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公开(公告)号：CN110274326B
公开(公告)日：2021-04-27
申请号：CN201810222632.0
申请日：2018-03-16
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种日间辐射制冷器及其制备方法，日间辐射制冷器包括基板，所述基板的底面上设有反射层，所述基板的顶面上依次设有中间层和顶层；所述中间层包括交替设置的低折射率层和高折射率层；所述低折射率层的材料为二氧化钛或氧化铝；所述高折射率层的材料为二氧化硅、氮化硅或碳化硅；所述顶层的材料为氟化镁或硫化锌。本发明的日间辐射制冷器通过薄膜辐射特定波段电磁波能量的方式实现日间辐射制冷，其结构简单，制备成本低，适合大规模生产。
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公开(公告)号：CN112114389A
公开(公告)日：2020-12-22
申请号：CN202010492544.X
申请日：2020-06-03
Applicant: 江苏万新光学有限公司 , 浙江大学
Abstract: 本发明提供了一种隔热增透膜及其制备方法和应用，所述隔热增透膜包括：依次排列的全介质减反膜系1、复合近红外反射膜系以及全介质减反膜系2；其中，所述复合近红外反射膜系由近红外反射膜和包裹在所述近红外反射膜两侧的全介质过渡膜组成。本发明获得的隔热增透膜实现了对于近红外波段的隔热效果，保护仪器工作或人眼免受热量堆积的干扰，大幅提高相应镜片或元件的使用寿命，同时实现了膜层的可见光高透过性，成本低廉，制备工艺简便，具有广泛的应用价值。
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公开(公告)号：CN110274326A
公开(公告)日：2019-09-24
申请号：CN201810222632.0
申请日：2018-03-16
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种日间辐射制冷器及其制备方法，日间辐射制冷器包括基板，所述基板的底面上设有反射层，所述基板的顶面上依次设有中间层和顶层；所述中间层包括交替设置的低折射率层和高折射率层；所述低折射率层的材料为二氧化钛或氧化铝；所述高折射率层的材料为二氧化硅、氮化硅或碳化硅；所述顶层的材料为氟化镁或硫化锌。本发明的日间辐射制冷器通过薄膜辐射特定波段电磁波能量的方式实现日间辐射制冷，其结构简单，制备成本低，适合大规模生产。
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公开(公告)号：CN108469645A
公开(公告)日：2018-08-31
申请号：CN201810348223.5
申请日：2018-04-18
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种偏振滤光元件，包括基底，所述基底上依次设有介质膜层和金属线栅；所述介质膜层由高、低折射率材料层交替设置而成；所述的高折射率材料层的材料选自二氧化钛、二氧化铪、五氧化二钽、氮化硅、硫化锌；所述的低折射率材料层的材料选自二氧化硅、三氧化二铝、氟化镁或其他氟化物；介质膜层中，各层厚度为10～220nm；所述的金属线栅的材料选自金、银、铝、铜或其合金。本发明还公开了该偏振滤光元件的制备方法。本发明的偏振滤光元件整体结构紧凑、制备过程简单，成本低，便于大规模、批量化生产。因此该发明的偏振滤光元件有望在显示等领域广泛应用。
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公开(公告)号：CN103592715B
公开(公告)日：2016-02-10
申请号：CN201310505263.3
申请日：2013-10-23
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种基于多孔氧化铝的彩色滤光片的制备方法，包括：通过等效层的方法，设计出与之对应的多孔氧化铝孔径和高折射率氧化物厚度；将洁净的铝箔电解抛光；阳极氧化；在有序排列的多孔氧化铝上通过原子层沉积填充不同厚度的高折射率氧化物；在经原子层沉积的多孔氧化铝上镀一层金属层，即可制备。本发明制备的基于多孔氧化铝的彩色滤光片，与传统的彩色滤光片不同，它利用的是光学干涉的原理，通过在不同的多孔氧化铝孔径中填充不同厚度的高折射率氧化物，使得中间介质层的等效光学厚度发生改变，从而调控不同颜色，制备出不同中心波长的彩色滤光片。本发明方法制备简单，成本低，便于大规模、批量化生产。
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：CN103744138A
公开(公告)日：2014-04-23
申请号：CN201310689440.8
申请日：2013-12-13
Applicant: 浙江大学
CPC classification number: G02B5/207 , G02B1/02 , G02B5/1819 , G02B5/201
Abstract: 本发明公开了一种入射角不敏感的颜色滤光片，包括基底，所述的基底上布置有若干圆柱形的光栅，所述光栅以正六边形排列，光栅材料为硅，基底材料为熔融石英。本发明还公开了上述滤光片的制备方法。本发明的入射角不敏感颜色滤光片，与传统的化学滤光片和传统的干涉滤光片不同，它采用二维光栅的结构，利用光栅层中产生的巨大的折射率差别，通过高低折射率差区域之间的耦合产生谐振，从而达到入射角不敏感的滤光效果。本发明入射角不敏感的颜色滤光片的制备方法，制备简单，成本低，便于大规模、批量化生产。因此该发明有望在液晶显示、彩色印刷、传感探测和防伪等领域广泛应用。
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公开(公告)号：CN102703880B
公开(公告)日：2014-01-15
申请号：CN201210197619.7
申请日：2012-06-12
Applicant: 浙江大学
IPC: C23C16/44
Abstract: 本发明公开了一种利用原子层沉积制备高精度光学宽带抗反射多层膜的方法，包括：1）利用原子层沉积技术，在基材上沉积第一折射率层，测得不同循环次数下的第一折射率层的厚度，并计算相应的生长速率，绘制成速率曲线；2）通过速率曲线确定稳态速率，找出过渡区的划分点，并得到该过渡区的划分点所对应的循环次数和生长速率，该循环次数和该生长速率的乘积为预沉积层厚度基准；3）在宽带抗反射多层膜初始膜系和基材之间引入一层预沉积层，并进行优化；4）利用原子层沉积技术，在新的基材按厚度优化值先沉积预沉积层，再交替沉积第二折射率层和第一折射率层，制备得到高精度光学宽带抗反射多层膜，精度极高，抗反射性能优异。
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公开(公告)号：CN101221261B
公开(公告)日：2011-06-29
申请号：CN200810059042.7
申请日：2008-01-07
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种微型超光谱集成滤光片及其制作方法。它以熔融石英或者玻璃等为光学基板，由各个尺度在微米量级且光学特性各异的滤光片在基板上二维排列构成。本发明的超光谱集成滤光片基于光学薄膜干涉原理，通过交替进行高低折射率材料真空蒸镀和半导体干法刻蚀，并由刻蚀自停止薄膜控制刻蚀深度，从而实现不同特性的滤光片在同一基板上的集成。利用半导体工艺的刻蚀和自停止技术，实现了单个元件小于20微米且光学特性可独立设计的超光谱集成滤光片。本发明制作工艺简单、体积小，可与光学成像传感器结合，构成高分辨率、轻便紧凑的成像光谱仪，在大汽、海洋、空间探测、以及医疗诊断中有广泛的应用。
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公开(公告)号：CN101560653A
公开(公告)日：2009-10-21
申请号：CN200910098784.5
申请日：2009-05-14
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种梯度折射率薄膜的制备方法。它包括如下步骤：1)将高、低折射率材料前驱体分别放入反应前驱体容器；2)加热衬底，抽真空，开启镀膜机；3)沉积低折射率膜层；4)沉积高折射率膜层；5)交替沉积形成梯度折射率薄膜。本发明与现有技术相比具有的有益效果：1)本发明使用原子层沉积技术，通过控制两种材料的沉积工艺参数实现不同的折射率子层；2)采用交替沉积的方式，控制循环次数，工艺控制简单；3)两种膜料分别是高、低折射率膜料，沉积温度要相近；4)沉积子层的折射率可以是高、低折射率之间的任意折射率值；5)折射率子层是混合膜层，折射率大小可以通过控制交替沉积的两种膜料沉积比例控制。
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