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公开(公告)号：CN100474101C
公开(公告)日：2009-04-01
申请号：CN200710039274.1
申请日：2007-04-10
申请人： 苏州苏大维格数码光学有限公司 , 苏州大学
摘要： 本发明公开了一种具有像面全息结构的投影屏，其特征在于：在投影屏幕主体上附着有像面全息信息，所述像面全息信息为在投影屏幕的竖直方向上带有延展趋势的散斑结构，定义组成散斑的微小衍射颗粒结构在竖直方向为长径L，在水平方向为短径W，则1.5W≤L≤10W。本发明同时公开了采用二步成像法制备所述投影屏的方法。本发明的投影屏具有高亮、清晰及透明的特点，对环境的要求不高，适合高端的消费场所使用；也适合追求时尚的人士做家庭影院使用。
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公开(公告)号：CN101377555A
公开(公告)日：2009-03-04
申请号：CN200810156773.3
申请日：2008-09-26
申请人： 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
摘要： 本发明公开了一种亚波长埋入式光栅结构偏振片，包括透明基底、介质光栅、第一金属层、第二金属层，所述介质光栅具有周期性间隔设置的脊部和沟槽，所述第一金属层覆盖于介质光栅的脊部，所述第二金属层覆盖于介质光栅的沟槽中，介质光栅的周期小于入射光波长，其特征在于：在所述第一金属层和第二金属层的顶部上表面覆盖有介质覆盖层，在所述透明基底和介质光栅之间设有高折射率介质层，所述高折射率介质层的折射率在1.6至2.4之间。介质覆盖层既可以对偏振片的透射效率起调制作用，又可以起到保护金属层的作用，防止金属层被氧化和在集成过程中被破坏；在整个可见光波段，该偏振片具有高透射效率、高消光比、宽广的入射角度范围。
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公开(公告)号：CN101279555A
公开(公告)日：2008-10-08
申请号：CN200810123712.7
申请日：2008-05-30
申请人： 苏州苏大维格数码光学有限公司
摘要： 本发明公开了一种激光数码彩绘的方法，包括：(1)将包含有信息层的热转印薄膜贴合在被彩绘的材料表面；(2)调整光学头和被彩绘的材料的相对位置，使激光束照射位置对准绘制像素位置；(3)开启激光束，瞬间加热使得材料表面上的热转印薄膜的信息层融解脱落而吸附在被彩绘的材料上；(4)根据预先设定的图形像素位置数据，重复步骤(2)和(3)，直至完成该种信息层的绘制；(5)更换包含有另一种信息层的热转印薄膜，重复步骤(1)至(4)，直至完成所有信息层的绘制，即实现了所需激光数码彩绘。该方法具有控制灵活，图形精度高、彩绘效果好，尤其能彩绘出具有金属质感的光学可变图形等优点，适合数码印刷、防伪和纺织行业的数码激光彩绘应用。
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公开(公告)号：CN101135776A
公开(公告)日：2008-03-05
申请号：CN200710153957.X
申请日：2007-09-13
申请人： 苏州苏大维格数码光学有限公司 , 苏州大学
摘要： 本发明公开了一种衍射变色激光打标方法及其装置，采用大功率半导体泵浦固体激光器作为光源，激光束满足干涉要求，由分束元件产生分束光，通过光学透镜组将光点会聚到材料表面，形成均匀干涉条纹光场，在材料表面位置激光功率密度超过材料损伤阈值，以形成干涉条纹刻蚀，通过扫描控制，实现衍射光变色图形的打标。所述的装置，采用由光源、光束整形器和干涉光学系统构成的干涉型光学头，形成的干涉条纹光场位于放置在所述运动平台的待打标材料表面。本发明可以避免陨石坑效应，提高图像的分辨率；获得衍射变色的激光打标图样。
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公开(公告)号：CN1821883A
公开(公告)日：2006-08-23
申请号：CN200610037797.8
申请日：2006-01-12
申请人： 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
摘要： 本发明公开了一种对光滑表面进行光刻蚀的方法，采用大功率激光器作为光源，将激光束准直成平行光，经过光阑及透镜后，由分束元件产生分束光束，再会聚到材料表面，形成均匀干涉条纹光场，在光滑表面材料上进行超过材料损伤阈值的光蚀实现图像制作，其特征在于：所述光源采用紫外光输出的大功率二极管泵浦的固态激光器的三倍频或四倍频，所述光阑为可调矩形光阑，在同一位置进行单次脉冲加工，控制激光器的功率，使得在干涉条纹的光强相长处材料发生气化，在材料表面形成条纹结构。并以此制作方法实现微米级条纹高速激光光蚀系统，从而使得激光微米级光栅图像的加工进入真正意义上的工业化应用阶段，是一种微米级结构的先进制造技术。
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公开(公告)号：CN1786823A
公开(公告)日：2006-06-14
申请号：CN200510095777.1
申请日：2005-11-17
申请人： 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
摘要： 本发明公开了一种消色差光变图像的制作方法，构建定向散斑生成器，以不同取向的狭缝光阑作为目标物光场，采用迭代傅里叶变换算法计算得到的具有定向衍射特性的二元位相结构，作为光变图像的微结构；根据所需生成的光变图像，用上述定向散斑生成器进行数字化表达，获得光变图像的散斑位相结构；通过空间光调制器，用激光成像系统进行激光直写，获得所需的消色差光变图像。本发明不需要利用干涉等方法来获取散斑，可以利用激光成像系统直写出散斑结构的光变图像，分辨率高，实现了消色差的精密光变图像设计与制作；同时，其适合于热压复制工艺，为制造消色差微光变图像提供了一种新方法。
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公开(公告)号：CN100495215C
公开(公告)日：2009-06-03
申请号：CN200610037797.8
申请日：2006-01-12
申请人： 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
摘要： 本发明公开了一种对光滑表面进行光刻蚀的方法，采用大功率激光器作为光源，将激光束准直成平行光，经过光阑及透镜后，由分束元件产生分束光束，再会聚到材料表面，形成均匀干涉条纹光场，在光滑表面材料上进行超过材料损伤阈值的光蚀实现图像制作，其特征在于：所述光源采用紫外光输出的大功率二极管泵浦的固态激光器的三倍频或四倍频，所述光阑为可调矩形光阑，在同一位置进行单次脉冲加工，控制激光器的功率，使得在干涉条纹的光强相长处材料发生气化，在材料表面形成条纹结构。并以此制作方法实现微米级条纹高速激光光蚀系统，从而使得激光微米级光栅图像的加工进入真正意义上的工业化应用阶段，是一种微米级结构的先进制造技术。
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公开(公告)号：CN101290371A
公开(公告)日：2008-10-22
申请号：CN200810123710.8
申请日：2008-05-30
申请人： 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
摘要： 本发明公开了一种亚波长光栅结构偏振片，包括透明基底、介质光栅、第一金属层和第二金属层，所述介质光栅具有周期性间隔设置的脊部和沟槽，所述第一金属层覆盖于介质光栅的脊部，所述第二金属层覆盖于介质光栅的沟槽中，介质光栅的周期小于入射光波长，其特征在于：在所述透明基底和介质光栅之间，设有高折射率介质层，所述高折射率介质层的折射率在1.6至2.4之间。通过在透明基底和介质光栅之间增加高折射率介质层，提高了偏振片的TM光的透射效率和消光比。在整个可见光波段，该偏振片具有高透射效率、高消光比、宽广的入射角度范围。在工艺上，采用纳米压印技术加工制作，制作过程简便易操作，不需要刻蚀工艺，降低了加工成本。
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公开(公告)号：CN101161400A
公开(公告)日：2008-04-16
申请号：CN200710135195.0
申请日：2007-11-13
申请人： 苏州维旺科技有限公司 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
摘要： 本发明公开了一种制作导光板模仁的方法，根据导光均匀性的要求，在基材表面制备形成导光网点结构，其特征在于：所述基材为具有光滑表面的金属基材，所述导光网点结构的制备方法是，利用大功率脉冲激光器经整形光路聚焦于金属基材表面，直接刻蚀形成所需的导光网点结构，即获得用于射出成型或压印的导光板模仁；同时，利用制得的模仁作为母板，通过电铸工艺进行复制，制得适合导光板制作所需的凹型或凸型模仁。本发明不需要光阻剂涂布、曝光、显影等工艺，直接在光滑金属基板表面刻蚀，制作高精度导光模仁，整个工艺流程简便，制作精度高，大大缩短了制作周期，简化了工艺过程，降低了成本，具有更快的市场反应能力。
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公开(公告)号：CN100371771C
公开(公告)日：2008-02-27
申请号：CN200610038417.2
申请日：2006-02-16
申请人： 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
IPC分类号： G02B27/42
摘要： 本发明公开了一种消色差变色银衍射图像的制作方法，包括下列步骤：(1)制备一种二元光学元件，其远场衍射光场是一条狭缝；(2)构建一个4F光学系统，将步骤(1)获得的二元光学元件放置在其变换平面上，作为分束元件，使得入射光被分成两个条形光场，经透镜组成像后，在记录材料表面形成一个散斑干涉图像单元；(3)改变光学系统与记录材料的相对位置，在记录材料上分别记录对应的条形散斑干涉图像单元，获得消色差变色银衍射图像。本发明同时提供了实现该方法的装置。本发明提供了一种简单、快速、成本低、加工面积大的条形散斑制作方法，使消色差变色银衍射图像进入实用，可以替代现有的银色喷涂技术而实现类似的金属银效果，以解决环保问题。
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