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公开(公告)号：CN111095106B
公开(公告)日：2023-07-28
申请号：CN201880056528.7
申请日：2018-08-15
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 通过本发明，可以提供一种图案形成方法及使用该图案形成方法的离子注入方法以及用于上述图案形成方法的层叠体、试剂盒、抗蚀剂下层膜形成用组合物、抗蚀剂组合物及电子器件的制造方法，该图案形成方法包括：(1)在被处理基板上形成抗蚀剂下层膜的工序；(2)利用含有(A)具有选自包括Si原子及Ti原子的组中的原子的树脂的抗蚀剂组合物，在抗蚀剂下层膜上形成抗蚀剂膜的工序；(3)曝光抗蚀剂膜的工序；(4)对经曝光的抗蚀剂膜进行显影而形成抗蚀剂图案的工序；及(5)将抗蚀剂图案作为掩模，对抗蚀剂下层膜进行加工来形成图案的工序，该图案形成方法中，抗蚀剂下层膜的膜厚为2.5μm以上，抗蚀剂膜的膜厚为1μm以下。
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公开(公告)号：CN113260604A
公开(公告)日：2021-08-13
申请号：CN201980086223.5
申请日：2019-12-20
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C07C43/10 , C07C43/11 , C07C43/13 , C07C43/20 , C07C47/04 , C07C47/06 , C07C47/12 , C07C47/14 , C07C47/21 , C07C69/16 , C07C205/44 , C07D335/02 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/20 , C07D303/48 , C07D307/68
Abstract: 本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有作为由特定的通式(1)表示的化合物和由特定的通式(2)表示的化合物中的至少一个的化合物(P)，并且，相对于感光化射线性或感放射线性树脂组合物的总质量，上述化合物(P)的含量为1ppm以上且1000ppm以下，上述化合物(P)的分子量为500以下。
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公开(公告)号：CN111095106A
公开(公告)日：2020-05-01
申请号：CN201880056528.7
申请日：2018-08-15
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 通过本发明，可以提供一种图案形成方法及使用该图案形成方法的离子注入方法以及用于上述图案形成方法的层叠体、试剂盒、抗蚀剂下层膜形成用组合物、抗蚀剂组合物及电子器件的制造方法，该图案形成方法包括：(1)在被处理基板上形成抗蚀剂下层膜的工序；(2)利用含有(A)具有选自包括Si原子及Ti原子的组中的原子的树脂的抗蚀剂组合物，在抗蚀剂下层膜上形成抗蚀剂膜的工序；(3)曝光抗蚀剂膜的工序；(4)对经曝光的抗蚀剂膜进行显影而形成抗蚀剂图案的工序；及(5)将抗蚀剂图案作为掩模，对抗蚀剂下层膜进行加工来形成图案的工序，该图案形成方法中，抗蚀剂下层膜的膜厚为2.5μm以上，抗蚀剂膜的膜厚为1μm以下。
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公开(公告)号：CN110914757A
公开(公告)日：2020-03-24
申请号：CN201880047273.8
申请日：2018-07-23
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够形成可抑制离子注入工序中的离子泄漏的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。还提供一种使用了上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜及图案形成方法。并且提供一种利用了上述图案形成方法的固体摄像元件的制造方法。所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物在离子注入工序中用于形成用作掩模的图案，该组合物包含：树脂，包含具有酸分解性基团的重复单元；光产酸剂；及添加剂，熔点或玻璃化转变温度小于25℃，并且分子量为180以上，上述添加剂的含量相对于组合物中的总固体成分为1质量％以上。
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