公开(公告)号：CN1769349A

公开(公告)日：2006-05-10

申请号：CN200510117095.6

申请日：2003-02-26

Applicant: 日立化成工业株式会社

Inventor： 樱井治彰 ,  阿部浩一 ,  榎本和宏 ,  野部茂

IPC: C08L83/04 ,  H01L21/31

Abstract: 本发明提供一种二氧化硅涂膜形成用组合物，含有作为(a)组分的烷氧基硅烷等硅氧烷树脂，作为(b)组分的可以溶解该硅氧烷树脂的醇等溶剂，作为(c)组分的铵盐等以及作为(d)组分的受热分解挥发性化合物，具有如下固化性能，在150℃/3分的加热处理下得到的涂膜的应力为10MPa，而且通过最终固化得到的二氧化硅涂膜的比电容率小于3.0。本发明的二氧化硅涂膜形成用组合物，在形成具有低电容率、粘结性的同时可以形成具有很好机械强度的二氧化硅涂膜。

公开(公告)号：CN1698018A

公开(公告)日：2005-11-16

申请号：CN200480000499.0

申请日：2004-10-07

Applicant: 日立化成工业株式会社

Inventor： 樱井治彰 ,  阿部浩一

IPC: G03F7/075 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明的放射线固化性组合物含有(a)成分：硅氧烷树脂、(b)成分：光酸发生剂或光碱发生剂、及(c)成分：可溶解(a)成分并且含有非质子型溶剂的溶剂。

公开(公告)号：CN1639283A

公开(公告)日：2005-07-13

申请号：CN03804816.7

申请日：2003-02-26

Applicant: 日立化成工业株式会社

Inventor： 樱井治彰 ,  阿部浩一 ,  榎本和宏 ,  野部茂

IPC: C09D183/02 ,  C09D183/04 ,  C09D5/25

CPC classification number: H01L23/5329 ,  C09D183/02 ,  C09D183/04 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/3011 ,  Y10T428/31663 ,  H01L2924/00

Abstract: 本发明提供一种二氧化硅涂膜形成用组合物，含有作为(a)组分的烷氧基硅烷等硅氧烷树脂，作为(b)组分的可以溶解该硅氧烷树脂的醇等溶剂，作为(c)组分的铵盐等以及作为(d)组分的受热分解挥发性化合物，具有如下固化性能，在150℃/3分的加热处理下得到的涂膜的应力为10MPa，而且通过最终固化得到的二氧化硅涂膜的比电容率小于3.0。本发明的二氧化硅涂膜形成用组合物，在形成具有低电容率、粘结性的同时可以形成具有很好机械强度的二氧化硅涂膜。