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公开(公告)号：CN101978420A
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：CN200980109283.0
申请日：2009-03-10
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: G11B5/84 , C09D183/04 , G11B5/65
CPC classification number: G11B5/855 , C09D183/06 , G03F7/0757
Abstract: 本发明提供了一种磁记录介质的制造方法，是在非磁性基板上至少具有记录层和保护膜的磁记录介质的制造方法，其特征在于，依次具有以下工序：在基板上形成连续的记录层的工序，形成图案化的抗蚀剂层的工序，依照该抗蚀剂图案部分性地除去上述记录层的工序，在上述记录层和已除去记录层的部位上涂布具有活性能量线固化性官能团的有机硅化合物的工序，通过活性能量线使上述有机硅化合物固化的工序，对上述有机硅化合物进行蚀刻，使磁性层在表面露出的工序，以及形成保护膜的工序。
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公开(公告)号：CN101848915A
公开(公告)日：2010-09-29
申请号：CN200880114939.3
申请日：2008-11-05
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07F7/21 , C08G59/20 , H01L21/027
CPC classification number: B82Y40/00 , B82Y10/00 , C07F7/0838 , C07F7/21 , C08G59/306 , C08G59/3281 , C08G59/42 , G03F7/0002 , G03F7/0757
Abstract: 本发明的目的在于一种转印材料用固化性组合物，其适合用于可以以高生产量形成微细图案的工艺即紫外纳米压印法；并且有时适合用于热纳米压印法；而且可以形成氟类气体和氧气气体的蚀刻速度选择性高的微细图案。本发明的转印材料用固化性组合物，其特征在于，含有具有Si-H基的硅化合物(A)与具有固化性官能团和除该固化性官能团以外的其它碳碳双键的化合物(B)加成进行硅氢化反应所得化合物的固化性硅化合物。
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公开(公告)号：CN104247111B
公开(公告)日：2017-06-30
申请号：CN201380017834.7
申请日：2013-03-15
Applicant: 昭和电工株式会社 , 大日精化工业株式会社
CPC classification number: H01M4/663 , C09D101/28 , C09D101/284 , C09D103/08 , C09D105/00 , C09D105/02 , H01G11/28 , H01G11/68 , H01M4/0402 , H01M4/13 , H01M4/139 , H01M4/661 , H01M4/667 , Y02E60/13
Abstract: 本发明的目的在于提供一种内阻低、能够进行快速充电的电化学元件用集电体的制造方法。本发明中的电化学元件用集电体的制造方法，具有在金属箔上涂布涂布液后，除去所述有机溶剂，在所述金属箔上形成被覆层的工序，所述涂布液含有：选自甲基纤维素、乙基纤维素、羟乙基纤维素、羟丙基纤维素、羟乙基甲基纤维素、羟乙基乙基纤维素、羟丙基甲基纤维素、羟乙基淀粉、羟丙基淀粉、糊精、普鲁兰多糖、葡聚糖、瓜尔胶、和羟丙基瓜尔胶中的至少一种、2价以上的有机酸或其衍生物、碳粒子、和有机溶剂。
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公开(公告)号：CN104247111A
公开(公告)日：2014-12-24
申请号：CN201380017834.7
申请日：2013-03-15
Applicant: 昭和电工株式会社 , 大日精化工业株式会社
CPC classification number: H01M4/663 , C09D101/28 , C09D101/284 , C09D103/08 , C09D105/00 , C09D105/02 , H01G11/28 , H01G11/68 , H01M4/0402 , H01M4/13 , H01M4/139 , H01M4/661 , H01M4/667 , Y02E60/13
Abstract: 本发明的目的在于提供一种内阻低、能够进行快速充电的电化学元件用集电体的制造方法。本发明中的电化学元件用集电体的制造方法，具有在金属箔上涂布涂布液后，除去所述有机溶剂，在所述金属箔上形成被覆层的工序，所述涂布液含有：选自甲基纤维素、乙基纤维素、羟乙基纤维素、羟丙基纤维素、羟乙基甲基纤维素、羟乙基乙基纤维素、羟丙基甲基纤维素、羟乙基淀粉、羟丙基淀粉、糊精、普鲁兰多糖、葡聚糖、瓜尔胶、和羟丙基瓜尔胶中的至少一种、2价以上的有机酸或其衍生物、碳粒子、和有机溶剂。
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公开(公告)号：CN103003254A
公开(公告)日：2013-03-27
申请号：CN201180034697.9
申请日：2011-06-29
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07D301/12 , C07D303/27
CPC classification number: C07D301/12
Abstract: 本发明提供在乙腈的存在下，使用过氧化氢作为氧化剂，将具有碳－碳双键的化合物进行环氧化的环氧化合物的制造方法，是不需要残存有过氧化氢的反应液的浓缩操作，安全并且简便的方法。一种环氧化合物的制造方法，是在乙腈的存在下，使用过氧化氢作为氧化剂，将具有碳－碳双键的化合物进行环氧化的环氧化合物的制造方法，其包含以下工序：第一工序，在该环氧化反应结束后，在反应液中添加水、和对水无相容性且不溶解该环氧化反应的副产物乙酰胺的有机溶剂，使乙酰胺溶解在水中；第二工序，将有机层与水层进行分离；以及第三工序，将有机层进行还原处理后，进行水洗涤、浓缩，获得环氧化合物。
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公开(公告)号：CN102301449A
公开(公告)日：2011-12-28
申请号：CN201080005787.0
申请日：2010-01-26
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: H01L21/027 , B29C59/02 , C07C275/10 , G11B5/65 , G11B5/84 , G11B5/855 , B29K61/20
CPC classification number: G11B5/855 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C07C275/10 , G03F7/0002 , G03F7/027
Abstract: 本发明的目的是提供纳米压印法的转印性非常好、而且氩气和氧气的干蚀刻速度的选择性高，并且可以以高吞吐量形成微细图案的、适合纳米压印法的转印材料用固化性组合物。本发明的转印材料用固化性组合物，含有具有选自下述式(1)～(3)中的至少一种骨架和(甲基)丙烯酰基的化合物(A)。
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公开(公告)号：CN101977919A
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：CN200980110402.4
申请日：2009-03-23
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07F7/21
CPC classification number: C07F7/21
Abstract: 本发明的目的在于提供固化速度快且抗蚀刻性和选择性优异、在室温下为液体的环氧化合物及其制造方法。本发明的环氧化合物以式(I)表示；(YSiO3/2)n···(I)(式(I)中，n个Y中的p个(p是n以下的自然数)表示下述式(1a)～(5a)的任一个所表示的基团，(n-p)个Y表示氢原子或-OSiR12H，n表示2～500的整数。R1各自独立地表示烷基，R2～12各自独立地表示氢原子或烷基等，X表示单键等，＊表示与(I)所示的Si结合的部分)。
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公开(公告)号：CN113939767A
公开(公告)日：2022-01-14
申请号：CN202080040836.8
申请日：2020-06-03
Applicant: 昭和电工株式会社
Abstract: 本发明提供即使为低曝光量也可以进行显影及图案形成的含有黑色着色剂的高灵敏度的感光性树脂组合物。一个实施方式的正型感光性树脂组合物含有：具有多个酚性羟基且多个酚性羟基中的至少一部分被酸分解性基团保护了的第1树脂(A)、具有环氧基及酚性羟基的第2树脂(B)、选自黑色染料及黑色颜料中的至少一种的着色剂(C)及光产酸剂(D)。
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公开(公告)号：CN101883797B
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN200880117412.6
申请日：2008-11-11
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C08F30/08 , B29C59/02 , C08G59/20 , C08G77/38 , C08L83/06 , C08L83/07 , G11B5/65 , G11B5/84 , G11B5/855 , H01L21/027
CPC classification number: B29D17/00 , C08F220/40 , C08G77/045 , C08G77/14 , C08G77/38 , G11B5/855
Abstract: 本发明的目的在于提供一种转印材料用固化性组合物，其适合用于可以高生产量形成微细图案的工艺即紫外纳米压印法，有时还适合用于热纳米压印法，并且可以形成氟类气和氧气的蚀刻速度选择性高的微细图案。本发明的转印材料用固化性组合物，其特征在于，含有在同一分子内具有特定倍半硅氧烷骨架和固化性官能团的含倍半硅氧烷骨架的化合物。
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