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公开(公告)号：CN107532301A
公开(公告)日：2018-01-02
申请号：CN201580039927.9
申请日：2015-07-28
Applicant: 日产化学工业株式会社
Abstract: 本发明提供对环境友好，可以以少的工序数简便地处理，此外可以实现低成本化，特别是被镀基材与金属膜的密合性优异的、作为非电解镀的前处理工序而使用的新的基底剂。作为解决本发明课题的方法涉及一种基底剂，是用于通过非电解镀处理在基材上形成金属镀膜的基底剂，其包含：(a)分子末端具有铵基且重均分子量为1,000～5,000,000的超支化聚合物、(b)金属微粒、和(c)非电解镀用树脂底涂剂。
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公开(公告)号：CN104906997A
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：CN201510185138.8
申请日：2009-08-21
Applicant: 日产化学工业株式会社 , 国立大学法人九州大学
CPC classification number: C08G73/00 , B01F17/0007 , B01F17/005 , B01J31/0239 , B01J31/06 , B01J2231/643 , B01J2231/645 , B01J2531/828 , C08K3/08 , H01M4/8668 , H01M4/90
Abstract: 本发明提供了一种由具有铵基的支链高分子化合物构成的金属微粒分散剂，本发明的金属微粒分散剂由含有铵基，重均分子量为500～5000000的支链高分子化合物构成，该支链高分子化合物具有式(1)表示的结构。此外，本发明的组合物包括该金属微粒分散剂和金属微粒。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104785163B
公开(公告)日：2018-04-13
申请号：CN201510084929.1
申请日：2009-08-21
Applicant: 日产化学工业株式会社 , 国立大学法人九州大学
CPC classification number: C08G73/00 , B01F17/0007 , B01F17/005 , B01J31/0239 , B01J31/06 , B01J2231/643 , B01J2231/645 , B01J2531/828 , C08K3/08 , H01M4/8668 , H01M4/90
Abstract: 本发明提供了一种由具有铵基的支链高分子化合物构成的金属微粒分散剂，本发明的金属微粒分散剂由含有铵基，重均分子量为500～5000000的支链高分子化合物构成，该支链高分子化合物具有式(1)表示的结构。此外，本发明的组合物包括该金属微粒分散剂和金属微粒。
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公开(公告)号：CN107532302A
公开(公告)日：2018-01-02
申请号：CN201680020173.7
申请日：2016-03-29
Applicant: 日产化学工业株式会社
Abstract: 本申请的课题在于提供，一种作为非电解镀的前处理工序所使用的新的非电解镀基底剂，其考虑环境，能够以少的工序数简便地处理，并且通过光刻能够容易地形成宽度为几个μm这样微细的布线。作为解决本发明课题的方法为一种感光性基底剂，用于通过非电解镀处理在基材上形成金属镀膜，其包含：(a)分子末端具有铵基且重均分子量为1,000～5,000,000的超支化聚合物、(b)金属微粒、(c)分子内具有1个以上(甲基)丙烯酰基的聚合性化合物、(d)光聚合引发剂、(e)胺化合物以及(f)多官能硫醇。
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公开(公告)号：CN102131573B
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：CN200980132784.0
申请日：2009-08-21
Applicant: 日产化学工业株式会社 , 国立大学法人九州大学
IPC: B01F17/52 , B01F17/18 , B01F17/42 , B01J13/00 , B01J35/02 , C08K3/08 , C08L101/02 , H01M4/90 , H01M4/92
CPC classification number: C08G73/00 , B01F17/0007 , B01F17/005 , B01J31/0239 , B01J31/06 , B01J2231/643 , B01J2231/645 , B01J2531/828 , C08K3/08 , H01M4/8668 , H01M4/90
Abstract: 本发明提供了一种由具有铵基的支链高分子化合物构成的金属微粒分散剂，本发明的金属微粒分散剂由含有铵基，重均分子量为500～5000000的支链高分子化合物构成，该支链高分子化合物具有式(1)表示的结构。此外，本发明的组合物包括该金属微粒分散剂和金属微粒。
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公开(公告)号：CN107532302B
公开(公告)日：2019-10-08
申请号：CN201680020173.7
申请日：2016-03-29
Applicant: 日产化学工业株式会社
Abstract: 本申请的课题在于提供，一种作为非电解镀的前处理工序所使用的新的非电解镀基底剂，其考虑环境，能够以少的工序数简便地处理，并且通过光刻能够容易地形成宽度为几个μm这样微细的布线。作为解决本发明课题的方法为一种感光性基底剂，用于通过非电解镀处理在基材上形成金属镀膜，其包含：(a)分子末端具有铵基且重均分子量为1,000～5,000,000的超支化聚合物、(b)金属微粒、(c)分子内具有1个以上(甲基)丙烯酰基的聚合性化合物、(d)光聚合引发剂、(e)胺化合物以及(f)多官能硫醇。
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公开(公告)号：CN102131573A
公开(公告)日：2011-07-20
申请号：CN200980132784.0
申请日：2009-08-21
Applicant: 日产化学工业株式会社 , 国立大学法人九州大学
IPC: B01F17/52 , B01F17/18 , B01F17/42 , B01J13/00 , B01J35/02 , C08K3/08 , C08L101/02 , H01M4/90 , H01M4/92
CPC classification number: C08G73/00 , B01F17/0007 , B01F17/005 , B01J31/0239 , B01J31/06 , B01J2231/643 , B01J2231/645 , B01J2531/828 , C08K3/08 , H01M4/8668 , H01M4/90
Abstract: 本发明提供了一种由具有铵基的支链高分子化合物构成的金属微粒分散剂，本发明的金属微粒分散剂由含有铵基，重均分子量为500～5000000的支链高分子化合物构成，该支链高分子化合物具有式(1)表示的结构。此外，本发明的组合物包括该金属微粒分散剂和金属微粒。
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