公开(公告)号：CN101918615A

公开(公告)日：2010-12-15

申请号：CN200880124590.1

申请日：2008-12-26

申请人： 栗田工业株式会社

发明人： 内田稔 ,  永井达夫 ,  金森春一

IPC分类号： C25B1/30 ,  C25B11/12 ,  H01L21/304

CPC分类号： C25B1/285 ,  G03F7/423

摘要： 极力防止电极的损耗，可高效地进行硫酸溶液等的电解。本发明是一种电解方法，该方法是将电解液通入具备阳极和阴极作为至少一对电极的电解室，对该电极通电，藉此将电解液电解，其中，将所述电解液的粘度控制在与所述通电时的电流密度相对应的范围内来进行所述电解。电流密度在50A/dm2以下时，作为电解液的硫酸溶液的粘度在10cP以下；电流密度超过50A/dm2但在75A/dm2以下时，硫酸溶液的粘度在8cP以下；电流密度超过75A/dm2但在100A/dm2以下时，硫酸溶液的粘度在6cP以下。尤其是在利用金刚石电极以高电流密度电解高浓度硫酸溶液时，可在减少电极损耗的同时以高效率进行电解处理。

公开(公告)号：CN101512725A

公开(公告)日：2009-08-19

申请号：CN200780033165.7

申请日：2007-09-05

申请人： 栗田工业株式会社 ,  大日本网屏制造株式会社

发明人： 永井达夫 ,  森田博志 ,  高桥弘明 ,  内田博章 ,  林豊秀

IPC分类号： H01L21/027 ,  G02F1/13 ,  B08B3/02 ,  H01L21/304 ,  B08B3/08 ,  G11B7/26

CPC分类号： G03F7/423 ,  H01L21/6708

摘要： 本发明提供一种能够从基板很好地去除抗蚀剂，并且能够再利用在该抗蚀剂的去除中使用过的处理液的基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置具有：基板保持装置，其用于保持基板；过硫酸生成装置，其使用硫酸生成过硫酸；混合装置，其对通过所述过硫酸生成装置生成的过硫酸以及与由所述过硫酸生成装置使用的硫酸相比更高温并且更高浓度的硫酸加以混合；以及喷出装置，其将通过所述混合装置混合的过硫酸和硫酸的混合液作为从基板去除抗蚀剂用的处理液，并向保持在所述基板保持装置的基板喷出。