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公开(公告)号：CN1987457B
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN200610168085.X
申请日：2006-12-18
Applicant: 栗田工业株式会社
Abstract: 本发明提供水质评价方法、使用该水质评价方法的超纯水评价装置以及备有该超纯水评价装置的超纯水制造系统，所述水质评价方法以对硅物质的影响度作为指标、简易且高灵敏度地对作为制造半导体或液晶用的洗涤水而使用的超纯水的腐蚀性进行评价。使超纯水制造装置制造的超纯水等试样水与硅物质接触，测定与该硅物质接触后的试样水的溶解氢浓度，算出相对于与该硅物质接触前的上述试样水的溶解氢浓度的提高部分，基于该溶解氢浓度的提高部分，判断所述试样水是否具有腐蚀硅表面的性质。
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公开(公告)号：CN102348644A
公开(公告)日：2012-02-08
申请号：CN201080011487.3
申请日：2010-03-29
Applicant: 栗田工业株式会社
CPC classification number: C02F1/008 , C02F1/006 , C02F2103/04 , C02F2209/02 , C02F2209/04 , C02F2209/05 , C02F2209/11 , C02F2209/14 , C02F2209/20 , C02F2209/22 , G01N33/18 , G01N33/1846 , Y02A20/206 , Y10T137/0318 , Y10T137/8593
Abstract: 通过降低在由多个计量仪器测定超纯水的水质并进行监测时所需要的监测水量，来抑制超纯水制造装置的规模，并由此谋求装置成本的降低。在分取出从超纯水制造装置供给至使用点处的超纯水的一部分并对水质进行监测时，使超纯水通过将相异种类的水质测定计量仪器串联连结两级以上而成的监测装置，来对水质进行监测。由于使从由超纯水制造装置起至使用点处的供水配管所分取的超纯水，串联地通过串联地连接两级以上的相异种类的水质测定计量仪器，因此，通过使在这些计量仪器的水质测定中所需要的监测水共用，由此谋求监测水量的降低，其结果，抑制超纯水制造装置的规模，而能够谋求装置成本的降低。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101374769B
公开(公告)日：2012-10-10
申请号：CN200780003756.X
申请日：2007-01-11
Applicant: 栗田工业株式会社
Inventor： 小林秀树
CPC classification number: B01J35/0013 , B01D19/0073 , B01J23/40 , B01J31/08 , B01J35/006 , B01J2531/824 , B01J2531/828 , B82Y30/00 , C02F1/42 , C02F1/70 , C02F2101/10 , C02F2103/04 , C02F2103/346 , C02F2303/18 , C02F2305/08
Abstract: 本发明提供了用于脱除水中的过氧化氢的方法，它包括使含有过氧化氢的待处理水与过氧化氢分解催化剂接触，其中所述催化剂是通过将待负载的平均直径为1-50nm的铂族金属纳米胶粒沉积在载体上而获得的。还提供了过氧化氢脱除装置，它包含：装有催化剂的过氧化氢分解装置，其中所述催化剂是通过将待负载的平均直径为1-50nm的铂族金属纳米胶粒沉积在载体上而获得的；给水手段，它向所述装置提供含有过氧化氢的待处理水；以及排水手段，它在水与所述催化剂接触后从所述装置排放水。可以迅速而确实地脱除待处理水中的过氧化氢。所述方法和装置适用于脱除超纯水生产装置中的超纯水中的过氧化氢，其中所述超纯水用于处理诸如半导体和液晶这样的电子材料的工业中。
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公开(公告)号：CN102361824A
公开(公告)日：2012-02-22
申请号：CN201080013120.5
申请日：2010-03-30
Applicant: 栗田工业株式会社
CPC classification number: C02F1/705 , B01J23/42 , B01J31/08 , B01J2231/005 , C02F1/20 , C02F1/42 , C02F2001/422 , C02F2101/10 , C02F2303/18 , C02F2305/00
Abstract: 本发明提供一种即使是含有％级的较高浓度的过氧化氢的排水，也可连续运转且进行稳定且有效率的处理的构成简易且较为小型的过氧化氢水处理装置。本发明的过氧化氢水处理装置，其使被处理水与过氧化氢分解催化剂接触，将该被处理水中的过氧化氢分解成氧和水，从而，获得处理水，其特征在于，具有：过氧化氢分解反应器(2)，其具有该被处理水的导入口与处理水的排出口，在内部被填充有过氧化氢分解催化剂(1)；及气液分离器(3)，其中导入该过氧化氢分解反应器(2)的流出水，并且，该气液分离器(3)是由在上部连接排气配管(13)、在下部连接排水配管(14)的筒状容器(4)所构成，在该筒状容器(4)的侧部导入前述流出水。
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公开(公告)号：CN101981242A
公开(公告)日：2011-02-23
申请号：CN200980111052.3
申请日：2009-03-25
Applicant: 栗田工业株式会社
CPC classification number: D01D5/0038 , B01D39/1623 , B01D2239/0631 , B01D2239/10 , B01J20/26 , B01J20/28023 , B01J47/127 , C02F1/42 , C02F2103/04 , D01F6/48 , D04H1/728 , D04H3/02 , Y10T442/637
Abstract: 本发明涉及一种含有非电解质聚合物与电解质聚合物且兼具双方性质及优点的杂化聚合物纤维体及其制造方法、和包含该杂化聚合物纤维体的的过滤器。在喷出口(1)与靶(相反表面部)(3)之间，以喷出口(1)侧为正、靶(3)侧为负的方式，施加电压，自喷出口(1)使非电解质聚合物及电解质聚合物的混合溶液朝向靶(3)喷出，在靶(3)上聚集含有非电解质聚合物与电解质聚合物的杂化聚合物纤维体(2)。使用该杂化聚合物纤维体(2)用作流体过滤用的过滤器。
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公开(公告)号：CN101374769A
公开(公告)日：2009-02-25
申请号：CN200780003756.X
申请日：2007-01-11
Applicant: 栗田工业株式会社
Inventor： 小林秀树
CPC classification number: B01J35/0013 , B01D19/0073 , B01J23/40 , B01J31/08 , B01J35/006 , B01J2531/824 , B01J2531/828 , B82Y30/00 , C02F1/42 , C02F1/70 , C02F2101/10 , C02F2103/04 , C02F2103/346 , C02F2303/18 , C02F2305/08
Abstract: 本发明提供了用于脱除水中的过氧化氢的方法，它包括使含有过氧化氢的待处理水与过氧化氢分解催化剂接触，其中所述催化剂是通过将待负载的平均直径为1－50nm的铂族金属纳米胶粒沉积在载体上而获得的。还提供了过氧化氢脱除装置，它包含：装有催化剂的过氧化氢分解装置，其中所述催化剂是通过将待负载的平均直径为1－50nm的铂族金属纳米胶粒沉积在载体上而获得的；给水手段，它向所述装置提供含有过氧化氢的待处理水；以及排水手段，它在水与所述催化剂接触后从所述装置排放水。可以迅速而确实地脱除待处理水中的过氧化氢。所述方法和装置适用于脱除超纯水生产装置中的超纯水中的过氧化氢，其中所述超纯水用于处理诸如半导体和液晶这样的电子材料的工业中。
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公开(公告)号：CN1987457A
公开(公告)日：2007-06-27
申请号：CN200610168085.X
申请日：2006-12-18
Applicant: 栗田工业株式会社
Abstract: 本发明提供水质评价方法、使用该水质评价方法的超纯水评价装置以及备有该超纯水评价装置的超纯水制造系统，所述水质评价方法以对硅物质的影响度作为指标、简易且高灵敏度地对作为制造半导体或液晶用的洗涤水而使用的超纯水的腐蚀性进行评价。使超纯水制造装置制造的超纯水等试样水与硅物质接触，测定与该硅物质接触后的试样水的溶解氢浓度，算出相对于与该硅物质接触前的上述试样水的溶解氢浓度的提高部分，基于该溶解氢浓度的提高部分，判断所述试样水是否具有腐蚀硅表面的性质。
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