检查衬底的方法、量测设备和光刻系统

    公开(公告)号:CN109844646A

    公开(公告)日:2019-06-04

    申请号:CN201780063311.4

    申请日:2017-09-28

    Abstract: 公开了量测设备和方法。在一种布置中,检查衬底。由辐射源(50)发射的源辐射光束(131)被分成测量光束(132)和参考光束(133)。用测量光束照射第一目标,第一目标在衬底(W)上。用参考光束照射第二目标(90),第二目标与衬底分离。从第一目标收集第一散射辐射(134)并将其递送到检测器(80)。从第二目标收集第二散射辐射(135)并将其递送到检测器。在检测器处第一散射辐射与第二散射辐射干涉。第一目标包括第一图案。第二目标包括第二图案或第二图案的光瞳平面图像。第一图案在几何上与第二图案相同,第一图案和第二图案是周期性的并且第一图案的节距与第二图案的节距相同,或两者兼而有之。

    检查装置、检查方法和设备制造方法

    公开(公告)号:CN106662824A

    公开(公告)日:2017-05-10

    申请号:CN201580037024.7

    申请日:2015-06-19

    Abstract: 检查装置(100)用于测量衬底上的目标。相干辐射跟随用于照射目标(T)的照射路径(实线)。收集路径(虚线)收集来自目标的衍射辐射并且将其传递至锁定图像检测器(112)。参考束跟随参考路径(点线)。声光调制器(108)偏移参考束的光学频率,使得锁定检测器处的辐射的强度包括时变分量,其具有与衍射辐射与参考辐射的频率之间的差相对应的特征频率。锁定图像检测器记录表示时变分量的幅度和相位的二维图像信息。具有不同偏移(110)的第二参考束跟随第二参考路径(点划线)。两个参考束之间的敢骚扰可用于强度标准化。

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