公开(公告)号：CN104076416A

公开(公告)日：2014-10-01

申请号：CN201310545548.X

申请日：2013-11-06

Applicant: 富士施乐株式会社

Inventor： 安田晋 ,  清水敬司

IPC: G02B3/00 ,  G02B27/22 ,  B29D11/00

CPC classification number: G02B27/2214 ,  B29D11/00298 ,  G02B3/0012 ,  G02B3/0025

Abstract: 本发明公开一种透镜阵列及其制造方法，该透镜阵列包括：多个透镜；其中，每个透镜具有第一方向上的曲率和第二方向上的曲率，所述第二方向不同于所述第一方向，所述第一方向上的曲率和所述第二方向上的曲率彼此不同。

公开(公告)号：CN104076415A

公开(公告)日：2014-10-01

申请号：CN201310468493.7

申请日：2013-10-09

Applicant: 富士施乐株式会社

Inventor： 安田晋 ,  清水敬司

IPC: G02B3/00 ,  B29D11/00

CPC classification number: G02B3/0012 ,  B29D11/00298 ,  B29D11/00375 ,  G02B3/0056 ,  G02B3/0075

Abstract: 本发明提供了一种透镜阵列，包括设置有彼此分开的多个孔的板状光吸收材料、以及各孔中的聚合物所形成的透镜。

公开(公告)号：CN102681399B

公开(公告)日：2015-12-16

申请号：CN201110350148.4

申请日：2011-11-08

Applicant: 富士施乐株式会社

Inventor： 三锅治郎 ,  清水敬司 ,  涌井美帆子 ,  小笠原康裕 ,  林和广 ,  立石彰 ,  安田晋 ,  谷口元树

IPC: G03G15/043 ,  G03G15/00

CPC classification number: G03G15/04054 ,  G03G15/0435

Abstract: 本发明涉及曝光装置和图像形成装置。曝光装置包括：至少一个发光元件，其在基板的法线方向上发光；至少一个全息图元素，其记录在设置于基板上的记录层上以衍射从发光元件发出的光，并且将衍射光会聚在位于发光元件的法线上的聚光点上；以及至少一个光抑制部，其设置在连接发光元件和聚光点的直线上，使得经过全息图元素衍射的光透过光抑制部的外侧并会聚在聚光点处，从而抑制未被全息图元素衍射的、从发光元件向聚光点笔直前进的零次光的透射。

公开(公告)号：CN104570169A

公开(公告)日：2015-04-29

申请号：CN201410323296.0

申请日：2014-07-08

Applicant: 富士施乐株式会社

Inventor： 安田晋 ,  清水敬司

IPC: G02B3/00 ,  G02B3/12 ,  B29D11/00

CPC classification number: G02B3/0031 ,  B29D11/00298 ,  B29K2101/12 ,  B29K2105/0058 ,  B29K2105/0067 ,  G02B1/041 ,  G02B3/0025 ,  G02B3/0056 ,  G02B3/0012

Abstract: 本发明提供了透镜阵列及其制造方法。所提供的透镜阵列中，在经过亲液表面处理的防液基板的表面上使用刀片形成隔离壁，使用刀片形成防液凹槽部分，每个防液凹槽部分是V形的，亲液部分位于彼此相邻的隔离壁之间，使用液态聚合物在所述亲液部分上形成透镜。

公开(公告)号：CN102681399A

公开(公告)日：2012-09-19

申请号：CN201110350148.4

申请日：2011-11-08

Applicant: 富士施乐株式会社

Inventor： 三锅治郎 ,  清水敬司 ,  涌井美帆子 ,  小笠原康裕 ,  林和广 ,  立石彰 ,  安田晋 ,  谷口元树

IPC: G03G15/043 ,  G03G15/00

CPC classification number: G03G15/04054 ,  G03G15/0435

Abstract: 本发明涉及曝光装置和图像形成装置。曝光装置包括：至少一个发光元件，其在基板的法线方向上发光；至少一个全息图元素，其记录在设置于基板上的记录层上以衍射从发光元件发出的光，并且将衍射光会聚在位于发光元件的法线上的聚光点上；以及至少一个光抑制部，其设置在连接发光元件和聚光点的直线上，使得经过全息图元素衍射的光透过光抑制部的外侧并会聚在聚光点处，从而抑制未被全息图元素衍射的、从发光元件向聚光点笔直前进的零次光的透射。

公开(公告)号：CN102163026A

公开(公告)日：2011-08-24

申请号：CN201010275032.4

申请日：2010-09-06

Applicant: 富士施乐株式会社

Inventor： 三锅治郎 ,  小笠原康裕 ,  清水敬司

IPC: G03G15/04 ,  B41J2/45 ,  G02B5/32 ,  G03G15/00

CPC classification number: B41J2/451 ,  G02B5/32 ,  G02B26/123 ,  G03G15/04054 ,  G03G15/0435 ,  G03G15/326 ,  G03G2215/0129

Abstract: 本发明涉及曝光设备和图像形成装置。该曝光设备包括：多个发光元件的发光元件阵列，多个发光元件沿预定方向以第一间隔成排地排列；以及全息元件阵列，在所述全息元件阵列中的多个全息元件被多路记录在记录层中，该记录层设置在所述发光元件阵列的上方，所述多个全息元件对应于所述多个发光元件中的每一个，使得从所述多个发光元件发出的光的衍射光束会聚，以在待曝光的表面处以比所述第一间隔小的第二间隔沿预定方向成排地形成聚束光点。