-
公开(公告)号:CN119447003A
公开(公告)日:2025-02-14
申请号:CN202411020068.6
申请日:2024-07-29
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/78 , C09J7/29
Abstract: 本发明涉及切割带、切割芯片接合薄膜和半导体装置的制造方法。提供一种切割带等,其具备基材层、以及重叠于该基材层的单面的粘合剂层,前述基材层具有层叠的多个层,作为该多个层,至少具有包含乙烯‑丙烯酸共聚树脂的第一基材层和包含除前述乙烯‑丙烯酸共聚树脂之外的树脂的第二基材层,在前述第一基材层与前述粘合剂层之间配置有前述第二基材层。
-
公开(公告)号:CN112778922A
公开(公告)日:2021-05-11
申请号:CN202011175219.7
申请日:2020-10-28
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: C09J7/29 , C09J7/24 , C09J7/30 , C09J133/08 , C09J133/00 , C09J163/00 , C09J161/06 , C09J11/04 , H01L21/683
Abstract: 本发明涉及切割带和切割芯片接合薄膜。本发明所述的切割带是在基材层上层叠有粘合剂层的切割带,其在‑10℃下的拉伸储能模量为50MPa以上且250MPa以下。
-
-
公开(公告)号:CN112778922B
公开(公告)日:2024-12-31
申请号:CN202011175219.7
申请日:2020-10-28
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: C09J7/29 , C09J7/24 , C09J7/30 , C09J133/08 , C09J133/00 , C09J163/00 , C09J161/06 , C09J11/04 , H01L21/683
Abstract: 本发明涉及切割带和切割芯片接合薄膜。本发明所述的切割带是在基材层上层叠有粘合剂层的切割带,其在‑10℃下的拉伸储能模量为50MPa以上且250MPa以下。
-
公开(公告)号:CN112778923B
公开(公告)日:2024-12-27
申请号:CN202011215646.3
申请日:2020-11-04
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 本发明涉及切割带和切割芯片接合薄膜。提供一种切割带等,所述切割带具备基材层和粘合性比该基材层高的粘合剂层,通过对前述基材层进行差示扫描量热测定而测得的谱图具有在100℃以上且140℃以下的范围存在顶点的吸热峰,且该吸热峰的峰开始点与顶点的温度差为40℃以下。
-
公开(公告)号:CN116333623A
公开(公告)日:2023-06-27
申请号:CN202211642027.1
申请日:2022-12-20
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: C09J7/29 , H01L21/683 , C09J7/30 , C09J133/08 , C09J11/06 , C09J133/00 , C09J11/04
Abstract: 提供切割芯片接合薄膜等,前述切割芯片接合薄膜具备:具有基材层和重叠于该基材层的粘合剂层的切割带、以及重叠于该切割带的芯片接合片,前述切割带在120℃下的弹性模量为0.10MPa以上,前述切割带在120℃下的热收缩率为6%以上。
-
公开(公告)号:CN115368836A
公开(公告)日:2022-11-22
申请号:CN202210404186.1
申请日:2022-04-18
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: C09J7/24 , C09J7/30 , C09J7/40 , C09J133/08 , H01L21/683
Abstract: 本发明的切割芯片接合薄膜具备:在基材层上层叠有粘合剂层的切割带、以及层叠在前述切割带的粘合剂层上的芯片接合层,前述粘合剂层包含丙烯酸系聚合物,前述丙烯酸系聚合物包含15摩尔%以上的、具有碳数9以上的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯的结构单元,温度‑15℃下的前述粘合剂层的剪切储能模量为10MPa以下,使用FOX式算出的前述丙烯酸系聚合物的玻璃化转变温度为‑47℃以上且5℃以下。
-
公开(公告)号:CN112151434A
公开(公告)日:2020-12-29
申请号:CN202010582946.9
申请日:2020-06-23
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: H01L21/683 , C09J7/29 , C09J7/38 , C09J133/08 , C09J163/00 , C09J11/04 , C09J11/08
Abstract: 提供一种切割带和切割芯片接合薄膜。提供切割带等,其具备基材层、和重叠于该基材层的粘合剂层,所述切割带在23℃或在‑5℃下拉伸时的永久变形率为35%以上。
-
-
公开(公告)号:CN112980366B
公开(公告)日:2024-12-10
申请号:CN202011494006.0
申请日:2020-12-17
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: C09J163/00 , C09J11/04 , C09J11/08 , C09J7/30 , C09J7/10 , C09J7/29 , C09J4/02 , C09J4/06 , H01L21/683
Abstract: 提供芯片接合片及切割芯片接合薄膜。提供相对于聚酰亚胺树脂面的剥离力为0.1N/50mm以上的芯片接合片。另外,提供一种切割芯片接合薄膜,其具备:所述芯片接合片、和贴合于该芯片接合片的切割带。
-
-
-
-
-
-
-
-
-