过预定入射阈值的情况下被允许进入到环状中间光学装置(1)中。环状中间光学装置(1)使被散射的辐射改变方向以包括基本上平行于旋转轴线(A)的被改变方向的辐射。
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