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公开(公告)号：CN222394213U
公开(公告)日：2025-01-24
申请号：CN202421285275.X
申请日：2024-06-06
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 本实用新型涉及显微镜技术领域，具体为一种共聚焦显微镜成像设备，包括底座以及设置在底座上表面的共聚焦显微镜本体，所述底座的侧面固设有安装板，且所述安装板的侧面设置有用于对共聚焦显微镜本体进行防护的防护机构；所述防护机构包括滑动设置在安装板侧面的透明防护罩，所述安装板的侧面开设有矩形槽，且矩形槽的内顶壁和内底壁转动设置有螺纹柱。本实用新型通过设置防护机构，使该共聚焦显微镜成像设备的共聚焦显微镜本体在使用完毕后，能够通过驱动电机的转动带动透明防护罩向下移动，从而实现对共聚焦显微镜本体的有效防护，进而有效的解决了现有技术中存在的无法对使用完毕后的共聚焦扫描显微镜进行有效防护的缺陷。
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公开(公告)号：CN222866552U
公开(公告)日：2025-05-13
申请号：CN202421284157.7
申请日：2024-06-06
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 本实用新型涉及亚表面无损检测设备技术领域，且公开了一种遮挡式暗场共焦亚表面无损检测设备，包括底座。该遮挡式暗场共焦亚表面无损检测设备，通过环形光整形机构、空间光隔离机构和扫描机构的设置，在进行使用时，双光束首先经过反射式准直镜进行准直成为近似平行光，准直之后经过偏振片，调节偏振片让双光束为P光，探测光束之后经过背靠式双锥透镜组完成光束整型，形成环形的高频照明光，经过整形的环形探测光透射通过二向色镜，泵浦光先通过反射镜D，通过二向色镜入射光被反射；双光束通过二向色镜后实现光束同轴，之后一同经过空间光隔离机构使其变为变为右旋圆偏振光，再通过振镜、扫描透镜和管镜进入到物镜中，照射到样品上。
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