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公开(公告)号：CN101073037B
公开(公告)日：2010-06-16
申请号：CN200580012384.8
申请日：2005-04-21
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: G03F7/027 , C08G18/0823 , C08G18/4854 , C08G18/672 , C08G18/755 , C09D175/16 , G03F7/032 , G03F7/033 , G03F7/035 , G03F7/038 , G03F7/0388 , H05K3/287 , Y10T428/31855 , C08G18/6692
Abstract: 本发明提供了一种新的感光性树脂组合物，具有充分挠性的其固化膜，以及其产生具有优良的耐热焊性、耐热降解性和化学镀金耐受性的绝缘保护涂层。本发明中要求保护的感光性树脂组合物包含：含有氨基甲酸酯丙烯酸酯化合物(A)和除了所述氨基甲酸酯丙烯酸酯化合物(A)以外的具有烯属不饱和基团的化合物(B)的可光聚合组分、热固性树脂(C)、光聚合引发剂(D)和热聚合催化剂(E)；其中所述氨基甲酸酯丙烯酸酯化合物(A)是下列通式(1)：CH2＝CH-COO-R-NCO(1)(其中，R表示具有1-30个碳原子的烃基)的异氰酸酯化合物(a-1)与多羟基化合物(a-2)的反应产物。
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公开(公告)号：CN101076523A
公开(公告)日：2007-11-21
申请号：CN200580004525.1
申请日：2005-02-09
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07D305/06
CPC classification number: C07D305/06
Abstract: 本发明涉及式(1)所示的含(甲基)丙烯酰基的氧杂环丁烷化合物，其与含(甲基)丙烯酰基的化合物具有高度共聚性，还涉及含(甲基)丙烯酰基的氧杂环丁烷化合物的制造方法，其特征在于使式(5)所示的含(甲基)丙烯酰基的异氰酸酯化合物与式(6)所示的含羟基的氧杂环丁烷化合物反应，在式中，R1代表氢原子或甲基，A代表－OR2－或键，R2代表在主链中可以含有氧原子的二价烃基，R3代表含有1至6个碳原子的直链或支链亚烷基，且R4代表含有1至6个碳原子的直链或支链烷基。
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公开(公告)号：CN101073037A
公开(公告)日：2007-11-14
申请号：CN200580012384.8
申请日：2005-04-21
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: G03F7/027 , C08G18/0823 , C08G18/4854 , C08G18/672 , C08G18/755 , C09D175/16 , G03F7/032 , G03F7/033 , G03F7/035 , G03F7/038 , G03F7/0388 , H05K3/287 , Y10T428/31855 , C08G18/6692
Abstract: 本发明提供了一种新的感光性树脂组合物，具有充分挠性的其固化膜，以及其产生具有优良的耐热焊性、耐热降解性和化学镀金耐受性的绝缘保护涂层。本发明中要求保护的感光性树脂组合物包含：含有氨基甲酸酯丙烯酸酯化合物(A)和除了所述氨基甲酸酯丙烯酸酯化合物(A)以外的具有烯属不饱和基团的化合物(B)的可光聚合组分、热固性树脂(C)、光聚合引发剂(D)和热聚合催化剂(E)；其中所述氨基甲酸酯丙烯酸酯化合物(A)是下列通式(1)：CH2＝CH—COO—R—NCO(1)(其中，R表示具有1－30个碳原子的烃基)的异氰酸酯化合物(a－1)与多羟基化合物(a－2)的反应产物。
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公开(公告)号：CN102596867B
公开(公告)日：2014-06-11
申请号：CN201080045917.3
申请日：2010-10-26
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07C17/38 , C01B31/00 , C07C17/383 , C07C19/08
CPC classification number: C07C17/383 , C01B7/20 , C07C17/386 , C07C19/08
Abstract: 本发明的课题是提供可以从包含氯化氢的含氟化合物(粗含氟化合物)中有效地分离除去氯化氢来获得高纯度的含氟化合物的含氟化合物的纯化方法。作为解决课题的方法是，本发明的含氟化合物的纯化方法的特征在于，依次包含下述工序(1)和工序(2)：工序(1)，在包含含氟化合物和氯化氢的粗含氟化合物中按照二甲醚与氯化氢的摩尔比(二甲醚(摩尔)/氯化氢(摩尔))为1.3以上的方式添加二甲醚，调制粗含氟化合物-二甲醚混合物(1)；工序(2)，从上述混合物(1)中分离除去氯化氢-二甲醚混合物(2)。
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公开(公告)号：CN101970209A
公开(公告)日：2011-02-09
申请号：CN200980103147.0
申请日：2009-01-28
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: B29C59/02 , G11B5/84 , H01L21/027
CPC classification number: G11B5/855
Abstract: 本发明的目的在于提供使用氧蚀刻耐性优异且适用期长的抗蚀剂形成材料的、可以在常温下矩形性良好地进行压印(压纹)的凹凸图案形成方法。本发明的凹凸图案形成方法的特征在于，包括下述工序(1)、工序(2)和工序(3)，工序(1)：将包含下述组成式(A)所表示的倍半硅氧烷化合物的溶液涂布在被加工材料表面上以形成薄膜，工序(2)：将具有凹凸图案的母模按压在该薄膜上，工序(3)：将所述母模从所述薄膜上剥离。R1R2Si2O3组成式(A)(在上述组成式(A)中，R1和R2各自独立地表示特定基团。)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101084186A
公开(公告)日：2007-12-05
申请号：CN200580043888.6
申请日：2005-10-31
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07C263/10 , C07C265/04 , C08F299/00
CPC classification number: C07C265/04 , B33Y70/00 , C07C271/16 , C07C271/34 , C07C275/22 , C07C275/24 , C07C275/30 , C07C333/04 , C07C2601/14 , C07C2603/18 , C07C2603/74 , C08F222/1006 , C08F222/22 , G03F7/027 , H05K3/287 , Y10T428/24917
Abstract: 本发明提供了新型含烯属不饱和基团的异氰酸酯化合物、其制备方法、和由所述异氰酸酯化合物制备的反应性单体、反应性聚合物和其用途。根据本发明的含烯属不饱和基团的异氰酸酯化合物由通式(I)表示。
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公开(公告)号：CN1934075A
公开(公告)日：2007-03-21
申请号：CN200580009554.7
申请日：2005-03-22
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07C263/20 , C07C265/04
CPC classification number: C07C263/20 , C07C263/16 , C07C265/04
Abstract: 本发明的目的是提供一种可在工业有利和温和的条件下通过将具有异氰酸酯基的3－氯丙酸酯衍生物脱去氯化氢而以高收率获得具有异氰酸酯基的(甲基)丙烯酸酯衍生物的方法，而且残余可水解氯的含量被降低。本发明的制备具有异氰酸酯基的(甲基)丙烯酸酯衍生物的方法包括在具有叔氮原子的碱性氮化合物存在下对具有异氰酸酯基的3－氯丙酸酯衍生物进行脱去氯化氢处理，其中碱性氮化合物的叔氮具有至少一个不同于芳环基的基团。
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公开(公告)号：CN1829685A
公开(公告)日：2006-09-06
申请号：CN200480021774.7
申请日：2004-07-27
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07C263/18 , C07C265/04
CPC classification number: C07C263/18 , C07C265/04
Abstract: 本发明提供了稳定的异氰酸(甲基)丙烯酰氧基烷基酯、使其稳定的方法和其制备方法。更特别地，其提供了一种具有低的可水解氯含量和优良的储存稳定性的异氰酸(甲基)丙烯酰氧基烷基酯；一种使通过采用光气制备的异氰酸(甲基)丙烯酰氧基烷基酯稳定的方法，该方法包括采用精制来降低可水解氯的量；以及一种制备稳定的异氰酸(甲基)丙烯酰氧基烷基酯的方法。将酸性气体例如二氧化碳等强制溶解于异氰酸(甲基)丙烯酰氧基烷基酯中、特别是采用精制来降低可水解氯的含量的异氰酸(甲基)丙烯酰氧基烷基酯，并由此提高异氰酸(甲基)丙烯酰氧基烷基酯的储存稳定性。
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公开(公告)号：CN105884654B
公开(公告)日：2019-05-17
申请号：CN201610086594.1
申请日：2016-02-16
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07C269/02 , C07C271/22 , C07C271/60 , C07C273/18 , C07D231/12 , C07C231/10 , C07C333/04 , C08G65/48
Abstract: 本发明提供组合物、组合物的制造方法、不饱和化合物及不饱和化合物的制造方法。本发明提供可以减少制造不饱和化合物时生成着色成分的阻聚剂的添加量、保存时的稳定性和利用时的稳定性优异的组合物及其制造方法。本发明的组合物含有不饱和异氰酸酯化合物、和以质量基准计为0.01～10ppm的叔胺盐酸盐。组合物可以含有以质量基准计为0.1ppm以上的叔胺盐酸盐。不饱和异氰酸酯化合物优选为丙烯酰氧基乙基异氰酸酯或甲基丙烯酰氧基乙基异氰酸酯。
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公开(公告)号：CN105884654A
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201610086594.1
申请日：2016-02-16
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07C269/02 , C07C271/22 , C07C271/60 , C07C273/18 , C07D231/12 , C07C231/10 , C07C333/04 , C08G65/48
CPC classification number: C07C269/02 , C07C231/10 , C07C273/18 , C07C333/04 , C07D231/12 , C08G65/48 , C07C271/22 , C07C271/60
Abstract: 本发明提供组合物、组合物的制造方法、不饱和化合物及不饱和化合物的制造方法。本发明提供可以减少制造不饱和化合物时生成着色成分的阻聚剂的添加量、保存时的稳定性和利用时的稳定性优异的组合物及其制造方法。本发明的组合物含有不饱和异氰酸酯化合物、和以质量基准计为0.01～10ppm的叔胺盐酸盐。组合物可以含有以质量基准计为0.1ppm以上的叔胺盐酸盐。不饱和异氰酸酯化合物优选为丙烯酰氧基乙基异氰酸酯或甲基丙烯酰氧基乙基异氰酸酯。
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