公开(公告)号：CN106017673A

公开(公告)日：2016-10-12

申请号：CN201610308908.8

申请日：2016-05-10

Applicant: 天津大学

Inventor： 张尹馨 ,  庞亚军 ,  黄战华 ,  赵健 ,  盖叶

IPC: G01J3/18 ,  G02B26/08

CPC classification number: G01J3/1804 ,  G01J3/1838 ,  G02B26/0833

Abstract: 本发明属于光谱测量仪器领域，为提供一种基于MEMS扫描微镜的双通过光栅单色仪光路结构。本发明‑基于MEMS扫描微镜的双通过光栅单色仪光路结构，由光环形器，光纤信号输入端口，入射光纤端口，准直与聚焦镜，MEMES微镜，光栅，平面反射镜和出射光纤端口组成；光纤信号输入端口连接光环行器的第一端口,光信号经过光环行器的第二端口从入射光纤端口进去自由空间，经过双胶合透镜准直以后照射到MEMS微镜上，MEMS微镜将光信号反射到光栅上进行第一次衍射分光，紧接着平面反射镜将光信号按原路反射回光栅进行第二次衍射，最后进入入射光纤端口。本发明主要应用于光谱测量仪器设计制造。

公开(公告)号：CN105980819A

公开(公告)日：2016-09-28

申请号：CN201580007227.1

申请日：2015-02-03

Applicant: 浜松光子学株式会社

Inventor： 能野隆文 ,  柴山胜己

IPC: G01J3/02 ,  G01J3/18 ,  G01J3/36

CPC classification number: G01J3/0208 ,  G01J3/021 ,  G01J3/0224 ,  G01J3/0256 ,  G01J3/0291 ,  G01J3/0294 ,  G01J3/18 ,  G01J3/1838 ,  G01J3/24 ,  G01J3/2803

Abstract: 本发明的分光器(1A)具有分光单元(2A)、(2B)、(2C)。分光单元(2A)具有的光通过部(21A)、反射部(11A)、共通反射部(12)、分光部(40A)和光检测部(22A)，从Z轴方向看时，沿着基准线(RL1)排列。分光单元(2B)具有的光通过部(21B)、反射部(11B)、共通反射部(12)、分光部(40B)和光检测部(22B)，从Z轴方向看时，沿着基准线(RL2)排列。分光单元(2C)具有的光通过部(21C)、反射部(11C)、共通反射部(12)、分光部(40C)和光检测部(22C)，从Z轴方向看时，沿着基准线(RL3)排列。基准线(RL1)与基准线(RL2)、(RL3)交叉。

公开(公告)号：CN102946794A

公开(公告)日：2013-02-27

申请号：CN201180031147.1

申请日：2011-06-21

Applicant: 森斯派克有限公司

Inventor： A·库尔克

IPC: A61B5/00 ,  G01J3/02 ,  G01J3/28 ,  A61B5/1455

CPC classification number: G01J3/1838 ,  A61B5/14532 ,  A61B5/1455 ,  A61B5/6801 ,  A61B5/7239 ,  G01J3/021 ,  G01J3/0256 ,  G01J3/0264 ,  G01J3/2803 ,  G01J3/42 ,  G01N21/31 ,  G01N2021/3144 ,  G01N2201/062

Abstract: 本发明涉及用于测定并监视测量介质的成分或特性的装置，例如测定并监视生理血液值，其中所述装置包含光源（20），用于生成宽带测量光（2）并在测量区域（3）上发生作用，以及用于将被测量区域（3）反射的分析光（4）扇形散开的工具（9）。该装置还具有用于提取扇形光的传感器阵列（11）。传感器阵列（11）、光源（20）以及用于分散分析光（4）的工具被布置为外壳中的紧凑单元。

公开(公告)号：CN1117285C

公开(公告)日：2003-08-06

申请号：CN00133647.9

申请日：2000-11-30

Applicant: 株式会社岛津制作所

Inventor： 小枝胜 ,  田中裕次 ,  副岛章雄

IPC: G02B5/18

CPC classification number: G03F7/0005 ,  G01J3/1838 ,  G03H1/0244 ,  G03H1/028 ,  G03H2001/0296 ,  G03H2260/63

Abstract: 一种全息光栅，其中相对在光致抗蚀层2上，按照大于所需槽的深度的值通过曝光方式形成的衍射光栅图形，沿与抗蚀图形的刻线方向相垂直，并且相对主板的法线方向的斜上的方向，借助按照O2/(CF4+O2)在0.1～0.9的比例范围而适当混合的CF4与O2的混合气体，进行蚀刻处理，直至光致抗蚀层2完全消失，直接在光学玻璃主板1上，刻线而形成所需深度的槽。该全息光栅具有耐久性，漫射光值优良，衍射效率较高，并且较宽波段的衍射变化较小。