半导体发光元件
    11.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118891792A

    公开(公告)日:2024-11-01

    申请号:CN202380026117.4

    申请日:2023-03-06

    Abstract: 半导体发光元件(1)具备半导体层叠(20)、电极(16)以及电极(17)。半导体层叠(20)包含活性层(12)及相位调制层(15)。相位调制层(15)具有多个相位调制区域(151)。各相位调制区域(151)包含具有第一折射率的基本区域(15a)和具有与第一折射率不同的第二折射率且呈二维状分布的多个不同折射率区域(15b)。电极(16)包含从半导体层叠(20)的层叠方向观察与多个相位调制区域(151)分别重叠的多个电极部分(161)。多个电极部分(161)相互电分离。在多个相位调制区域(151)的各个中谐振的激光(L)成为与多个不同折射率区域(15b)的配置对应的光像而向共同的照射区域照射。从多个相位调制区域(151)分别输出的光像相互相位同步。

    激光装置
    12.
    发明公开
    激光装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN116490318A

    公开(公告)日:2023-07-25

    申请号:CN202180071970.9

    申请日:2021-09-29

    Abstract: 一种激光装置,具备:激光光源,其出射激光;相位控制部,其用于输入自上述激光光源出射的上述激光,控制上述激光的一部分的光的空间相位并作为控制光出射,且将上述激光的另一部分的光作为非控制光出射;第1光学系统,其用于将自上述相位控制部出射的上述控制光照射于对象物;检测器,其用于检测自上述相位控制部出射的上述非控制光;第2光学系统,其用于将自上述相位控制部出射的上述非控制光朝上述检测器的检测面聚光;及控制部,其执行用于基于来自上述检测器的上述非控制光的检测结果,以修正上述相位控制部中的上述控制光的空间相位的控制状态的方式控制上述相位控制部的修正处理。

    图像输出装置
    13.
    发明公开
    图像输出装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN113810671A

    公开(公告)日:2021-12-17

    申请号:CN202110667871.9

    申请日:2021-06-16

    Abstract: 本公开的图像输出装置使立体图像的扩大变得容易。该图像输出装置具有空间调制器、图像照射部以及寻址光照射部。空间调制器具有主面、背面以及多个像素,反射照射于主面的光并且对每一个像素调制光的相位。图像照射部在主面照射包含二维光学图像的光。寻址光照射部在背面照射包含衍射光栅图案的寻址光。空间光调制器的各像素根据从背面侧照射的寻址光的强度而使相位调制量变化。寻址光照射部以使在背面的衍射光栅图案的方向动态地变化的方式构成。图像照射部在主面照射对应于衍射光栅图案的方向的二维光学图像。

    发光装置
    14.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112640234A

    公开(公告)日:2021-04-09

    申请号:CN201980056016.5

    申请日:2019-08-27

    Abstract: 本实施方式涉及能够从S‑iPM激光的输出光除去0次光的发光装置。该发光装置具备活性层和相位调制层。相位调制层包含基本层和多个不同折射率区域。在相位调制层上设定了假想的正方晶格的状态下,各不同折射率区域的重心从对应的晶格点离开,且决定各不同折射率区域的重心的位置的各晶格点周围的旋转角度根据用于光学图像形成的相位分布而设定。晶格间隔和发光波长满足相位调制层的倒易晶格空间中的M点振荡的条件。形成在倒易晶格空间上且分别包含与输出光的角度扩展对应的波数扩展的4个方向的面内波数矢量中的至少1个的大小小于2π/λ。

    光片显微镜以及试样观察方法

    公开(公告)号:CN111771150A

    公开(公告)日:2020-10-13

    申请号:CN201880090339.1

    申请日:2018-12-26

    Abstract: 光片显微镜包括照射光学系统、检测光学系统和光检测器。照射光学系统具有:作为激发光输出波长随时间变化的光的波长扫描光源;分光元件,其入射从波长扫描光源输出的激发光,并且以与激发光的波长对应的出射角出射激发光;包含柱面透镜的中继光学系统,其中,从分光元件出射的激发光以与出射角对应的入射角入射于柱面透镜;和第一物镜,其使由中继光学系统引导来的激发光会聚,并使片状的激发光照射于试样。

    发光装置及其制造方法
    17.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111448726A

    公开(公告)日:2020-07-24

    申请号:CN201880078841.0

    申请日:2018-11-28

    Abstract: 本实施方式涉及具备能够将±1次光中的一方的功率相对于另一方的功率降低的构造的发光装置等。该发光装置具备基板、发光部、包含基本层以及多个不同折射率区域的相位调制层。多个不同折射率区域的各个具有由面对基板的第一面、相对于第一面而位于基板的相反侧的第二面、以及侧面规定的立体形状。在该立体形状中,第一面、第二面以及侧面中的至少任一者包含相对于主面倾斜的部分。

    半导体发光元件和相位调制层设计方法

    公开(公告)号:CN110574247A

    公开(公告)日:2019-12-13

    申请号:CN201880026749.X

    申请日:2018-05-25

    Abstract: 本实施方式涉及半导体发光元件,其具有用于抑制因从相位调制层输出的光的一部分被电极遮挡而导致的光学像的质量降低。该半导体发光元件包括具有基层和多个异折射率区域的相位调制层,相位调制层包括沿层叠方向至少一部分与电极重叠的第一区域和除第一区域外的第二区域。以多个异折射率区域之中仅第二区域内的1个或其以上的异折射率区域对光学像的形成有贡献的方式进行配置。

    图像取得装置、图像取得方法以及空间光调制单元

    公开(公告)号:CN108351503A

    公开(公告)日:2018-07-31

    申请号:CN201680063250.7

    申请日:2016-09-20

    Inventor: 泷口优

    CPC classification number: G01N21/01 G01N21/64 G02B21/00

    Abstract: 图像取得装置(1)具备:光源(11),输出光(L1);空间光调制器(13),具有被排列成二维的多个像素并且对多个像素的每个调制从光源(11)输出的光(L1)的相位;物镜(16),将由空间光调制器(13)调制的光(L1)照射于观察对象物(S);光检测器(18),对来自观察对象物(S)的光(L1)进行摄像;控制部(19),按照分别对应于多个像素的相位值二维地分布的相位图案(P)控制多个像素的每个的相位调制量。相位图案(P)是基于规定的基本相位图案(31)而被生成的相位图案(P)。基本相位图案(31)具有相位值沿着规定的方向(D1)连续增加的第1区域(32)、在规定的方向(D1)上与第1区域(32)相对并且相位值沿着规定的方向(D1)连续减少的第2区域(33)。

    图像取得装置、图像取得方法以及空间光调制单元

    公开(公告)号:CN108351502A

    公开(公告)日:2018-07-31

    申请号:CN201680063190.9

    申请日:2016-09-20

    Inventor: 泷口优

    CPC classification number: G01N21/64 G02B21/00

    Abstract: 图像取得装置(1)中,具备:光源(11);空间光调制器(14),具有被排列成二维的多个像素并且对多个像素的每个调制从光源(11)输出的激发光(L1)的相位;第1物镜(16);第2物镜(17);光检测器(20);控制部(21),按照对应于多个像素的二维的相位图案(P)控制多个像素的每个的相位调制量。相位图案(P)是使用规定的基本相位图案(31)而被生成的相位图案。基本相位图案(31)具有相位值沿着规定的方向(D1)连续增加的第1区域(32)、在方向(D1)上与第1区域(32)相对并且相位值沿着方向(D1)连续减少的第2区域(33)。

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