清洁设备和清洁方法
    12.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101607254A

    公开(公告)日:2009-12-23

    申请号:CN200910146193.0

    申请日:2009-06-18

    CPC classification number: G03G15/0894 B08B7/02 B08B15/02 B08B15/04 B24C9/00

    Abstract: 本发明提供一种用于待清洁物体的清洁设备和清洁方法,其通过允许由气流使得清洁介质飞舞而与待清洁物体碰撞。该清洁设备包括:清洁箱,其中通过气流使得清洁介质飞舞并且该清洁箱具有开口以允许待清洁物体通过;清洁介质加速部分,其设置在清洁箱的底部并用以注射气流以使得清洁介质飞舞;中空长型件,其具有与开口的直径大致相同的内径,连接到开口外部并配置成形成用于待清洁物体的运动路径;以及清洁介质返回部分,用以将停滞在中空长型件中的清洁介质返回到清洁箱中。

    干式清洁设备及干式清洁方法

    公开(公告)号:CN1994588A

    公开(公告)日:2007-07-11

    申请号:CN200610064018.3

    申请日:2006-11-02

    Abstract: 本发明公开一种干式清洁技术。利用通过高速气流而流动的清洁介质去除粘附到待清洁物体上的灰尘。利用多孔元件从清洁介质分离被去除的灰尘,其中多孔元件具有很多能通过空气、灰尘、和颗粒状材料但不能通过清洁介质的孔。多孔元件上接收空气以使清洁介质流动的区域和多孔元件上接收空气以抽出从清洁介质中分离出来的灰尘的区域可进行转换。

    干式清洁机架、干式清洁装置和干式清洁系统

    公开(公告)号:CN103402658B

    公开(公告)日:2015-04-15

    申请号:CN201280009966.0

    申请日:2012-02-15

    CPC classification number: B08B7/02 B08B15/04 B24C1/04 B24C3/06 B24C3/065 B24C9/00

    Abstract: 本发明涉及一种干式清洁机架(4),用于通过使清洁介质(5)与清洁目标(20)碰撞来清洁清洁目标(20),清洁介质(5)通过空气流吹送,干式清洁机架包括:内部空间(26),清洁介质(5)在该内部空间中飞行;开口部件(18),与清洁目标(20)接触以便清洁介质(5)与清洁目标(20)相撞;进气导管(24A),将外界空气引入内部空间(26)中;抽吸口(8),通过抽吸引入的外界空气生成由在内部空间(26)中的循环空气流导致的第一空气流;注射口(24B),至少产生增大通过循环空气流飞行的清洁介质(5)的速度的第二空气流;和多孔单元(14),将从清洁目标(20)除去的物体传送到抽吸口(8)侧。

    干式清洁箱体和干式清洁设备

    公开(公告)号:CN103180058B

    公开(公告)日:2015-03-11

    申请号:CN201180051471.X

    申请日:2011-10-26

    Abstract: 一种干式清洁箱体,用于利用被回转气流飞动的介质(5)来对清洁对象进行清洁。该干式清洁箱体包括箱体单元(4)和防泄漏单元(32A)。所述箱体单元(4)包括其中飞动介质(5)的空间(26);接触对象(20)以便介质(5)与对象(20)碰撞的开口(18a);空气通过其从外侧流入所述空间(26)的通风路径(24a);吸取已经通过所述通风路径(24a)被导入所述空间(26)的空气以在所述空间(26)内产生回转气流的吸取开口(8);以及从对象(20)上去除的物质通过其穿行到吸取开口(8)的多孔单元(14)。在所述箱体单元(4)与所述对象(20)分离时,所述防泄漏单元(32A)通过导致外部空气流入而防止介质(5)泄漏。

    干式清洁箱及干式清洁设备

    公开(公告)号:CN102553862B

    公开(公告)日:2014-10-29

    申请号:CN201110462247.1

    申请日:2011-11-17

    CPC classification number: B08B7/02

    Abstract: 本发明公开了一种干式清洁箱,其包括箱部分,箱部分包含与清洁目标接触的开口部分,把外部空气吹入内部空间的空气输入管;通过抽吸经空气输入管引入到内部空间的空气,在内部空间产生循环空气流的抽吸口;多孔单元,其构造成从清洁目标上除去的物体经多孔单元至吸入口侧;以及路径限制元件,其形成圆柱形,沿着循环空气流的中心轴方向延伸,并被构造成使得圆柱形的内部与作为抽吸路径的抽吸口联通。

    干式清洁机架、干式清洁装置和干式清洁法

    公开(公告)号:CN103567192A

    公开(公告)日:2014-02-12

    申请号:CN201310301359.8

    申请日:2013-07-18

    CPC classification number: B08B5/04 B08B7/02 B08B7/04 B08B15/04 B08B7/00

    Abstract: 本发明涉及一种干式清洁机架,包括:内部空间,清洁介质在该内部空间中流动;开口部件,该开口部件构造成与清洗对象接触:进气导管,该进气导管构造成将外界空气引入到内部空间中;抽吸端口,该抽吸端口对从进气导管引入到内部空间中的空气抽真空,并且导致在内部空间中产生循环空气流;流路限制构件,该流路限制构件调节循环空气流在内部空间内的循环轴线;清洁介质排出口,该清洁介质排出口与循环空气流的循环流路外部连通,并且被构造成将清洁介质从循环流路排出到外部;和清洁介质导引构件,该清洁介质导引构件将清洁介质引导到清洁介质排出口。

    清洁装置和清洁方法
    19.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102089088A

    公开(公告)日:2011-06-08

    申请号:CN200980126595.2

    申请日:2009-06-30

    CPC classification number: B08B5/02 B08B7/00 B08B7/02

    Abstract: 本发明公开了一种清洁装置,用于去除粘附在要被清洁的物体上的沉积物,包括:清洁腔室,该清洁腔室形成用于容纳形状如同薄片的多个清洁介质的空间;循环气流发生单元,该循环气流发生单元被构造成产生循环气流,以在清洁腔室内导致清洁介质飞动并且与所述物体反复碰撞,并由此去除粘附到所述物体上的沉积物;以及清洁介质再循环单元,该清洁介质再循环单元被构造成吸取和去除粘附在已经与物体碰撞的清洁介质上的沉积物,并由此再循环清洁介质。所述清洁介质的铅笔硬度大于所述沉积物的铅笔硬度。

Patent Agency Ranking