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公开(公告)号:CN102428519B
公开(公告)日:2014-08-06
申请号:CN201080021659.5
申请日:2010-10-25
Applicant: 松下电器产业株式会社
IPC: G11C11/22 , H01L21/8246 , H01L21/8247 , H01L27/105 , H01L29/788 , H01L29/792
CPC classification number: G11C11/22 , H01L27/1159 , H01L29/4908 , H01L29/6684 , H01L29/78391 , H01L29/78648
Abstract: 在本发明的驱动方法中,具有:通过分别对第一栅极电极(12)、第二栅极电极(17)、源极电极(15s)和漏极电极(15d)施加满足V1>Vs、V1>Vd、V2>Vs和V2>Vd的关系的电压V1、V2、Vs和Vd,对半导体存储装置写入第一电阻值的工序(1);通过施加满足V1>Vs、V1>Vd、V2<Vs和V2<Vd的关系的电压,对半导体存储装置写入第二电阻值的工序(2);和通过施加满足V1<Vs、V1<Vd、V2<Vs和V2<Vd的关系的电压,对半导体存储装置写入第三电阻值的工序(3)。
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公开(公告)号:CN102405521A
公开(公告)日:2012-04-04
申请号:CN200980158825.3
申请日:2009-12-15
Applicant: 松下电器产业株式会社
IPC: H01L21/8246 , H01L21/8247 , H01L27/105 , H01L29/786 , H01L29/788 , H01L29/792
CPC classification number: H01L21/28291 , G11C11/22 , H01L27/1159 , H01L27/1251 , H01L29/78391
Abstract: 一种半导体存储单元(20),其具备栅极绝缘膜由铁电体膜(4)构成的MFSFET(21)所组成的存储元件和栅极绝缘膜由顺电体膜(9)构成的MISFET(22)所组成的选择开关元件,MFSFET的第1栅电极(3)由在基板(1)上的结晶性绝缘膜(2)表面形成的结晶性导电膜(3)构成,铁电体膜(4)按照覆盖第1栅电极(3)的方式形成在结晶性绝缘膜(2),顺电体膜(9)隔着半导体膜(5)形成在铁电体膜(4)上,MISFET(22)的第2栅电极(10)形成在顺电体膜(9)上。
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