公开(公告)号：CN1564968A

公开(公告)日：2005-01-12

申请号：CN02819915.4

申请日：2002-10-04

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 竹井敏 ,  安见由章 ,  水泽贤一

IPC: G03F7/11 ,  H01L21/027 ,  C08G59/14

CPC classification number: C08L63/00 ,  C08G59/1455 ,  C08G59/18 ,  C08G59/3254 ,  C08G2650/56 ,  C08L33/00 ,  C08L71/00 ,  C09D161/06 ,  G03F7/091 ,  H01L21/0276 ,  Y10T428/31511 ,  Y10T428/31855 ,  C08L2666/02 ,  C08L2666/04

Abstract: 本发明涉及在半导体器件制造的光刻工艺中使用的形成防反射膜的组合物，该组合物含有具有5000或其以下重均分子量的聚合物(A)，和具有20000或其以上的重均分子量的聚合物(B)。该组合物提供在有孔和沟槽的凹凸不平的基板上的段差被覆性优异，防反射光效果高，而且不发生与抗蚀剂层的混和，可以得到优异的抗蚀剂图案，具有比抗蚀剂更大的干蚀刻速度的光刻用防反射膜。

公开(公告)号：CN1061649C

公开(公告)日：2001-02-07

申请号：CN96199361.8

申请日：1996-12-24

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 田中规生 ,  福江靖夫 ,  水泽贤一 ,  石川诚

IPC: C07D251/70 ,  B01J23/42 ,  B01J23/44 ,  B01J23/46 ,  B01J23/72 ,  B01J25/02

CPC classification number: C07D251/18 ,  C07D251/40

Abstract: 一种1，3，5-三嗪衍生物的修饰方法，其特征在于，将一种在其环碳原子上具有至少1个以上氨基或单取代氨基的1，3，5-三嗪衍生物和醇在金属催化剂和氢的存在下加热反应，从而在该至少1个以上的氨基或单取代氨基上引入烷基或链烯基；和另一种1，3，5-三嗪衍生物的修饰方法，其特征在于，将一种在其环碳原子上具有至少1个以上氨基或单取代氨基的1，3，5-三嗪衍生物和二元醇在金属催化剂和氢的存在下加热反应，从而在该至少1个以上的氨基或单取代氨基上引入具有羟基的烷基；以及用这两种方法获得的1，3，5-三嗪衍生物。

公开(公告)号：CN1206409A

公开(公告)日：1999-01-27

申请号：CN96199361.8

申请日：1996-12-24

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 田中规生 ,  福江靖夫 ,  水泽贤一 ,  石川诚

IPC: C07D251/70 ,  B01J23/42 ,  B01J23/44 ,  B01J23/46 ,  B01J23/72 ,  B01J25/02

CPC classification number: C07D251/18 ,  C07D251/40

Abstract: 一种1,3,5－三嗪衍生物的修饰方法,其特征在于,将一种在其环碳原子上具有至少1个以上氨基或单取代氨基的1,3,5－三嗪衍生物和醇在金属催化剂和氢的存在下加热反应,从而在该至少1个以上的氨基或单取代氨基上引入烷基或链烯基;和另一种1,3,5－三嗪衍生物的修饰方法,其特征在于,将一种在其环碳原子上具有至少1个以上氨基或单取代氨基的1,3,5－三嗪衍生物和二元醇在金属催化剂和氢的存在下加热反应,从而在该至少1个以上的氨基或单取代氨基上引入具有羟基的烷基;以及用这两种方法获得的1,3,5－三嗪衍生物。按照本发明获得的生成物的种种修饰的取代1,3,5－三嗪衍生物,一般可以作为混合物获得,但是也可以利用一般有机化合物的分离方法将这些生成物分离成高纯度的或纯的产品,以便供给上述各种用途。另外,根据应用领域(特别是作为树脂的阻燃剂、增塑剂的改性添加剂的情况等),也可以不将这些反应混合物分离而直接提供使用。另外,通过本反应获得的取代的三嗪类,多数都是按照以往的合成方法较难获得的,或者是昂贵的化合物,而且,从其物理物质以及对水或各种有机溶剂类的溶解性或在高温下的稳定性、熔点、沸点、碱性等方面考虑,它们多数都是令人深感兴趣的化合物,并且其用途也要比以往更宽广。