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公开(公告)号：CN104181620A
公开(公告)日：2014-12-03
申请号：CN201410083871.4
申请日：2014-03-07
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: B29D11/00336 , B29D11/00298 , B29D11/00951
Abstract: 本发明提供一种透镜阵列制造装置，其使透镜相对于在树脂基板上形成的视差图像的位置偏差减小。透镜阵列制造装置的透镜形成单元形成透镜，其分别具有多个在形成视差图像的树脂基板上形成分隔壁的刀刃及喷出树脂的喷嘴，检测单元对形成的视差图像的位置进行检测，控制单元根据由检测单元检测出的视差图像的位置，对扫描开始位置进行调整，使透镜形成单元在形成视差图像的树脂基板的表面上进行扫描，利用刀刃形成分隔壁，利用喷嘴向该分隔壁之间喷出树脂。
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公开(公告)号：CN102162933A
公开(公告)日：2011-08-24
申请号：CN201010288514.3
申请日：2010-09-15
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: B41J2/451 , G02B5/32 , G02B27/42 , G03G15/04054 , G03G15/0409 , G03G15/326
Abstract: 本发明涉及聚焦元件、聚焦元件阵列、曝光装置及图像形成装置。提供了一种聚焦元件，其包括：发光元件，其产生在预定波长范围的光并发出扩散光；以及在布置在所述发光元件的光出射侧的记录层中的全息元件，通过利用从发光元件的波长范围选择的多个波长的光通过波长多路来记录所述全息元件，并且利用来自所述发光元件的扩散光照射所述全息元件，并且所述全息元件发出在预定聚焦点处会聚的衍射光。
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公开(公告)号：CN102162933B
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：CN201010288514.3
申请日：2010-09-15
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: B41J2/451 , G02B5/32 , G02B27/42 , G03G15/04054 , G03G15/0409 , G03G15/326
Abstract: 本发明涉及聚焦元件、聚焦元件阵列、曝光装置及图像形成装置。提供了一种聚焦元件，其包括：发光元件，其产生在预定波长范围的光并发出扩散光；以及在布置在所述发光元件的光出射侧的记录层中的全息元件，通过利用从发光元件的波长范围选择的多个波长的光通过波长多路来记录所述全息元件，并且利用来自所述发光元件的扩散光照射所述全息元件，并且所述全息元件发出在预定聚焦点处会聚的衍射光。
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公开(公告)号：CN1983404A
公开(公告)日：2007-06-20
申请号：CN200610144450.3
申请日：2006-11-08
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: G11B7/0065 , G11C13/04 , G03H1/04 , G03H1/16
CPC classification number: G03H1/16 , G03H1/02 , G03H2001/0204 , G11B7/0065 , G11C13/042
Abstract: 本发明提供了全息图记录方法和全息图记录装置。本发明提出了一种全息图记录方法，该全息图记录方法包括以下步骤：通过将周期性强度分布或相位分布叠加在将二进制数字数据表示为亮/暗图像的光的强度分布上，来产生信号光；对所述信号光进行傅立叶变换；将经傅立叶变换的信号光和参考光同时照射在光记录介质上；以及将所述信号光记录为全息图。
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公开(公告)号：CN104181620B
公开(公告)日：2018-01-12
申请号：CN201410083871.4
申请日：2014-03-07
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: B29D11/00336 , B29D11/00298 , B29D11/00951
Abstract: 本发明提供一种透镜阵列制造装置，其使透镜相对于在树脂基板上形成的视差图像的位置偏差减小。透镜阵列制造装置的透镜形成单元形成透镜，其分别具有多个在形成视差图像的树脂基板上形成分隔壁的刀刃及喷出树脂的喷嘴，检测单元对形成的视差图像的位置进行检测，控制单元根据由检测单元检测出的视差图像的位置，对扫描开始位置进行调整，使透镜形成单元在形成视差图像的树脂基板的表面上进行扫描，利用刀刃形成分隔壁，利用喷嘴向该分隔壁之间喷出树脂。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104076416B
公开(公告)日：2017-11-03
申请号：CN201310545548.X
申请日：2013-11-06
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: G02B27/2214 , B29D11/00298 , G02B3/0012 , G02B3/0025
Abstract: 本发明公开一种透镜阵列及其制造方法，该透镜阵列包括：多个透镜；其中，每个透镜具有第一方向上的曲率和第二方向上的曲率，所述第二方向不同于所述第一方向，所述第一方向上的曲率和所述第二方向上的曲率彼此不同。
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公开(公告)号：CN101025942B
公开(公告)日：2011-03-16
申请号：CN200610144449.0
申请日：2006-11-08
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: G11B7/0065 , G11C13/04 , G03H1/04
CPC classification number: G11B7/0065 , G11B7/128 , G11B7/2403 , G11B7/24044 , Y10S359/90
Abstract: 本发明提供了全息图记录方法和装置、全息图重现方法及光学记录介质。将信号光记录到光学记录介质上作为全息图的全息图记录方法包括以下步骤：通过在对入射相干光进行空间调制的空间光调制器上显示将调制区域分为多个区域的图案，而关于所述相干光的光轴对称地设置产生信号光的信号光区域和产生参考光的参考光区域；通过利用所述空间光调制器对所述入射相干光进行调制，来产生信号光和参考光；将从彼此对称布置的所述信号光区域和所述参考光区域产生的所述信号光和所述参考光同时且同轴地照射到反射型光学记录介质上；以及将所述信号光记录在所述光学记录介质上作为全息图。
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公开(公告)号：CN101281760A
公开(公告)日：2008-10-08
申请号：CN200710095844.9
申请日：2007-04-05
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: G11B7/24 , G11B7/0065
CPC classification number: G03H1/02 , G03H1/26 , G03H2001/0264 , G03H2001/267 , G03H2240/26 , G03H2250/38 , G03H2250/43 , G03H2260/31 , G11B7/0065 , G11B7/24044 , G11B7/245 , G11B7/246 , G11B7/2467 , G11B7/25 , G11B7/251 , G11B7/2531 , G11B7/2532 , G11B7/2533 , G11B7/2542 , G11B7/259 , G11B7/2595 , G11B2007/25417
Abstract: 本发明提供了一种全息记录材料、全息记录介质和全息记录方法。所述全息记录材料用于至少通过光照射来记录信息。所述全息记录材料包含光响应性分子、液晶分子和平均粒径为所述信息的记录中使用的光的波长的十分之一以下的颗粒。
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公开(公告)号：CN1310012C
公开(公告)日：2007-04-11
申请号：CN02131908.1
申请日：2002-09-05
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: G01D5/34715
Abstract: 从激光源所发射出的激光照射于透射型标尺。通过透射型标尺的移动，透射光的偏振角度根据沿纵长方向所排列的1/2波长片的方位变化而变化。此一偏振角度不容易受外界光等噪声因素的影响。由于透射过检偏镜并靠光检测器所检测的偏振分量的光强度根据偏振角度而变化，所以随着透射型标尺的移动而变化，检测信号向移动量运算装置输出。如果基于此一信号来运算移动量，则可以检测准确的移动量。
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公开(公告)号：CN102681399B
公开(公告)日：2015-12-16
申请号：CN201110350148.4
申请日：2011-11-08
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: G03G15/043 , G03G15/00
CPC classification number: G03G15/04054 , G03G15/0435
Abstract: 本发明涉及曝光装置和图像形成装置。曝光装置包括：至少一个发光元件，其在基板的法线方向上发光；至少一个全息图元素，其记录在设置于基板上的记录层上以衍射从发光元件发出的光，并且将衍射光会聚在位于发光元件的法线上的聚光点上；以及至少一个光抑制部，其设置在连接发光元件和聚光点的直线上，使得经过全息图元素衍射的光透过光抑制部的外侧并会聚在聚光点处，从而抑制未被全息图元素衍射的、从发光元件向聚光点笔直前进的零次光的透射。
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