公开(公告)号：CN101512725A

公开(公告)日：2009-08-19

申请号：CN200780033165.7

申请日：2007-09-05

申请人： 栗田工业株式会社 ,  大日本网屏制造株式会社

发明人： 永井达夫 ,  森田博志 ,  高桥弘明 ,  内田博章 ,  林豊秀

IPC分类号： H01L21/027 ,  G02F1/13 ,  B08B3/02 ,  H01L21/304 ,  B08B3/08 ,  G11B7/26

CPC分类号： G03F7/423 ,  H01L21/6708

摘要： 本发明提供一种能够从基板很好地去除抗蚀剂，并且能够再利用在该抗蚀剂的去除中使用过的处理液的基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置具有：基板保持装置，其用于保持基板；过硫酸生成装置，其使用硫酸生成过硫酸；混合装置，其对通过所述过硫酸生成装置生成的过硫酸以及与由所述过硫酸生成装置使用的硫酸相比更高温并且更高浓度的硫酸加以混合；以及喷出装置，其将通过所述混合装置混合的过硫酸和硫酸的混合液作为从基板去除抗蚀剂用的处理液，并向保持在所述基板保持装置的基板喷出。

公开(公告)号：CN101512725B

公开(公告)日：2012-09-05

申请号：CN200780033165.7

申请日：2007-09-05

申请人： 栗田工业株式会社 ,  大日本网屏制造株式会社

发明人： 永井达夫 ,  森田博志 ,  高桥弘明 ,  内田博章 ,  林豊秀

IPC分类号： H01L21/027 ,  G02F1/13 ,  B08B3/02 ,  H01L21/304 ,  B08B3/08 ,  G11B7/26

CPC分类号： G03F7/423 ,  H01L21/6708

摘要： 本发明提供一种能够从基板很好地去除抗蚀剂，并且能够再利用在该抗蚀剂的去除中使用过的处理液的基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置具有：基板保持装置，其用于保持基板；过硫酸生成装置，其使用硫酸生成过硫酸；混合装置，其对通过所述过硫酸生成装置生成的过硫酸以及与由所述过硫酸生成装置使用的硫酸相比更高温并且更高浓度的硫酸加以混合；以及喷出装置，其将通过所述混合装置混合的过硫酸和硫酸的混合液作为从基板去除抗蚀剂用的处理液，并向保持在所述基板保持装置的基板喷出。

公开(公告)号：CN103367110A

公开(公告)日：2013-10-23

申请号：CN201210359233.1

申请日：2012-09-24

申请人： 大日本网屏制造株式会社

发明人： 高桥弘明

IPC分类号： H01L21/02 ,  H01L21/67

CPC分类号： H01L21/02054 ,  H01L21/6704 ,  H01L21/67051

摘要： 本发明提供一种基板处理方法和基板处理装置，基板处理方法包括：冲洗工序，对硅基板的表面供给第一温度的水，利用该水对所述硅基板的表面实施冲洗处理；第二温度水供给（涂敷）工序，在所述冲洗工序之后，对所述硅基板的表面供给比所述第一温度低的第二温度的水；干燥工序，在所述第二温度水供给工序之后，使所述硅基板旋转，从而将该硅基板的表面的水甩向硅基板的周围，使所述硅基板干燥。