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公开(公告)号：CN104181620B
公开(公告)日：2018-01-12
申请号：CN201410083871.4
申请日：2014-03-07
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: B29D11/00336 , B29D11/00298 , B29D11/00951
Abstract: 本发明提供一种透镜阵列制造装置，其使透镜相对于在树脂基板上形成的视差图像的位置偏差减小。透镜阵列制造装置的透镜形成单元形成透镜，其分别具有多个在形成视差图像的树脂基板上形成分隔壁的刀刃及喷出树脂的喷嘴，检测单元对形成的视差图像的位置进行检测，控制单元根据由检测单元检测出的视差图像的位置，对扫描开始位置进行调整，使透镜形成单元在形成视差图像的树脂基板的表面上进行扫描，利用刀刃形成分隔壁，利用喷嘴向该分隔壁之间喷出树脂。
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公开(公告)号：CN104076416B
公开(公告)日：2017-11-03
申请号：CN201310545548.X
申请日：2013-11-06
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: G02B27/2214 , B29D11/00298 , G02B3/0012 , G02B3/0025
Abstract: 本发明公开一种透镜阵列及其制造方法，该透镜阵列包括：多个透镜；其中，每个透镜具有第一方向上的曲率和第二方向上的曲率，所述第二方向不同于所述第一方向，所述第一方向上的曲率和所述第二方向上的曲率彼此不同。
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公开(公告)号：CN101093263B
公开(公告)日：2011-04-20
申请号：CN200710084794.4
申请日：2007-02-28
Applicant: 富士施乐株式会社
Abstract: 本发明提供了一种光波导及其制造方法以及光通信模块。该光波导包括：下基板；波导芯，该波导芯形成在所述下基板上；包壳，该包壳被形成为包围所述波导芯的周边；以及上基板，该上基板与所述下基板相对，其中所述波导芯、所述下基板以及所述上基板包围沿所述波导芯延伸的空腔。
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公开(公告)号：CN104181620A
公开(公告)日：2014-12-03
申请号：CN201410083871.4
申请日：2014-03-07
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: B29D11/00336 , B29D11/00298 , B29D11/00951
Abstract: 本发明提供一种透镜阵列制造装置，其使透镜相对于在树脂基板上形成的视差图像的位置偏差减小。透镜阵列制造装置的透镜形成单元形成透镜，其分别具有多个在形成视差图像的树脂基板上形成分隔壁的刀刃及喷出树脂的喷嘴，检测单元对形成的视差图像的位置进行检测，控制单元根据由检测单元检测出的视差图像的位置，对扫描开始位置进行调整，使透镜形成单元在形成视差图像的树脂基板的表面上进行扫描，利用刀刃形成分隔壁，利用喷嘴向该分隔壁之间喷出树脂。
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公开(公告)号：CN101650452B
公开(公告)日：2013-01-30
申请号：CN200910004482.7
申请日：2009-03-04
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: G02B6/1221 , G02B6/138
Abstract: 本发明提供具有位置识别标记的光波导及其制造方法。所述光波导包括：光通过其传播的芯部；沿着光传播的方向包围芯部的包覆部；以及用于进行位置识别标记的有色树脂，所述光波导具有包括其主面的基本平面状的外表面，并且所述有色树脂嵌入在所述光波导中的在从与所述光波导的主面垂直的方向上观看时与该芯部基本不交叠并且基本不接触该芯部的位置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101650452A
公开(公告)日：2010-02-17
申请号：CN200910004482.7
申请日：2009-03-04
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: G02B6/1221 , G02B6/138
Abstract: 本发明提供具有位置识别标记的光波导及其制造方法。所述光波导包括：光通过其传播的芯部；沿着光传播的方向包围芯部的包覆部；以及用于进行位置识别标记的有色树脂，所述光波导具有包括其主面的基本平面状的外表面，并且所述有色树脂嵌入在所述光波导中的在从与所述光波导的主面垂直的方向上观看时与该芯部基本不交叠并且基本不接触该芯部的位置。
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公开(公告)号：CN1299135C
公开(公告)日：2007-02-07
申请号：CN03109377.9
申请日：2003-04-08
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: B82Y20/00 , C09D5/44 , C09D5/448 , C25D1/12 , C25D1/22 , C25D5/08 , C25D5/54 , C25D13/00 , G02F1/065 , G02F2202/36
Abstract: 于薄膜的面内、膜厚方向，可容易保持机能性材料的连续浓度阶调的一种光学元件制作方法，及其使用的电沉积液与制造装置。关于使用含有机能性材料的电沉积液，利用光电沉积法或电沉积，于光学元件制作基板上制作光学元件的方法。含有于光学元件制作基板近旁，通过使电沉积液中的机能性材料的浓度变化，含于其中的机能性材料在薄膜厚方向与/或薄膜的面内方向，有浓度阶调的薄膜制作步骤的光学元件制作方法。设置有通过变化pH值，使对于水性溶液的溶解性与分散性降低、有疏水性基与亲水性基，疏水性基的数量为亲水性基与疏水性基总量的30%到80%的范围，含有形成薄膜的高分子材料与机能性材料的电沉积液，以及电沉积或光电沉积的薄膜形成装置，设置有为了使对光学元件制作基板形成电沉积液的流动的液流形成机构的光学元件制造装置。
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公开(公告)号：CN101093263A
公开(公告)日：2007-12-26
申请号：CN200710084794.4
申请日：2007-02-28
Applicant: 富士施乐株式会社
Abstract: 本发明提供了一种光波导及其制造方法以及光通信模块。该光波导包括：下基板；波导芯，该波导芯形成在所述下基板上；包壳，该包壳被形成为包围所述波导芯的周边；以及上基板，该上基板与所述下基板相对，其中所述波导芯、所述下基板以及所述上基板包围沿所述波导芯延伸的空腔。
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公开(公告)号：CN1380681A
公开(公告)日：2002-11-20
申请号：CN02105336.7
申请日：2002-02-25
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: H01L21/02686 , C23C14/083 , C23C14/58 , H01L21/02565 , H01L21/2022
Abstract: 一种在基底材料上形成结晶半导体薄膜的方法,采用低温及简单的步骤和装置,包含以下步骤:在真空或还原性气氛中,保持温度在不低于25℃和不高于300℃情况下,施加紫外线到基底材料上的非晶质半导体薄膜。一种在其基底材料上形成有结晶半导体薄膜的衬底。一种形成滤色器的衬底和一种使用上述衬底的滤色器。
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公开(公告)号：CN104570169B
公开(公告)日：2017-06-30
申请号：CN201410323296.0
申请日：2014-07-08
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: G02B3/0031 , B29D11/00298 , B29K2101/12 , B29K2105/0058 , B29K2105/0067 , G02B1/041 , G02B3/0025 , G02B3/0056
Abstract: 本发明提供了透镜阵列及其制造方法。所提供的透镜阵列中，在经过亲液表面处理的防液基板的表面上使用刀片形成隔离壁，使用刀片形成防液凹槽部分，每个防液凹槽部分是V形的，亲液部分位于彼此相邻的隔离壁之间，使用液态聚合物在所述亲液部分上形成透镜。
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