公开(公告)号：CN101587815A

公开(公告)日：2009-11-25

申请号：CN200810111942.1

申请日：2008-05-19

申请人： 同方威视技术股份有限公司

发明人： 陈志强 ,  李元景 ,  彭华 ,  张清军 ,  林津 ,  毛绍基 ,  代主得 ,  曹士娉 ,  张仲夏 ,  张阳天 ,  林德旭 ,  王清华 ,  王少锋 ,  李徽

IPC分类号： H01J49/10 ,  H01J37/08 ,  H01J27/02 ,  H01J49/40

CPC分类号： H01J49/14 ,  H01J27/20

摘要： 公开了一种离子源，包括：板状的源体，所述源体在两个侧面都具有放射性；并且所述源体形成为允许正负离子穿越源体。本发明的离子源结构能够增强样品分子的电离效率，形成的样品离子集中分布在源体两侧的扁平空间内，这种离子云分布有利于提高IMS的灵敏度。另外，由于源体本身具有一定的透过率，在源体两侧产生的正负离子可以穿过源体，被分离到源体的两侧，因此能够有效地提高离子的利用效率。

公开(公告)号：CN1461036A

公开(公告)日：2003-12-10

申请号：CN03136854.9

申请日：2003-05-23

申请人： 日新电机株式会社

发明人： 木山俊昭

IPC分类号： H01J27/02 ,  H01J37/08

CPC分类号： H01J27/04 ,  H01J27/20

摘要： 在一种离子源中，支承体以离子源凸缘为基础支承用于产生等离子体的等离子体产生室，在支承体内具有一空腔，该空腔设置在从等离子体产生室附近的一个位置到离子源凸缘附近的一个位置的范围内。所述空腔用作冷却介质通道，将冷却介质导入所述等离子体产生室附近的一个位置，从而冷却该等离子体产生室。所述等离子体产生室在离其很近的位置被冷却介质冷却。因此，等离子体产生室在产生等离子体时保持低温状态。