半导体装置及其制造方法
    12.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114008775A

    公开(公告)日:2022-02-01

    申请号:CN202080045792.8

    申请日:2020-06-16

    Abstract: 本发明的半导体装置(100)包括:半导体元件(10),其具有具备开口部(15a)的第一绝缘层(15)以及从第一绝缘层(15)的开口部(15a)露出的源极电极(12);中继导体(21),其与源极电极(12)相接合;接合层(41),其将源极电极(12)与中继导体(21)相接合;第二绝缘层(31),其覆盖第一绝缘层(15a)的至少一部分,至少与接合层(41)的周围相接地进行设置;表面侧导体(22),其与中继导体(21)相连接;以及密封树脂(32),其填充在表面侧导体(22)与第二绝缘层(31)之间。由此,提供如下半导体装置:即使存在孔隙,局部放电的产生也得到抑制。

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