公开(公告)号：CN103913856A

公开(公告)日：2014-07-09

申请号：CN201310718141.2

申请日：2013-12-23

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 五味二夫 ,  樱井和德

IPC: G02F1/01 ,  G09G3/00

CPC classification number: G09G5/02 ,  G06F1/1601 ,  G09G2320/0693 ,  G09G2360/144 ,  G09G2360/145

Abstract: 本发明提供了图像显示装置，其具备：显示部，显示图像；测光部（30），具有使从入射光透过规定波长的光的波长可变干涉滤波器（5）以及检测被分光的光的光传感器（33），测光部与显示部相对配置；以及控制部，控制显示部及测光部（30），控制部基于由光传感器（33）检测到的光的光量取得入射光的光谱，并基于该光谱，进行显示部的颜色修正。

公开(公告)号：CN100593841C

公开(公告)日：2010-03-10

申请号：CN200410047677.7

申请日：2004-05-26

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 五味二夫

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/306 ,  H01L21/3213 ,  H05K3/00 ,  G03F7/30

CPC classification number: G03F7/30 ,  G03F7/3042 ,  H05K1/0393 ,  H05K3/0073 ,  H05K3/0085 ,  H05K3/064 ,  H05K3/068 ,  H05K2203/1545

Abstract: 本发明涉及药液处理装置、药液处理方法及电路基板的制造方法。其中，将盖子(3)漂浮配置在被药液槽(1)贮存的药液(5)上，使带状基板(7)穿过开口部(4a、4b)，通过盖子(3)将带状基板(7)浸泡在药液(5)中，在将带状基板(7)浸泡在药液(5)中的状态下，一边通过滚轴(6a～6d)输送带状基板(7)，一边对带状基板(7)进行药液处理。从而既可防止药液的液面暴露在空气中，又可以进行药液处理。

公开(公告)号：CN1133902C

公开(公告)日：2004-01-07

申请号：CN97190887.7

申请日：1997-07-03

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 五味二夫

IPC: G03F7/30

CPC classification number: G03F7/30

Abstract: 本发明的课题是提供提高刻蚀技术中抗蚀剂的显影图形的精度，避免操作的迟缓和烦杂的显影方法以及显影装置。本发明的显影装置具有积存显影液(22)的显影容器(20)，把被涂敷了光抗蚀剂和被曝光了的挠性薄膜(12)引导到显影容器(20)内使其浸泡在显影液(22)中的导向装置(14，16)，从排放口(28a)把由显影液(22)产生的液压加到浸泡在显影液(22)中的挠性薄膜(12)上的泵(26)。

公开(公告)号：CN1440057A

公开(公告)日：2003-09-03

申请号：CN03103718.6

申请日：2003-02-17

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 五味二夫

IPC: H01L21/48 ,  H01L21/60 ,  H05K3/00

Abstract: 一种电路板的制造方法，包括向基板(10)表面供给液体(22)，并除去基板(10)表面上的液体(22)的至少一部分的工序，在除去液体(22)的工序中，相对于基板(10)，移动与上述基板各表面接触的一对滚子而除去上述液体(22)。利用上述电路板的制造方法除去液体，能够制造高可信度产品。

公开(公告)号：CN1197518A

公开(公告)日：1998-10-28

申请号：CN97190887.7

申请日：1997-07-03

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 五味二夫

IPC: G03F7/30

CPC classification number: G03F7/30

Abstract: 本发明的课题是提供提高刻蚀技术中抗蚀剂的显影图形的精度,避免操作的迟缓和烦杂的显影方法以及显影装置。本发明的显影装置具有积存显影液(22)的显影容器(20),把被涂敷了光抗蚀剂和被曝光了的挠性薄膜(12)引导到显影容器(20)内使其浸泡在显影液(22)中的导向装置(14,16),从排放口(28a)把由显影液(22)产生的液压加到浸泡在显影液(22)中的挠性薄膜(12)上的泵(26)。